[發明專利]涂敷裝置以及涂敷方法有效
| 申請號: | 201780087788.6 | 申請日: | 2017-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN110382123B | 公開(公告)日: | 2021-09-10 |
| 發明(設計)人: | 高木善則;大森雅文 | 申請(專利權)人: | 株式會社斯庫林集團 |
| 主分類號: | B05C11/10 | 分類號: | B05C11/10;B05C5/02;B05D3/00;B05D7/00;H01M4/88;H01M8/1004 |
| 代理公司: | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 向勇;宋曉寶 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 以及 方法 | ||
1.一種涂敷裝置,其中,
具有:
搬運部,在長度方向上搬運長帶狀的基材,所述基材沿著所述長度方向具有在所述長度方向上應該形成多個涂膜的多個被涂敷區域;
檢測部,照射光來檢測被涂敷區域;以及
涂敷部,相比所述檢測部更靠搬運方向的下游側配置,對所述檢測部檢測的被涂敷區域涂敷涂敷液,
所述檢測部檢測被涂敷區域的處于所述搬運方向的下游側的開始端,
所述涂敷部根據所述檢測部檢測到所述被涂敷區域的開始端的時機開始涂敷液的涂敷,
所述涂敷部的涂敷位置與所述檢測部的光照射位置之間的距離比在所述搬運方向上連續的兩個被涂敷區域的開始端之間的距離短,
所述被涂敷區域是與預先形成于所述基材的第一催化劑層重疊的區域,
所述檢測部能夠將光的照射角度調整為相對于所述第一催化劑層傾斜,以使反射光量的變化變大。
2.如權利要求1所述的涂敷裝置,其中,
所述搬運部具有一邊在外周面上保持所述基材一邊旋轉的輥,
所述檢測部對保持在所述輥的外周面上的所述基材照射光,
所述涂敷部對保持在所述輥的外周面上的所述基材涂敷涂敷液。
3.如權利要求1所述的涂敷裝置,其中,
所述基材和所述第一催化劑層是透明的。
4.如權利要求1或2所述的涂敷裝置,其中,
所述檢測部在沿著所述基材的寬度方向的多個位置檢測被涂敷區域。
5.如權利要求1或2所述的涂敷裝置,其中,
所述涂敷裝置具有設置在所述涂敷部與所述檢測部之間的檢測部用蓋。
6.如權利要求1或2所述的涂敷裝置,其中,
所述檢測部通過接收在所述被涂敷區域反射的反射光來檢測所述被涂敷區域,
所述涂敷部以與所述檢測部基于所述反射光檢測到所述被涂敷區域的檢測時間相同的時間涂敷涂敷液。
7.如權利要求1或2所述的涂敷裝置,其中,
所述檢測部包括光纖傳感器。
8.一種涂敷方法,其中,
包括:
a)工序,在長度方向上搬運長帶狀的基材,所述基材沿著所述長度方向具有在所述長度方向上應該形成多個涂膜的多個被涂敷區域;
b)工序,通過檢測部照射光來檢測被涂敷區域;以及
c)工序,在相比所述檢測部更靠搬運方向的下游側,通過涂敷部對所述檢測部檢測的被涂敷區域涂敷涂敷液,
在所述b)工序中,檢測被涂敷區域的處于所述搬運方向的下游側的開始端,
在所述c)工序中,根據在所述b)工序中檢測到所述被涂敷區域的開始端的時機開始涂敷液的涂敷,
所述涂敷部的涂敷位置與所述檢測部的光照射位置之間的距離比在所述搬運方向上連續的兩個被涂敷區域的開始端之間的距離短,
所述被涂敷區域是與預先形成于所述基材的第一催化劑層重疊的區域,
所述涂敷方法還包括將在所述b)工序中照射的光的照射角度調整為相對于所述第一催化劑層傾斜,以使反射光量的變化變大的工序。
9.如權利要求8所述的涂敷方法,其中,
所述基材和所述第一催化劑層是透明的。
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