[發(fā)明專利]具有墊片的墊調(diào)節(jié)器和晶片平面化系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780078805.X | 申請日： | 2017-12-18 |
| 公開（公告）號： | CN110087809B | 公開（公告）日： | 2020-12-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 林義翔;杜柏成;N·O·珊蒂 | 申請（專利權(quán)）人： | 3M創(chuàng)新有限公司 |
| 主分類號： | B23D13/00 | 分類號： | B23D13/00;B24B21/02;B24D3/00;B24B1/00;B24B53/017;B24B37/04;B24B37/34;B24D7/00;B24B37/20;B24B37/16;B24B37/11 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 牛海軍 |
| 地址： | 美國明*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 墊片 調(diào)節(jié)器 晶片 平面化 系統(tǒng) | ||
1.一種墊調(diào)節(jié)器，其包括：
載體，所述載體包括具有暴露區(qū)域和多個安裝區(qū)域的表面；
至少一個研磨元件，所述至少一個研磨元件設(shè)置在所述載體的表面的安裝區(qū)域上，所述至少一個研磨元件具有包括各自具有遠側(cè)端部的多個特征部的工作表面；和
墊片，所述墊片設(shè)置在所述載體的所述表面上并且覆蓋所述暴露區(qū)域的至少一部分，其中所述墊片具有第一表面和與所述第一表面相反的第二表面，所述第二表面鄰近所述載體的所述表面，并且所述墊片還包括傾斜邊緣，并且所述傾斜邊緣與所述載體的所述表面之間的角度(A)為10度至80度；
其中所述至少一個研磨元件的最高特征部的遠側(cè)端部與所述載體的所述表面之間的距離(D1)大于所述墊片的第一表面與所述載體的所述表面之間的距離(D2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述至少一個研磨元件包括以下中的一種或多種：金屬基質(zhì)中的超硬磨料粗粒，包含至少85重量％的量的陶瓷材料的陶瓷體，和包含金剛石涂層的陶瓷體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述研磨元件的多個特征部為精確成形特征部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述研磨元件圍繞所述載體的圓周以相等的間隔隔開。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述研磨元件圍繞所述載體的圓周等距間隔72度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述墊片對所述載體的表面的暴露區(qū)域的覆蓋比率為1.7％至100％。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述墊片同心地設(shè)置在所述載體的圓周內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述墊片還包括多個肋，并且所述肋中的每一個圍繞所述載體的圓周以相等的間隔隔開。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述傾斜邊緣與所述載體的所述表面之間的角度(A)為30度至60度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述傾斜邊緣與所述載體的所述表面之間的角度(A)為45度。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊調(diào)節(jié)器，其中D1與D2之間的差值不小于0.2mm。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述墊片的材料為聚合物的。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊調(diào)節(jié)器，其中所述墊片和所述研磨元件經(jīng)由粘合劑安裝在所述載體上。
14.一種用于墊調(diào)節(jié)器的墊片，所述墊調(diào)節(jié)器包括具有帶有暴露區(qū)域和多個安裝區(qū)域的表面的載體，以及至少一個研磨元件，所述至少一個研磨元件設(shè)置在所述安裝區(qū)域上并且具有各自具有遠側(cè)端部的多個特征部，所述墊片包括第一表面和與所述第一表面相反并鄰近所述載體的第二表面，其中所述研磨元件的最高特征部的遠側(cè)端部與所述載體的所述表面之間的距離(D1)大于所述墊片的第一表面與所述載體的所述表面之間的距離(D2)，并且所述墊片還包括傾斜邊緣，并且所述傾斜邊緣與所述載體的所述表面之間的角度(A)為10度至80度。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的墊片，其中所述墊片對所述載體的表面的暴露區(qū)域的覆蓋比率為1.7％至100％。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的墊片，其中D1與D2之間的差值不小于0.2mm。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的墊片，其中所述墊片的材料為聚合物的。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于3M創(chuàng)新有限公司，未經(jīng)3M創(chuàng)新有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780078805.X/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
