[發(fā)明專利]MOSFET以及電力轉(zhuǎn)換電路有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780052518.1 | 申請日: | 2017-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN109643734B | 公開(公告)日: | 2021-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 新井大輔;北田瑞枝 | 申請(專利權(quán))人: | 新電元工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | H01L29/78 | 分類號: | H01L29/78 |
| 代理公司: | 上海德昭知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
| 地址: | 日本東京都千*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | mosfet 以及 電力 轉(zhuǎn)換 電路 | ||
本發(fā)明的MOSFET100,包括:具有超級結(jié)結(jié)構(gòu)117的半導(dǎo)體基體110;以及經(jīng)由柵極絕緣膜124后被形成在半導(dǎo)體基體110的第一主面?zhèn)壬系臇烹姌O126,其特征在于:在以超級結(jié)結(jié)構(gòu)117中規(guī)定深度位置的深度x為橫軸,以超級結(jié)結(jié)構(gòu)117中規(guī)定深度位置上的平均正電荷密度p(x)為縱軸時,將MOSFET關(guān)斷后超級結(jié)結(jié)構(gòu)117耗盡時的,超級結(jié)結(jié)構(gòu)117中規(guī)定深度位置上的平均正電荷密度p(x)展現(xiàn)為上凸的向右上揚(yáng)的曲線。根據(jù)本發(fā)明的MOSFET,即便柵極周圍的電荷平衡存在變動,也能夠?qū)㈥P(guān)斷后的開關(guān)特性的變動減小至比以往更小的水平。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及MOSFET以及電力轉(zhuǎn)換電路。
背景技術(shù)
以往,具備由n型柱形(Column)區(qū)域以及p型柱形區(qū)域構(gòu)成的超級結(jié)(Superjunction)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體基體的MOSFET被普遍認(rèn)知(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。
在本說明書中,超級結(jié)結(jié)構(gòu)是指:從規(guī)定的截面上觀看時,n型柱形區(qū)域與p型柱形區(qū)域交互地重復(fù)排列的結(jié)構(gòu)。
以往的MOSFET900如圖17所示,是一種平面柵極(Plane gate)型MOSFET,其包括:半導(dǎo)體基體910,具有由n型柱形區(qū)域914以及p型柱形區(qū)域916構(gòu)成的超級結(jié)結(jié)構(gòu)917、形成在第一主面的表面,并且形成在p型柱形區(qū)域916的整個表面上以及n型柱形區(qū)域914的一部分表面上的基極區(qū)域918、形成在第一主面的表面,并且形成在n型柱形區(qū)域914的表面上的與基極區(qū)域918相鄰接的n型表面高濃度區(qū)域919、以及形成在基極區(qū)域918的表面的n型源極區(qū)域920;以及柵電極936,經(jīng)由柵極絕緣膜934形成在被源極區(qū)域920與n型表面高濃度區(qū)域919相夾的基極區(qū)域918的表面上。
在以往的MOSFET900中,n型柱形區(qū)域914以及p型柱形區(qū)域916被形成為:使n型柱形區(qū)域914的摻雜物總量與p型柱形區(qū)域916的摻雜物總量相等。即,n型柱形區(qū)域914以及p型柱形區(qū)域916處于電荷平衡(Charge balance)狀態(tài)。另外,n型柱形區(qū)域914的摻雜物濃度以及p型柱形區(qū)域916的摻雜物濃度均不受深度的影響而保持固定。再有,n型柱形區(qū)域914的側(cè)壁形狀為第一主面?zhèn)泉M窄的錐形形狀,p型柱形區(qū)域916的側(cè)壁形狀為底部狹窄的錐形形狀。
在本說明書中,“摻雜物總量”是指:MOSFET中作為構(gòu)成要素(n型柱形區(qū)域或p型柱形區(qū)域)的摻雜物的總量。
根據(jù)以往的MOSFET900,由于包括了具有由n型柱形區(qū)域914以及p型柱形區(qū)域916構(gòu)成的超級結(jié)結(jié)構(gòu)917的半導(dǎo)體基體910,因此是一種具有低導(dǎo)通(ON)電阻、且高耐壓的開關(guān)元件。
【先行技術(shù)文獻(xiàn)】
【專利文獻(xiàn)1】特開2004-119611號公報
【專利文獻(xiàn)2】特開2013-93560號公報
然而,在以往的MOSFET900中,一旦柵極周圍的電荷平衡存在變動,就會出現(xiàn)關(guān)斷(Turn off)后開關(guān)特性的變動變大的問題。
因此,本發(fā)明鑒于上述問題的解決,目的是提供一種:即便柵極周圍的電荷平衡存在變動,也能夠?qū)㈥P(guān)斷后的開關(guān)特性的變動減小至比以往更小的MOSFET以及使用這種MOSFET的電力轉(zhuǎn)換電路。
發(fā)明內(nèi)容
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的
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