[發(fā)明專利]激光照射系統(tǒng)和電子器件的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780096036.6
• 申請日: 2017-12-07
• 公開（公告）號(hào): CN111226359B
• 公開（公告）日: 2022-07-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鈴木章義;若林理
• 申請（專利權(quán)）人: 極光先進(jìn)雷射株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01S3/086
• 分類號(hào): H01S3/086
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 金玲;黃綸偉

本公開的一個(gè)觀點(diǎn)的激光照射系統(tǒng)具有：第1光學(xué)系統(tǒng)，其將第1激光變換為第2激光；多鏡器件，其包含多個(gè)反射鏡，能夠控制多個(gè)反射鏡的各個(gè)姿勢角度，且該多鏡器件通過對第2激光進(jìn)行分割而向多個(gè)方向反射，生成分割后的多個(gè)激光；傅立葉變換光學(xué)系統(tǒng)，其使分割后的多個(gè)激光會(huì)聚；以及控制部，其以利用傅立葉變換光學(xué)系統(tǒng)使通過所述反射鏡進(jìn)行分割后的多個(gè)激光重疊的方式控制所述多個(gè)反射鏡的姿勢角度，其中所述反射鏡彼此隔開所述第2激光的空間相干長度以上的距離。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及激光照射系統(tǒng)和電子器件的制造方法。

背景技術(shù)

關(guān)于半導(dǎo)體集成電路的細(xì)微化、高集成化，在半導(dǎo)體曝光裝置中要求分辨率的提高。以下，將半導(dǎo)體曝光裝置簡稱作“曝光裝置”。因此，推進(jìn)了從曝光用光源輸出的光的短波長化。替代現(xiàn)有的汞燈，曝光用光源使用氣體激光裝置。目前，作為曝光用氣體激光裝置，使用輸出波長為248nm的紫外線的KrF準(zhǔn)分子激光裝置和輸出波長為193nm的紫外線的ArF準(zhǔn)分子激光裝置。

作為目前的曝光技術(shù)，如下浸液曝光被實(shí)用化：用液體充滿曝光裝置側(cè)的投影透鏡與晶片之間的間隙，改變該間隙的折射率，由此，使曝光用光源的外觀上的波長短波長化。在使用ArF準(zhǔn)分子激光裝置作為曝光用光源進(jìn)行了浸液曝光的情況下，對晶片照射等價(jià)的波長為134nm的紫外光。將該技術(shù)稱作ArF浸液曝光。ArF浸液曝光也稱作ArF浸液光刻。

KrF、ArF準(zhǔn)分子激光裝置的自然振蕩中的光譜線寬為大約350～400pm，較寬，因此，產(chǎn)生通過曝光裝置側(cè)的投影透鏡縮小投影在晶片上的激光(紫外線光)的色像差，分辨率下降。因此，需要直到色像差成為可無視的程度為止使從氣體激光裝置輸出的激光的光譜線寬窄帶化。光譜線寬也稱作光譜寬度。因此，在氣體激光裝置的激光諧振器內(nèi)設(shè)置有具有窄帶化元件的窄帶化部(Line Narrow Module)，通過該窄帶化部實(shí)現(xiàn)了光譜寬度的窄帶化。另外，窄帶化元件也可以為標(biāo)準(zhǔn)具、光柵等。將以這樣的方式使光譜寬度窄帶化的激光裝置稱作窄帶化激光裝置。

此外，準(zhǔn)分子激光的脈沖寬度為大約幾十ns，波長分別短為248.4nm和193.4nm，因此，有時(shí)被用于高分子材料、玻璃材料等的直接加工。高分子材料能夠通過具有比耦合能量高的光子能量的準(zhǔn)分子激光，切斷高分子材料的耦合。因此，已知能夠進(jìn)行非加熱加工，加工形狀變得美觀。

此外，已知有由于玻璃、陶瓷等的針對準(zhǔn)分子激光的吸收率較高，所以也能夠進(jìn)行難以在可見激光和紅外線激光中進(jìn)行加工的材料的加工。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2011-222841號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開昭63-101815號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)3：日本特開2005-205464號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

本公開的1個(gè)觀點(diǎn)的激光照射系統(tǒng)，具有：第1光學(xué)系統(tǒng)，其將第1激光變換為第2激光；多鏡器件，其包含多個(gè)反射鏡，能夠控制多個(gè)反射鏡各自的姿勢角度，且該多鏡器件通過對第2激光進(jìn)行分割而向多個(gè)方向反射，生成分割后的多個(gè)激光；傅立葉變換光學(xué)系統(tǒng)，其使分割后的多個(gè)激光會(huì)聚；以及控制部，其以利用傅立葉變換光學(xué)系統(tǒng)使彼此隔開第2激光的空間相干長度以上的通過反射鏡進(jìn)行分割后的多個(gè)激光重疊的方式控制多個(gè)反射鏡的姿勢角度。