[發明專利]等離子體噴鍍裝置和噴鍍控制方法在審
| 申請號： | 201780069695.0 | 申請日： | 2017-10-27 |
| 公開（公告）號： | CN109937613A | 公開（公告）日： | 2019-06-25 |
| 發明（設計）人： | 小林義之;檜森慎司;古谷直一 | 申請（專利權）人： | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號： | H05H1/42 | 分類號： | H05H1/42;C23C4/134;H05H1/40 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 等離子體生成氣體 等離子體噴鍍 磁場產生部 噴鍍材料 供給部 噴射 等離子體生成部 偏轉 前端部 噴鍍 芯軸 磁場 開口 運送 | ||
1.一種等離子體噴鍍裝置，具有：
供給部，其利用等離子體生成氣體來運送噴鍍材料的粉末，并從前端部的開口噴射該噴鍍材料的粉末；
等離子體生成部，其使用噴射出的所述等離子體生成氣體來生成與所述供給部具有共同的芯軸的等離子體；
磁場產生部，其在所述等離子體的生成空間中產生磁場；以及
控制部，其控制所述磁場產生部，來控制所生成的所述等離子體的偏轉。
2.根據權利要求1所述的等離子體噴鍍裝置，其特征在于，
所述磁場產生部具有多個電磁體。
3.根據權利要求2所述的等離子體噴鍍裝置，其特征在于，
所述控制部從存儲有將所述多個電磁體的磁極的配置信息與等離子體的偏轉信息建立了對應的特征文件的存儲部中參照與第一膜的特性相應的第一特征文件來控制所述多個電磁體中流動的電流，從而控制所述第一膜的形成。
4.根據權利要求3所述的等離子體噴鍍裝置，其特征在于，
所述控制部參照所述存儲部所存儲的特征文件中的與第二膜的特性相應的第二特征文件來控制所述多個電磁體中流動的電流，從而對所述第一膜與所述第二膜之間的連續的膜的形成進行控制。
5.根據權利要求3所述的等離子體噴鍍裝置，其特征在于，
所述控制部參照所述存儲部所存儲的特征文件中的用于進行所述等離子體噴鍍裝置內的清潔的第三特征文件來控制所述多個電磁體中流動的電流，使所述供給部不噴出噴鍍材料的粉末以對所述等離子體噴鍍裝置內的規定的部位進行清洗。
6.根據權利要求1所述的等離子體噴鍍裝置，其特征在于，
所述供給部噴射粒徑為1μm～10μm的噴鍍用粉末。
7.一種噴鍍控制方法，在該噴鍍控制方法中，
由供給部利用等離子體生成氣體來運送噴鍍材料的粉末，并從所述供給部的前端部的開口噴射該噴鍍材料的粉末，
使用噴射出的所述等離子體生成氣體來生成與所述供給部具有共同的芯軸的等離子體，
在所述等離子體的生成空間中產生磁場，
控制所產生的所述磁場來控制所生成的所述等離子體的偏轉。
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