[發明專利]掩模板及其使用方法、曝光設備

有效

• 申請號: 201810004145.7
• 申請日: 2018-01-03
• 公開（公告）號: CN108169998B
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發明（設計）人: 馬國靖;徐長健;任錦宇
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F1/54
• 分類號: G03F1/54;G02F1/1339
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 劉偉;張博

1.一種掩模板，其特征在于，包括：

陣列排布的多個掩模單元，每一掩模單元包括遮光狀態和透光狀態；

控制單元，用于控制每一所述掩模單元在遮光狀態和透光狀態之間進行切換；

所述掩模單元包括：

容納腔；

位于所述容納腔底部的遮光溶液；

位于所述容納腔頂部的透光氣囊，在所述透光氣囊的體積小于第一閾值時，所述遮光溶液平鋪在所述容納腔底部，所述掩模單元處于遮光狀態；在所述透光氣囊的體積大于第二閾值時，所述透光氣囊將所述遮光溶液擠壓至所述容納腔邊緣處，所述掩模單元處于透光狀態，所述第二閾值大于所述第一閾值；

所述控制單元包括：

與所述透光氣囊連通的通氣管路；

設置在通氣管路上的氣閥；

控制器，用于控制所述氣閥的關閉和打開，以控制所述通氣管路向所述透光氣囊通入氣體使所述透光氣囊的體積大于第二閾值或排出所述透光氣囊內的氣體使所述透光氣囊的體積小于第一閾值。

2.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述遮光溶液為含有黑色染料的有機溶液。

3.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述容納腔呈立方體狀或圓柱體狀。

4.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述遮光溶液的體積為所述容納腔容量的1/5-1/7。

5.一種如權利要求1-4中任一項所述的掩模板的使用方法，其特征在于，包括：

確定所需要的掩模圖形；

控制與所需要的掩模圖形對應的第一掩模單元處于遮光狀態，控制與所需要的掩模圖形對應的第一掩模單元之外的第二掩模單元處于透光狀態。

6.根據權利要求5所述的掩模板的使用方法，其特征在于，所述控制與所需要的掩模圖形對應的第一掩模單元處于遮光狀態，控制與所需要的掩模圖形對應的第一掩模單元之外的第二掩模單元處于透光狀態包括：

控制所述第一掩模單元的透光氣囊的體積大于第二閾值，控制所述第二掩模單元的透光氣囊的體積小于第一閾值。

7.根據權利要求6所述的掩模板的使用方法，其特征在于，所述控制所述第一掩模單元的透光氣囊的體積大于第二閾值包括：

控制與所述第一掩模單元的透光氣囊對應的氣閥打開，通過與所述第一掩模單元的透光氣囊連通的通氣管路向所述第一掩模單元的透光氣囊通入氣體，使得所述第一掩模單元的透光氣囊的體積大于第二閾值；

所述控制所述第二掩模單元的透光氣囊的體積小于第一閾值包括：

在所述第二掩模單元的透光氣囊的初始體積小于第一閾值時，控制與所述第二掩模單元的透光氣囊對應的氣閥關閉；在所述第二掩模單元的透光氣囊的初始體積大于第一閾值時，控制與所述第二掩模單元的透光氣囊對應的氣閥打開，通過與所述第二掩模單元的透光氣囊連通的通氣管路排出所述第二掩模單元的透光氣囊中的氣體，使得所述第二掩模單元的透光氣囊的體積小于第一閾值。

8.一種曝光設備，其特征在于，包括如權利要求1-4中任一項所述的掩模板。