[發明專利]用于校準針對基于光片的納米顆粒跟蹤和計數裝置的調查體積的方法

有效

• 申請號: 201780052099.1
• 申請日: 2017-06-28
• 公開（公告）號: CN109642824B
• 公開（公告）日: 2021-08-06
• 發明（設計）人: 賈恩·J·塔塔科維茲
• 申請（專利權）人: 堀場儀器株式會社
• 主分類號: G01J3/42
• 分類號: G01J3/42;G01N15/00;G01N15/02;G01N31/00
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258
• 代理人: 林強

1.一種用于確定膠體的顆粒大小分布的系統，所述系統包括：

光源，被構造為將電磁輻射的波束發射在樣品室處，該室被構造為容納所述膠體并允許所述波束的一部分從包含在所述膠體中的顆粒散射；

傳感器，被放置為觀察所述波束的散射部分，其中，所述傳感器被適配為檢測所述電磁輻射；

數據庫，被配置為存儲散射光強度、顆粒大小、以及校準調查體積之間的預定關系；

處理器，被連接到所述光源、傳感器、和所述數據庫，所述處理器被配置為執行以下步驟：

a.啟動所述光源；

b.從所述傳感器獲取一系列圖像；

c.通過跟蹤布朗運動確定所述圖像中的顆粒的大小，針對每種大小進行以下操作：

i.測量所述圖像中的顆粒的數目；

ii.分別測量針對所述圖像中的顆粒的散射光強度；

iii.基于步驟(c)(i)和(ii)，基于所述預定關系確定所述校準調查體積；

d.基于來自步驟(c)(i)的所測量的顆粒的數目和來自步驟(c)(iii)的所確定的校準調查體積，計算所述膠體的所述顆粒大小分布。

2.如權利要求1所述的系統，其中，所述預定關系進一步取決于所述電磁輻射的波長；其中，所述光源能夠被調整以產生多個波長的電磁輻射；并且其中，所述處理器進一步被配置為調整所述光源以產生多個波長。

3.一種用于校準暗場顯微技術設置的方法，其中，所述設置包括光源，該光源被構造為將電磁輻射的波束發射在樣品室處，該室被構造為容納膠體顆粒并允許所述波束的一部分從所述顆粒散射，所述波束的散射部分指向傳感器，其中，所述傳感器被適配為檢測所述電磁輻射，所述方法包括：

a.制備具有已知的濃度和顆粒大小的多個顆粒樣本，所述多個顆粒樣本具有一個以上折射率和一種以上顆粒大小；

b.針對所述多個顆粒樣本中的每個樣本進行以下操作：

i.將該樣本引入所述樣品室；

ii.啟動所述光源；

iii.測量所述傳感器檢測到的顆粒數目和散射光強度；

c.針對所述多個顆粒樣本中的每種顆粒大小，確定樣本的折射率與散射光強度之間的關系；

d.基于針對所述多個顆粒樣本中的每種顆粒大小的樣本所測量的顆粒數目，確定樣本的折射率與調查體積之間的關系；以及基于步驟(c)和(d)中的關系確定校準調查體積。

4.如權利要求3所述的方法，還包括：

e.確定散射光強度、顆粒大小、和調查體積之間的三維關系。

5.如權利要求3所述的方法，還包括：

e.基于步驟(c)的確定結果，確定針對所述多個顆粒樣本中沒有測量的顆粒大小的折射率與散射光強度之間的關系。

6.如權利要求3所述的方法，還包括：

e.基于步驟(d)的確定結果，確定針對所述多個顆粒樣本中沒有測量的顆粒大小的折射率與調查體積之間的關系。

7.如權利要求3所述的方法，其中，所述光源被改變以產生多個波長的電磁輻射，所述方法還包括：

e.針對所述多個波長中的每個波長執行步驟(a)至(d)。

8.如權利要求7所述的方法，還包括：

f.確定光源波長、散射光強度、顆粒大小、以及調查體積之間的四維關系。

9.如權利要求3所述的方法，還包括：

e.將未知樣本引入所述樣品室；

f.啟動所述光源；

g.針對所述未知樣本中的多種顆粒大小進行以下操作：

i.測量所述傳感器檢測到的顆粒數目和散射光強度；

ii.基于步驟(c)和(d)中的關系來確定校準調查體積；

iii.基于從所述未知樣本測量到的顆粒數目和校準調查體積，計算顆粒大小分布。