[發明專利]具有改進的光學組的立體光刻機

在審

• 申請號: 201780085890.2
• 申請日: 2017-12-06
• 公開（公告）號: CN110267795A
• 公開（公告）日: 2019-09-20
• 發明（設計）人: E·M·科斯塔貝伯
• 申請（專利權）人: DWS有限公司
• 主分類號: B29C64/135
• 分類號: B29C64/135;B29C64/129;B29C64/20;B29C64/40;B33Y80/00;B33Y10/00;B33Y30/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 胡利鳴;陳斌

1.一種用于制造三維物體(O)的立體光刻機(1)，其屬于包括以下各項的類型：

-用于流體物質(R)的容器(2)，所述流體物質(R)適配成用于通過曝光于至少一個預定輻射(RL，RL1，RL2)而在各層(S)中被固化；

-所述至少一個預定輻射(RL，RL1，RL2)的至少一個源(3，31，32)；

-光學組(4)，其被配置成將所述至少一個輻射(RL，RL1，RL2)朝向布置在所述容器(2)內的所述流體物質(R)的參考表面(SR)引導；

-控制邏輯單元(5)，其被配置成控制所述光學組(4)和/或所述至少一個輻射源(3，31，32)，以便將所述參考表面(SR)的至少一部分曝光于所述輻射(RL，RL1，RL2)；

其特征在于：

-所述光學組(4)包括：

-第一子光學組(41)，其被配置成待曝光于所述至少一個輻射(RL，RL1，RL2)，以便將與所述三維物體(O)的體積的一部分相對應的待固化的第一部分的圖像瞬時投射到所述參考表面(SR)上；

-第二子光學組(42)，其被配置成朝向所述參考表面(SR)的一點選擇性地運送所述至少一個輻射(RL，RL1，RL2)并移動所述點以便逐漸曝光所述參考表面(SR)的與所述三維物體(O)的體積的一部分相對應的待固化的第二部分；

-所述控制邏輯單元(5)被配置成彼此獨立地控制所述第一子光學組(41)和所述第二子光學組(42)。

2.如權利要求1所述的立體光刻機(1)，其特征在于，所述第二子光學組(42)包括彼此串聯布置的一對反射鏡(421)，以便將所述至少一個輻射(RL，RL1，RL2)朝向所述參考表面(SR)的一點運送并且移動所述點以便逐漸曝光所述參考表面(SR)的所述第二部分。

3.如權利要求2所述的立體光刻機(1)，其特征在于，所述一對反射鏡(421)屬于檢流計頭。

4.如權利要求2所述的立體光刻機(1)，其特征在于，所述一對反射鏡(421)中的每個反射鏡是通過接合裝置與支撐結構相關聯的微鏡，所述接合裝置被配置成限定所述微鏡的旋轉軸，所述微鏡和所述支撐結構屬于微光電機械系統(MOEMS)，所述兩個微光電機械系統(MOEMS)中的每一者還包括適配成使所述微鏡圍繞所述軸(X1，X2)移動的致動器裝置。

5.如前述權利要求中的任一項所述的立體光刻機(1)，其特征在于，所述第一子光學組(41)設置有反射鏡矩陣(411)，所述反射鏡矩陣(411)被配置成被獨立地控制以便將待固化的所述第一部分的所述圖像瞬時投影到所述參考表面(SR)上。

6.如前述權利要求中的任一項所述的立體光刻機(1)，其特征在于，

-所述至少一個預定輻射(RL，RL1，RL2)的所述至少一個源(3，31，32)是所述輻射(RL)的單個源(31)；

-所述控制邏輯單元(5)被配置成控制所述源(3)，以便將所述輻射(RL)朝向所述第一子光學組(41)或朝向所述第二子光學組(42)交替地引導。

7.如權利要求1-5中的任一項所述的立體光刻機(1)，其特征在于，所述立體光刻機(1)包括指向所述第一子光學組(41)的第一預定輻射(RL1)的第一源(31)和指向所述第二子光學組(42)的第二預定輻射(RL2)的第二源(32)，所述控制單元(5)被配置成控制所述第一子光學組(41)和/或所述第一源(31)以便將所述參考表面(SR)的所述第一部分曝光于所述第一輻射(RL1)并且同時或交替地控制所述第二子光學組(42)和/或所述第二源(32)以便將所述參考表面(SR)的所述第二部分曝光于所述第二輻射(RL2)。