[發(fā)明專利]導(dǎo)電性膜和導(dǎo)電性膜的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780070104.1
• 申請日: 2017-11-14
• 公開（公告）號: CN109937458B
• 公開（公告）日: 2022-08-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 藤平惠;清水誠吾;山田俊輔;山木繁;基里達(dá)·古納努魯克薩蓬
• 申請（專利權(quán)）人: 昭和電工株式會社
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B13/00;B05D7/24;B05D5/12;B32B27/18
• 代理公司: 北京柏杉松知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413
• 代理人: 袁波;劉繼富

1.一種導(dǎo)電性膜，其具有：

高分子膜；

基底樹脂層，其形成在所述高分子膜的至少一面；以及

導(dǎo)電層，其形成在所述基底樹脂層之上，包含平均直徑為1～100nm且長寬比的平均為100～2000的金屬納米線和粘結(jié)劑樹脂，

所述導(dǎo)電層的表面電阻值為1.0×10³～1.0×10⁶Ω/□且所述表面電阻值的偏差為15％以下，

所述導(dǎo)電層中的所述粘結(jié)劑樹脂的含有量相對于所述導(dǎo)電層中的所述金屬納米線100質(zhì)量份為1000～2000質(zhì)量份，

所述基底樹脂層中使用的基底樹脂和所述導(dǎo)電層中使用的所述粘結(jié)劑樹脂均由具有-SO₃Na基的聚酯樹脂構(gòu)成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電性膜，其中，

所述導(dǎo)電層中的所述金屬納米線的占有面積率的范圍為1.5～4.5％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電性膜，其中，

總透光率為80％以上且霧度值為0.1～1.5％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電性膜，其中，

所述基底樹脂與所述粘結(jié)劑樹脂為相同成分的樹脂。

5.一種制造權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電性膜的制造方法，具有：

在高分子膜的至少一面形成基底樹脂層的工序；以及

將包含平均直徑為1～100nm且長寬比的平均為100～2000的金屬納米線、粘結(jié)劑樹脂和溶劑的金屬納米線墨涂敷在形成于所述高分子膜的所述基底樹脂層上并使其干燥，由此形成導(dǎo)電層的工序，

所述導(dǎo)電層中的所述粘結(jié)劑樹脂的含有量相對于所述導(dǎo)電層中的所述金屬納米線100質(zhì)量份為1000～2000質(zhì)量份。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的導(dǎo)電性膜的制造方法，其中，

所述溶劑為水和醇的混合溶劑，并且以全溶劑中的1～50質(zhì)量％的范圍包含碳原子數(shù)為1～3的飽和一元醇。