[發明專利]基于石墨烯/金屬混合結構的光開關在審
| 申請號： | 201810014194.9 | 申請日： | 2018-01-08 |
| 公開（公告）號： | CN108563040A | 公開（公告）日： | 2018-09-21 |
| 發明（設計）人： | 曹冰;楊松;王欽華;趙恩;劉伊 | 申請（專利權）人： | 蘇州大學 |
| 主分類號： | G02F1/01 | 分類號： | G02F1/01;G02F1/00;G02B5/00 |
| 代理公司： | 佛山粵進知識產權代理事務所(普通合伙) 44463 | 代理人： | 易朝暉 |
| 地址： | 215006*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 石墨烯層 金屬結構層 反射層 石墨烯 襯底 光開關 介質層 電壓源 等離子共振 金屬電極 金屬混合 施加電壓 電容結構 光學性質 影響金屬 結構層 入射光 反射 制作 | ||
1.一種基于石墨烯/金屬混合結構的光開關，其特征在于，包括：
襯底反射層，所述襯底反射層用于反射入射光；
介質層，所述介質層設在所述襯底反射層上；
石墨烯層，所述石墨烯層包括至少一層石墨烯，所述石墨烯層設在所述介質層上，所述襯底反射層、所述介質層和所述石墨烯層構成電容結構；
金屬結構層，所述金屬結構層設在所述石墨烯層上；
金屬電極，所述金屬電極分別設于所述襯底反射層和所述石墨烯層；以及
電壓源，所述電壓源與所述石墨烯層連接，通過所述電壓源向所述石墨烯層施加電壓以影響所述金屬結構層的等離子共振效應。
2.根據權利要求1所述的基于石墨烯/金屬混合結構的光開關，其特征在于，所述襯底反射層為金屬。
3.根據權利要求2所述的基于石墨烯/金屬混合結構的光開關，其特征在于，所述襯底反射層為金、銀或鋁。
4.根據權利要求1所述的基于石墨烯/金屬混合結構的光開關，其特征在于，所述介質層為氧化鋁、氮化硼、氟化鎂或二氧化硅，所述介質層的厚度為0-2um。
5.根據權利要求1所述的基于石墨烯/金屬混合結構的光開關，其特征在于，所述石墨烯層的層數為1-15層。
6.根據權利要求1所述的基于石墨烯/金屬混合結構的光開關，其特征在于，所述電壓源施加的電壓為0-200v。
7.根據權利要求1所述的基于石墨烯/金屬混合結構的光開關，其特征在于，所述金屬結構層的材料為金、銀、鋁、鎳、鉻、鈦和銅中的至少一個或者其合金。
8.根據權利要求7所述的基于石墨烯/金屬混合結構的光開關，其特征在于，所述金屬結構層為金屬光柵，所述金屬光柵的周期為150nm-10μm，占寬比為0.2-0.9，高度為10nm-200nm。
9.根據權利要求8所述的基于石墨烯/金屬混合結構的光開關，其特征在于，其特征在于，所述金屬光柵的形狀為矩形，梯形和正三角形中的至少一個或者其組合。
10.根據權利要求1-9中任一所述的基于石墨烯/金屬混合結構的光開關，其特征在于，所述石墨烯層平鋪于所述介質層上。
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