[發(fā)明專利]表面改性裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780093685.0
• 申請(qǐng)日: 2017-08-07
• 公開（公告）號(hào): CN111225944B
• 公開（公告）日: 2023-03-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小木曾智;森下貴生;櫻井行平;吉田純也;杉村智
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 春日電機(jī)股份有限公司
• 主分類號(hào): C08J7/00
• 分類號(hào): C08J7/00;B01J19/08;B29C59/14;H05H1/24
• 代理公司: 北京德崇智捷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11467
• 代理人: 喬獻(xiàn)麗

1.一種表面改性裝置，其特征在于，具備：

保持單元，其保持用于進(jìn)行表面改性處理的處理基材；

放電電極，其長(zhǎng)度在所述處理基材的寬度方向上被保持，所述放電電極由保持間隔配置的多個(gè)電極構(gòu)件構(gòu)成；

相向電極，其相對(duì)于所述放電電極夾住所述處理基材而相向，同時(shí)用于在其與所述放電電極之間產(chǎn)生電場(chǎng)；

氣體通道，其由所述多個(gè)電極構(gòu)件的相向間隔構(gòu)成，向所述處理基材方向引導(dǎo)置換氣體，并且，向所述電場(chǎng)的生成區(qū)域噴出所述置換氣體；

歧管，其連接在氣體供給源上，同時(shí)，其長(zhǎng)度在所述放電電極的長(zhǎng)度方向上被保持；

節(jié)流孔，其設(shè)置在所述歧管與所述氣體通道的連通進(jìn)程中，同時(shí)，在所述歧管的長(zhǎng)度方向上連續(xù)設(shè)置,

所述放電電極具有與在所述處理基材中的處理所必須的區(qū)域的寬度相等的長(zhǎng)度，

在所述歧管上，固定有在該歧管長(zhǎng)度方向上延伸的支撐構(gòu)件，

所述多個(gè)電極構(gòu)件夾持所述支撐構(gòu)件而相向，

在所述電極構(gòu)件的所述相向間隔上形成的空隙構(gòu)成所述氣體通道，

在所述支撐構(gòu)件上，在所述氣孔的長(zhǎng)度方向上形成多個(gè)與所述歧管以及所述氣體通道連通的氣體引導(dǎo)孔，

所述歧管以及所述支撐構(gòu)件結(jié)合，構(gòu)成所述支撐結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面改性裝置，其特征在于，在所述放電電極的長(zhǎng)度方向上設(shè)置一根所述歧管。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面改性裝置，其特征在于，具備多個(gè)所述歧管，該多個(gè)歧管在所述放電電極的長(zhǎng)度方向上直線配置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的表面改性裝置，其特征在于，在所述歧管與所述氣體通道連通進(jìn)程中設(shè)置的所述節(jié)流孔，由在所述歧管長(zhǎng)度方向上連續(xù)設(shè)置的多個(gè)小孔構(gòu)成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的表面改性裝置，其特征在于，在所述歧管與所述氣體通道的連通進(jìn)程中設(shè)置的所述節(jié)流孔，由在所述歧管上直接形成的多個(gè)小孔構(gòu)成。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的表面改性裝置，其特征在于，在所述歧管與所述氣體通道的連通進(jìn)程中設(shè)置的所述節(jié)流孔，由在所述歧管上直接形成的1個(gè)或多個(gè)切口構(gòu)成。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的表面改性裝置，其特征在于，在所述歧管與所述氣體通道的連通進(jìn)程中設(shè)置的所述節(jié)流孔，形成于所述歧管與氣體通道之間所設(shè)置的節(jié)流構(gòu)件上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面改性裝置，其特征在于，所述支撐構(gòu)件構(gòu)成所述節(jié)流構(gòu)件，同時(shí)，形成于所述節(jié)流構(gòu)件的氣體引導(dǎo)孔構(gòu)成所述節(jié)流孔。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的表面改性裝置，其特征在于，所述保持單元由運(yùn)送由長(zhǎng)條物構(gòu)成的所述處理基材的處理滾軸構(gòu)成。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的表面改性裝置，其特征在于，所述放電電極或相向電極中的至少任一方由電介質(zhì)包圍。