[發(fā)明專利]粘合層形成用組合物和生產(chǎn)制品的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780070554.0 | 申請日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN109952353A | 公開(公告)日: | 2019-06-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 田邊正幸;伊藤俊樹 | 申請(專利權(quán))人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | C09D201/02 | 分類號: | C09D201/02;B29C59/02;B32B27/16;C09D5/00;C09D7/63;H01L21/027 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所 11038 | 代理人: | 劉強 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 形成用組合物 粘合層 重量份 固化性 阻聚劑 基材 自由基聚合性官能團 光固化性組合物 基底結(jié)合 生產(chǎn)制品 有機溶劑 粘附的 基板 | ||
使基板與光固化性組合物粘附的粘合層形成用組合物,其至少含有:固化性基材(A),其含有至少一個與基底結(jié)合的官能團和至少一個自由基聚合性官能團;阻聚劑(B);和有機溶劑(C),基于100重量份的固化性基材(A),該粘合層形成用組合物具有0.1重量份?10重量份的阻聚劑(B)含量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及粘合層形成用組合物和生產(chǎn)制品的方法。
背景技術(shù)
作為生產(chǎn)具有微結(jié)構(gòu)的制品例如半導體器件和微機電系統(tǒng)(MEMS)的技術(shù),光壓印技術(shù)已受到關(guān)注。通過這樣的光壓印技術(shù)形成圖案的方法可包括安置步驟、接觸步驟、固化步驟和分離步驟(脫模步驟)。在安置步驟中,將光固化性組合物安置在基底上的圖案形成區(qū)域中。在接觸步驟中,使用包括圖案的模具將光固化性組合物成形。在固化步驟中,通過用光照射光固化性組合物來使光固化性組合物固化以形成固化物。在分離步驟中,將模具從光固化性組合物的固化物分離。由此,在基底上設(shè)置具有從模具轉(zhuǎn)印的圖案的固化物。
在采用光壓印技術(shù)形成圖案的方法中,光固化性組合物與基底之間的粘合性是重要的。這是因為,如果光固化性組合物與基底之間的粘合性低,則在分離步驟中將模具從光固化性組合物的固化物分離時固化物的一部分從基底剝離,由此導致圖案的缺失部分。
目前為止,作為用于改善光固化性組合物與基底之間的粘合性的技術(shù),已報道了形成粘合層的技術(shù),粘合層位于光固化性組合物與基底之間并且使光固化性組合物粘附于基底(PTL1和2)。
引用列表
專利文獻
PTL 1:日本專利No.5084728
PTL 2:日本專利公開No.2016-28419
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題
如果在設(shè)置粘合層的基板上存在顆粒,由于起因于這些顆粒的不充分的填充和不均勻的厚度,采用壓印技術(shù)形成的圖案可能具有缺陷。沒有充分地將光固化性組合物填充到模具的圖案中包括的凹部時通過使光固化性組合物固化可能引起起因于不充分填充的缺陷。不均勻的厚度是指光固化性組合物的固化物的厚度的不均勻性并且可能例如由模具的變形或者由于顆粒的存在而導致的基底與模具的不平行而引起。如果基板上的顆粒粘附于模具,則可能使模具的形狀永久地變形,或者可能使模具破損。
在基底上形成粘合層的情況下,形成為粘合層的組分能夠在用于形成粘合層的粘合層溶液(粘合層組合物)中自發(fā)地經(jīng)歷聚合反應(yīng),由此可能形成顆粒。
本發(fā)明提供粘合層組合物,其有利地減少由自發(fā)聚合反應(yīng)引起的顆粒的形成。
問題的解決方案
本發(fā)明的一個方面提供使基板與光固化性組合物粘附的粘合層形成用組合物,該粘合層形成用組合物至少包括:含有至少一個與基底結(jié)合的官能團和至少一個自由基聚合性官能團的固化性基材(A)、阻聚劑(B)和有機溶劑(C),該粘合層形成用組合物具有0.1重量份-10重量份的阻聚劑(B)含量,基于100重量份的固化性基材(A)。
本發(fā)明的有利效果
根據(jù)本發(fā)明,提供粘合層組合物,其有利地減少由自發(fā)聚合反應(yīng)引起的顆粒的形成。
附圖說明
圖1表示固化性基材(A)。
圖2表示固化性基材(A)。
圖3A表示形成圖案的方法或生產(chǎn)制品的方法。
圖3B表示形成圖案的方法或生產(chǎn)制品的方法。
圖3C表示形成圖案的方法或生產(chǎn)制品的方法。
圖3D表示形成圖案的方法或生產(chǎn)制品的方法。
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