[發明專利]抗蝕劑組合物及抗蝕劑圖案形成方法、高分子化合物及共聚物

有效

• 申請號: 201780061520.5
• 申請日: 2017-10-04
• 公開（公告）號: CN109791359B
• 公開（公告）日: 2022-10-11
• 發明（設計）人: 長峰高志;仁藤豪人;藤崎真史;藤井達也;福村友貴;小島孝裕;鈴木一生;池田卓也;阮慶信
• 申請（專利權）人: 東京應化工業株式會社
• 主分類號: G03F7/038
• 分類號: G03F7/038;C08F20/26;G03F7/039;G03F7/20
• 代理公司: 上海立群專利代理事務所(普通合伙) 31291
• 代理人: 毛立群

1.一種抗蝕劑組合物，

其是通過曝光產生酸且對顯影液的溶解性因酸的作用而變化的抗蝕劑組合物，其特征在于，

含有對顯影液的溶解性因酸的作用而變化的樹脂成分(A1)，

所述樹脂成分(A1)具有以下述通式(a0－1)表示的結構單元(a0)，

【化1】

式中，R為氫原子、碳數1～5的烷基或碳數1～5的鹵代烷基，Va⁰為可具有醚鍵的2價烴基，n_a0為0～2的整數，Ra⁰⁰為以通式(a0－r1－1)表示的酸解離性基團，Ra⁰¹為可具有取代基的烴基，Ra⁰²為可具有取代基的烴基，Ra⁰¹與Ra⁰²可以相互鍵合而形成環結構，Ya⁰為季碳原子，Ra⁰³¹、Ra⁰³²和Ra⁰³³分別獨立地為可具有取代基的烴基，其中，Ra⁰³¹、Ra⁰³²和Ra⁰³³中的1個以上為具有以下述式(a0-p1-1)～(a0-p1-9)的任一個表示的極性基團的烴基，式(a0-r1-1)中，*表示與式(a0-1)中的羰氧基[－C(＝O)－O－]的氧基(－O－)鍵合的鍵，式(a0-p1-1)～(a0-p1-9)中，*表示與季碳原子(Ya⁰)鍵合的鍵。

【化2】

2.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物，其特征在于，

所述結構單元(a0)的比例相對于構成所述樹脂成分(A1)的全部結構單元的合計為10～70摩爾％。

3.一種抗蝕劑圖案形成方法，其具有：

在支承體上，使用權利要求1或2所述的抗蝕劑組合物而形成抗蝕劑膜的工序；

將所述抗蝕劑膜曝光的工序；

以及將所述曝光后的抗蝕劑膜顯影而形成抗蝕劑圖案的工序。

4.一種高分子化合物，

其具有以下述通式(a0－1)表示的結構單元(a0)，

【化3】

式中，R為氫原子、碳數1～5的烷基或碳數1～5的鹵代烷基，Va⁰為可具有醚鍵的2價烴基，n_a0為0～2的整數，Ra⁰⁰為以通式(a0－r1－1)表示的酸解離性基團，Ra⁰¹為可具有取代基的烴基，Ra⁰²為可具有取代基的烴基，Ra⁰¹與Ra⁰²可以相互鍵合而形成環結構，Ya⁰為季碳原子，Ra⁰³¹、Ra⁰³²和Ra⁰³³分別獨立地為可具有取代基的烴基，其中，Ra⁰³¹、Ra⁰³²和Ra⁰³³中的1個以上為具有以下述式(a0-p1-1)～(a0-p1-9)的任一個表示的極性基團的烴基，式(a0-r1-1)中，*表示與式(a0-1)中的羰氧基[－C(＝O)－O－]的氧基(－O－)鍵合的鍵，式(a0-p1-1)～(a0-p1-9)中，*表示與季碳原子(Ya⁰)鍵合的鍵。

【化4】

5.根據權利要求4所述的高分子化合物，其特征在于，

所述結構單元(a0)的比例相對于構成所述高分子化合物的全部結構單元的合計為20～50摩爾％。