[發(fā)明專利]用于校準(zhǔn)針對基于光片的納米顆粒跟蹤和計數(shù)裝置的調(diào)查體積的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780052099.1 | 申請日： | 2017-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN109642824B | 公開（公告）日： | 2021-08-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 賈恩·J·塔塔科維茲 | 申請（專利權(quán)）人： | 堀場儀器株式會社 |
| 主分類號： | G01J3/42 | 分類號： | G01J3/42;G01N15/00;G01N15/02;G01N31/00 |
| 代理公司： | 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人： | 林強 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 校準(zhǔn) 針對 基于 納米 顆粒 跟蹤 計數(shù) 裝置 調(diào)查 體積 方法 | ||
公開了一種用于校準(zhǔn)暗場顯微技術(shù)設(shè)置的方法。該方法包括：制備多個顆粒樣本，每個顆粒樣本具有已知的濃度和顆粒大小，該多個顆粒樣本具有一種以上顆粒大小并且可選地具有一個以上折射率和一種以上稀釋液。針對多個顆粒樣本中的每個樣本，在設(shè)置中測量該樣本并且測量散射光強度和顆粒數(shù)目。根據(jù)該數(shù)據(jù)，可以確定散射光強度、顆粒大小、和校準(zhǔn)調(diào)查體積之間的關(guān)系。使用校準(zhǔn)調(diào)查體積來獲取給定稀釋液中的適當(dāng)顆粒大小分布。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及使用裝配有數(shù)字視頻攝像頭的顯微鏡測量和觀察液體樣本中的納米顆粒。
本申請要求于2016年7月1日遞交的名為“METHOD FOR CALIBRATINGINVESTIGATED VOLUME FOR LIGHT SHEET BASED NANOPARTICLE TRACKING AND COUNTINGAPPARATUS”的美國臨時專利申請No.62/357,777的優(yōu)先權(quán)；要求于2016年8月8日遞交的名為“METHOD FOR CALIBRATING INVESTIGATED VOLUME FOR LIGHT SHEET BASEDNANOPARTICLE TRACKING AND COUNTING APPARATUS”的美國臨時專利申請No.62/372,025的優(yōu)先權(quán)；要求于2016年11月14日遞交的名為“METHOD FOR CALIBRATING INVESTIGATEDVOLUME FOR LIGHT SHEET BASED NANOPARTICLE TRACKING AND COUNTING APPARATUS”的美國臨時專利申請No.62/421,585的優(yōu)先權(quán)；并且要求于2017年6月27日遞交的名為“METHOD FOR CALIBRATING INVESTIGATED VOLUME FOR LIGHT SHEET BASEDNANOPARTICLE TRACKING AND COUNTING APPARATUS”的美國專利申請No.15/634,858的優(yōu)先權(quán)，所有它們的公開內(nèi)容通過引用全部結(jié)合于此。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于堀場儀器株式會社，未經(jīng)堀場儀器株式會社許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780052099.1/2.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
