[發明專利]觸控面板及其制造方法、觸控顯示裝置

有效

• 申請號: 201810040657.9
• 申請日: 2018-01-16
• 公開（公告）號: CN108196738B
• 公開（公告）日: 2021-09-03
• 發明（設計）人: 周剛;楊小飛;楊慧光
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044;H01L21/77;G02F1/1333
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 滕一斌

1.一種觸控面板，其特征在于，所述觸控面板包括：基板，

所述基板上設置有觸控電極，所述觸控電極遠離所述基板一側的表面為第一表面，所述觸控電極靠近所述基板一側的表面為第二表面；

所述第二表面在所述基板上的正投影區域位于所述第一表面在所述基板上的正投影區域內，且所述第二表面的面積小于所述第一表面的面積；

所述基板上的第一區域內的表面為凹凸表面，所述第一區域為所述基板上除所述觸控電極覆蓋的第二區域之外的區域；

所述基板上的所述第一區域的表面設置有干刻圖案，所述干刻圖案的存在使所述第一區域的表面為凹凸表面，所述干刻圖案的形狀為條紋狀；

在形成所述觸控電極時，在所述基板上形成電極材料層，在所述凹凸表面上的所述電極材料層與所述凹凸表面之間存在間隙，在刻蝕觸控電極材料層時，刻蝕液通過所述間隙對所述觸控電極材料層進行刻蝕，使得所述觸控電極材料層靠近所述基板一側的刻蝕程度較大，使得形成的觸控電極中靠近所述基板一側的表面小于遠離所述基板一側的表面，所述觸控電極的側面背向觸控顯示裝置的顯示側。

2.根據權利要求1所述的觸控面板，其特征在于，所述第一表面的中心在所述基板上的正投影與所述第二表面的中心在所述基板上的正投影重合。

3.一種觸控面板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在基板上形成第一光刻膠層；

對第一光刻膠層進行曝光和顯影以得到第一光刻膠圖案；

所述第一光刻膠圖案包括：第一光刻膠區域和第一光刻膠完全去除區域，所述第一光刻膠完全去除區域在所述基板上的正投影區域為第一區域；

采用干刻工藝對所述第一光刻膠完全去除區域對應的所述基板的表面進行處理，以在所述第一區域的表面形成干刻圖案；

剝離所述第一光刻膠圖案，所述干刻圖案的存在使所述第一區域的表面為凹凸表面，所述干刻圖案的形狀為條紋狀；

所述第一區域為所述基板上除待覆蓋觸控電極的第二區域之外的區域；

在所述基板上的所述第二區域內形成所述觸控電極，在形成所述觸控電極時，在所述基板上形成電極材料層，在所述凹凸表面上的所述電極材料層與所述凹凸表面之間存在間隙，在刻蝕觸控電極材料層時，刻蝕液通過所述間隙對所述觸控電極材料層進行刻蝕，使得所述觸控電極材料層靠近所述基板一側的刻蝕程度較大，使得形成的觸控電極中靠近所述基板一側的表面小于遠離所述基板一側的表面，所述觸控電極的側面背向觸控顯示裝置的顯示側。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述在所述基板上的所述第二區域內形成所述觸控電極，包括：

在具有所述凹凸表面的所述基板上形成電極材料層；

在形成有所述電極材料層的基板上形成第二光刻膠層；

對所述第二光刻膠層進行曝光和顯影以得到第二光刻膠圖案，所述第二光刻膠圖案包括：第二多個光刻膠區域和第二光刻膠完全去除區域，所述第二光刻膠完全去除區域在所述基板上的正投影區域位于所述第一區域內，且所述第二光刻膠完全去除區域的面積小于所述第一區域的面積；

采用刻蝕工藝對所述第二光刻膠完全去除區域對應的所述電極材料層進行處理，以得到所述觸控電極；

剝離所述第二光刻膠層。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述采用刻蝕工藝對所述第二光刻膠完全去除區域對應的所述電極材料層進行處理的時長范圍為10秒至100秒。

6.一種觸控顯示裝置，其特征在于，所述觸控顯示裝置包括權利要求1或2任一所述的觸控面板。