[發明專利]掩模板及其使用方法、曝光設備

有效

• 申請號: 201810004145.7
• 申請日: 2018-01-03
• 公開（公告）號: CN108169998B
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發明（設計）人: 馬國靖;徐長健;任錦宇
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F1/54
• 分類號: G03F1/54;G02F1/1339
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 劉偉;張博

本發明提供了一種掩模板及其使用方法、曝光設備，屬于顯示技術領域。其中，掩模板，包括：陣列排布的多個掩模單元，每一掩模單元包括遮光狀態和透光狀態；控制單元，用于控制每一所述掩模單元在遮光狀態和透光狀態之間進行切換。通過本發明的技術方案，能夠使得同一掩模板適用于不同顯示產品的封框膠的固化。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是指一種掩模板及其使用方法、曝光設備。

背景技術

現有的液晶顯示器中，彩膜基板和陣列基板通過封框膠封裝在一起。在對封框膠進行固化時，需要使用掩模板對封框膠進行紫外曝光。

液晶顯示器的尺寸和型號多種多樣，對于不同尺寸和不同型號的液晶顯示器來說，需要設計不同的掩模板來對封框膠進行固化。現有技術中，在生產不同型號的顯示產品時，需要更換不同的掩模板來進行紫外曝光，不但操作繁瑣，而且降低了生產效率。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種掩模板及其使用方法、曝光設備，能夠使得同一掩模板適用于不同顯示產品的封框膠的固化。

為解決上述技術問題，本發明的實施例提供技術方案如下：

一方面，提供一種掩模板，包括：

陣列排布的多個掩模單元，每一掩模單元包括遮光狀態和透光狀態；

控制單元，用于控制每一所述掩模單元在遮光狀態和透光狀態之間進行切換。

進一步地，所述掩模單元包括：

容納腔；

位于所述容納腔底部的遮光溶液；

位于所述容納腔頂部的透光氣囊，在所述透光氣囊的體積小于第一閾值時，所述遮光溶液平鋪在所述容納腔底部，所述掩模單元處于遮光狀態；在所述透光氣囊的體積大于第二閾值時，所述透光氣囊將所述遮光溶液擠壓至所述容納腔邊緣處，所述掩模單元處于透光狀態，所述第二閾值大于所述第一閾值。

進一步地，所述控制單元包括：

與所述透光氣囊連通的通氣管路；

設置在通氣管路上的氣閥；

控制器，用于控制所述氣閥的關閉和打開，以控制所述通氣管路向所述透光氣囊通入氣體使所述透光氣囊的體積大于第二閾值或排出所述透光氣囊內的氣體使所述透光氣囊的體積小于第一閾值。

進一步地，所述遮光溶液為含有黑色染料的有機溶液。

進一步地，所述容納腔呈立方體狀或圓柱體狀。

進一步地，所述遮光溶液的體積為所述容納腔容量的1/5-1/7。

本發明實施例還提供了一種如上所述的掩模板的使用方法，包括：

確定所需要的掩模圖形；

控制與所需要的掩模圖形對應的第一掩模單元處于遮光狀態，控制與所需要的掩模圖形對應的第一掩模單元之外的第二掩模單元處于透光狀態。

進一步地，所述控制與所需要的掩模圖形對應的第一掩模單元處于遮光狀態，控制與所需要的掩模圖形對應的第一掩模單元之外的第二掩模單元處于透光狀態包括：

控制所述第一掩模單元的透光氣囊的體積大于第二閾值，控制所述第二掩模單元的透光氣囊的體積小于第一閾值。

進一步地，所述控制所述第一掩模單元的透光氣囊的體積大于第二閾值包括：

控制與所述第一掩模單元的透光氣囊對應的氣閥打開，通過與所述第一掩模單元的透光氣囊連通的通氣管路向所述第一掩模單元的透光氣囊通入氣體，使得所述第一掩模單元的透光氣囊的體積大于第二閾值；