[發明專利]版圖差異的量化分析方法

在審

• 申請號: 201810024850.3
• 申請日: 2018-01-11
• 公開（公告）號: CN108170831A
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發明（設計）人: 馮佳計;金曉亮;袁春雨;伍思昕
• 申請（專利權）人: 上海華虹宏力半導體制造有限公司
• 主分類號: G06F17/30
• 分類號: G06F17/30;G06T7/62;G06T7/66
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 戴廣志

本發明公開了一種版圖差異的量化分析方法，步驟1、基于版圖差異圖形，定義并計算得到一組有關差異圖形的特征向量，作為對圖形歸類的衡量標準；步驟2、根據不同項目所需提取相應的量化參數、或多個參量的組合，然后依據量化參數的大小排序，或根據多個參量組合中不同參量的權重組合進行排序，在版圖差異的結果中突出重要性的差異，從而達到量化分析的目的。本發明能夠將相似圖形歸類，并能避免遺漏重要差異結構。

技術領域

本發明涉及半導體集成電路領域，特別是涉及一種版圖差異的量化分析方法。

背景技術

在實際工程中，版圖有時需要局部區域修改，或者版圖軟件的版本變更，或者操作系統的升級，這些都需要比較和分析新舊版圖的差異。然而版圖差異的結果很多，而且往往有相當多的相似結構，這造成了改版版圖的差異評估的困難性。而且工程師很容易在眾多的差異中漏掉關鍵的差異結構。

基于傳統的方法雖然可以定位差異之處的坐標位置及顯示圖形形狀，但還是存在以下問題：

(1)、沒有將相似圖形歸類。如圖形甲(參見圖1)和圖形乙中(參見圖2)的粗實線圖形可以歸為一類，大量相似結構造成評估困難。

(2)、差異報告中沒有給出所需表征圖形差異的量化參量，無法對差異結構的重要性進行排序，需要對所有差異結構逐一檢查，容易遺漏一些重要結構。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種版圖差異的量化分析方法，能夠將相似圖形歸類，并能避免遺漏重要差異結構。

為解決上述技術問題，本發明的版圖差異的量化分析方法，是采用如下技術方案實現的：

步驟1、基于版圖差異圖形，定義并計算得到一組有關差異圖形的特征向量，作為對圖形歸類的衡量標準；

步驟2、根據不同項目所需提取相應的量化參數、或多個參量的組合，然后依據量化參數的大小排序，或根據多個參量組合中不同參量的權重組合進行排序，在版圖差異的結果中突出重要性的差異，從而達到量化分析的目的。

采用本發明的方法，能夠產生如下有益效果：

1、歸并差異的旋轉或鏡像等相似結構，如圖1、2所示的圖形甲、圖形乙中粗實線的兩類圖形，可以歸為一類。

2、根據不同項目定義出量化參量，根據重要性排序，如將差異圖形的量化參量定義為圖形在Y方向上的有效邊長。如圖3所示的圖形丙中粗實線圖形，對差異報告歸類后，報告中的一個差異圖形的量化參量為39，即可以很快知道圖形差異的嚴重程度，避免遺漏重要差異結構。

附圖說明

下面結合附圖與具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明：

圖1是圖形甲示意圖；

圖2是圖形乙示意圖；

圖3是圖形丙示意圖；

圖4是計算圖形面積示意圖；

圖5是計算覆蓋圖形的最小矩形box的面積示意圖；

圖6是計算相對位移的示意圖；

圖7是計算有效邊長示意圖；

圖8是歸類前差異報告中的圖形示意圖；

圖9是歸類后差異報告中的圖形示意圖；

圖10是版圖A圖形示意圖；

圖11是版圖B圖形示意圖；

圖12是版圖C圖形示意圖；

圖13是所述版圖差異的量化分析方法一實施例流程圖。

具體實施方式