[發(fā)明專利]一種顯示面板的制造設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810003695.7 | 申請日: | 2018-01-03 |
| 公開(公告)號: | CN108169938A | 公開(公告)日: | 2018-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張偉 | 申請(專利權(quán))人: | 惠科股份有限公司;重慶惠科金渝光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;G09F9/33;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳市百瑞專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44240 | 代理人: | 王麗 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道水田村民*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示面板 移載機構(gòu) 制造設(shè)備 基板 制造過程 報廢率 掉落 破片 移載 粘帶 粘片 檢測 制造 | ||
1.一種顯示面板的制造設(shè)備,其特征在于,所述顯示面板的制造設(shè)備包括:
一基座;
至少一個移載機構(gòu),固定設(shè)在所述基座上;
至少一個檢測機構(gòu),固定設(shè)在所述基座上;
所述基座內(nèi)設(shè)有控制機構(gòu),所述控制機構(gòu)控制所述移載機構(gòu)和所述檢測機構(gòu),所述檢測機構(gòu)的設(shè)置高度小于所述移載機構(gòu)的設(shè)置高度。
2.如權(quán)利要求1所述的一種顯示面板的制造設(shè)備,其特征在于,所述移載機構(gòu)包括支撐桿,所述支撐桿的一端與所述基座固定連接,所述支撐桿的另一端設(shè)有吸盤。
3.如權(quán)利要求2所述的一種顯示面板的制造設(shè)備,其特征在于,所述支撐桿內(nèi)設(shè)有一通道,所述通道在設(shè)置所述吸盤的一端設(shè)有開關(guān),所述控制機構(gòu)控制所述開關(guān)的閉合或斷開,斷開時所述吸盤與所述通道相連通。
4.如權(quán)利要求1所述的一種顯示面板的制造設(shè)備,其特征在于,所述檢測機構(gòu)包括檢測模塊,所述檢測模塊包括屏蔽罩,所述屏蔽罩內(nèi)設(shè)有感應(yīng)電極。
5.如權(quán)利要求4所述的一種顯示面板的制造設(shè)備,其特征在于,所述檢測模塊包括處理模塊,所述處理模塊與所述檢測模塊耦接,所述處理模塊包括振蕩電路、頻壓轉(zhuǎn)換器、信號處理單元和開關(guān)量輸出單元,所述振蕩電路、頻壓轉(zhuǎn)換器、信號處理單元和開關(guān)量輸出單元之間相互耦接。
6.如權(quán)利要求5所述的一種顯示面板的制造設(shè)備,其特征在于,所述檢測模塊包括顯示模塊,所述顯示模塊與所述開關(guān)量輸出單元耦接。
7.如權(quán)利要求1所述的一種顯示面板的制造設(shè)備,其特征在于,所述檢測機構(gòu)包括感應(yīng)器,所述感應(yīng)器包括色差感應(yīng)器。
8.如權(quán)利要求1所述的一種顯示面板的制造設(shè)備,其特征在于,所述檢測機構(gòu)包括接近開關(guān),所述接近開關(guān)為電容式接近開關(guān)。
9.如權(quán)利要求1所述的一種顯示面板的制造設(shè)備,其特征在于,所述控制機構(gòu)包括芯片單元,所述芯片單元與所述檢測機構(gòu)和所述移載機構(gòu)耦接。
10.一種顯示面板的制造設(shè)備,其特征在于,所述顯示面板的制造設(shè)備包括:
一基座;
至少一個移載機構(gòu),固定設(shè)在所述基座上;
至少一個檢測機構(gòu),固定設(shè)在所述基座上;
所述基座內(nèi)設(shè)有控制機構(gòu),所述控制機構(gòu)控制所述移載機構(gòu)和所述檢測機構(gòu),所述檢測機構(gòu)的設(shè)置高度小于所述移載機構(gòu)的設(shè)置高度;所述移載機構(gòu)包括支撐桿,所述支撐桿的一端與所述基座固定連接,所述支撐桿的另一端設(shè)有吸盤;所述支撐桿內(nèi)設(shè)有一通道,所述通道在設(shè)置所述吸盤的一端設(shè)有開關(guān),所述控制機構(gòu)控制所述開關(guān)的閉合或斷開,斷開時所述吸盤與所述通道相連通;所述檢測機構(gòu)包括檢測模塊,所述檢測模塊包括屏蔽罩,所述屏蔽罩內(nèi)設(shè)有感應(yīng)電極;所述檢測模塊包括處理模塊,所述處理模塊與所述檢測模塊耦接,所述處理模塊包括振蕩電路、頻壓轉(zhuǎn)換器、信號處理單元和開關(guān)量輸出單元,所述振蕩電路、頻壓轉(zhuǎn)換器、信號處理單元和開關(guān)量輸出單元之間相互耦接;所述檢測模塊包括顯示模塊,所述顯示模塊與所述開關(guān)量輸出單元耦接;所述檢測機構(gòu)包括感應(yīng)器,所述感應(yīng)器包括色差感應(yīng)器;所述檢測機構(gòu)包括接近開關(guān),所述接近開關(guān)為電容式接近開關(guān)。
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G02 光學(xué)
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





