[發(fā)明專利]基板處理裝置及基板處理裝置的異常狀況檢測方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810027976.6 | 申請日: | 2018-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN108305843B | 公開(公告)日: | 2022-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 辻雅夫;池田文彥 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社斯庫林集團(tuán) |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/677;H01L21/66 |
| 代理公司: | 隆天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 向勇;崔炳哲 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 異常 狀況 檢測 方法 | ||
本發(fā)明涉及基板處理裝置及基板處理裝置的異常狀況檢測方法,在以浮起狀態(tài)搬運基板的基板處理裝置中,適當(dāng)?shù)亻_始進(jìn)行異常狀況檢測。該基板處理裝置具有:檢測部,沿著基板的上表面,射出向與搬運方向相交的方向行進(jìn)的射束,根據(jù)檢測到的射束的強(qiáng)度變化檢測基板的異常狀況;遮擋部,與搬運部一體移動且橫穿射束行進(jìn)路徑來暫時遮擋射束。與遮擋部一體移動的保持部位,以使搬運方向上的基板的前端部向保持部位的搬運方向上的下游側(cè)突出的方式,與基板的下表面局部抵接來保持基板,從前端部到達(dá)射束的行進(jìn)路徑之前到前端部到達(dá)射束的行進(jìn)路徑時為止,遮擋部連續(xù)遮擋射束。在基板中的保持部位所抵接的部位到達(dá)射束的行進(jìn)路徑之前,遮擋部結(jié)束遮擋射束。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種一邊對基板從下方提供浮力來使該基板浮起一邊搬運該基板的基板處理裝置中的異常狀況檢測。此外,上述基板包括半導(dǎo)體基板、光掩模用基板、液晶顯示用基板、有機(jī)EL(Electro Luminescence:電致發(fā)光)顯示用基板、等離子顯示用基板、FED(Field Emission Display,場致發(fā)射顯示器)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板等。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體裝置、液晶顯示裝置等電子部件等的制造工序中的搬運基板的技術(shù)中,在從基板的下方向基板提供浮力來使該基板浮起的狀態(tài)下,進(jìn)行搬運。這樣的浮起搬運技術(shù)具有如下等優(yōu)點:以非接觸方式進(jìn)行搬運,從而抑制來自機(jī)構(gòu)部件的污染;能夠一邊通過控制浮力來補(bǔ)正基板的彎曲,一邊以水平姿勢進(jìn)行搬運。因此,例如在大型基板的表面形成均勻的涂敷膜的基板處理裝置中,存在應(yīng)用該技術(shù)的例子。
例如在日本特開2011-192697號公報(專利文獻(xiàn)1)所記載的基板處理裝置中,在水平的浮起載物臺上使基板浮起,并且使保持基板的周邊部的夾具沿著水平方向行進(jìn)來搬運基板。而且,從配置于基板搬運路徑的上方的狹縫噴嘴噴出涂敷液,從而在基板的上表面形成涂敷液的均勻的膜。
在該現(xiàn)有技術(shù)的基板處理裝置中,設(shè)置有用于檢測搬運的基板的異常狀況的機(jī)構(gòu)。具體而言,在搬運方向上的基板的側(cè)方,設(shè)置有:沿著基板的上表面射出光束的投光部;在隔著基板的相反的一側(cè)接收光束的受光部。被檢測的基板的異常狀況為,附著于基板的上表面的異物、例如因附著于基板的下表面?zhèn)鹊漠愇锒鸬幕宓纳媳砻娴穆∑鸬取z測由于光束的遮擋量因基板上的異物、基板的隆起部分而增加而產(chǎn)生的受光光量的降低,檢測異常狀況。
作為這樣的異常狀況檢測技術(shù),除此而外,例如日本特開2007-173521號公報(專利文獻(xiàn)2)也存在記載。專利文獻(xiàn)2所記載的基板處理裝置,在將基板載置在載物臺上的狀態(tài)下搬運基板,而并不是將基板以浮起狀態(tài)搬運。然而,與上面同樣地,具有利用光學(xué)方式檢測基板的異常狀況的結(jié)構(gòu)。在該技術(shù)中,在基板的前端部附近設(shè)置有遮擋板。這樣,避免由于基板的前端部遮擋光束而產(chǎn)生的光量變化被誤判斷為異常狀況的情況,能夠恰當(dāng)?shù)亻_始進(jìn)行異常狀況檢測。即,在光束被遮擋板遮擋的期間,基板的前端部到達(dá)光束的行進(jìn)路徑,因此,不會將基板開始遮擋的情況,檢測為光量向減少方向發(fā)生變化。
專利文獻(xiàn)1所記載的技術(shù),在基板連續(xù)地通過光束的行進(jìn)路徑的狀態(tài)下有效地發(fā)揮作用,但是并未考慮:基板的前端部開始遮擋光束時的光量變化的處理。為了解決該問題,例如考慮適用專利文獻(xiàn)2所記載的技術(shù)思想。然而,專利文獻(xiàn)2所記載的技術(shù),將以基板緊貼于牢固的載物臺的狀態(tài)搬運基板的情況,作為前提。因此,不能夠直接適用于:在基板的位置、姿勢控制中難以期待同等的穩(wěn)定性的、浮起狀態(tài)下的搬運系統(tǒng)。像這樣,在將浮起狀態(tài)下的基板搬運作為前提時,難以確定:尤其能夠在基板的前端部分恰當(dāng)?shù)亻_始進(jìn)行異常狀況檢測的技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述課題而提出的,其目的在于提供一種技術(shù),在以浮起狀態(tài)搬運基板的基板處理裝置中,能夠恰當(dāng)?shù)亻_始進(jìn)行異常狀況檢測。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社斯庫林集團(tuán),未經(jīng)株式會社斯庫林集團(tuán)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810027976.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:基板處理方法以及基板處理裝置
- 下一篇:熱處理裝置和溫度控制方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





