[發明專利]用于基板的傳輸系統和加工系統

在審

• 申請號: 201780048605.X
• 申請日: 2017-08-01
• 公開（公告）號: CN109689541A
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發明（設計）人: 弗洛里安·瓦姆斯勒;阿希姆·阿諾德;克勞斯·奧佩爾特
• 申請（專利權）人: 亞席斯自動化系統有限公司
• 主分類號: B65G47/64
• 分類號: B65G47/64;B65G47/52;B65G47/91;H01L21/683;B65G21/20;B65G47/14;H01L21/677;H01L21/67;B65G51/02
• 代理公司: 北京市磐華律師事務所 11336
• 代理人: 董巍;時永紅

1.一種用于基板(19)的，尤其是晶片、太陽能電池、電路板等的傳輸系統(1)，所述傳輸系統(1)具有：用于保持和傳輸所述基板(19)的第一裝置(4)，該第一裝置具有抓取頭(6)，所述抓取頭在其下側(10)上具有用于放置所述基板(19)的至少一個第一支承面(11)和至少一個抽吸裝置(8)，以用于將所述基板(19)相對于所述支承面(11)進行吸附；和用于保持和傳輸所述基板(19)的第二裝置(5)，所述第二裝置具有至少一個第二支承面(18)，所述基板(19)置于所述第二支承面上；和用于將所放置的基板(19)從所述第二支承面(18)移動至所述第一支承面(11)的機構(20)，其特征在于，所述機構(20)具有至少一個壓縮空氣噴嘴(21)，所述壓縮空氣噴嘴設置在第二支承面(18)下方，使得通過所述壓縮空氣噴嘴產生的壓縮空氣流朝向位于所述第二支承面(18)上的基板(19)的方向流動，以使所述基板(19)朝向所述第一支承面(11)的方向升高。

2.根據權利要求1所述的傳輸系統，其特征在于，所述機構(20)具有多個彼此平行設置的壓縮空氣噴嘴(21)，用于升高相應的所述基板(19)。

3.根據上述權利要求之一所述的傳輸系統，其特征在于，所述壓縮空氣噴嘴(21)對稱地布置。

4.根據上述權利要求之一所述的傳輸系統，其特征在于，所述壓縮空氣噴嘴(21)設置在所述第二支承面(18)的旁邊。

5.根據上述權利要求之一所述的傳輸系統，其特征在于，至少一個壓縮空氣噴嘴居中地設置在第二支承面(18)的自由空間中。

6.根據上述權利要求之一所述的傳輸系統，其特征在于，所述第一支承面(11)和/或第二支承面(18)通過至少一個可移動地支承的傳輸帶(9、15)形成。

7.根據上述權利要求之一所述的傳輸系統，其特征在于，所述第一支承面(11)和/或第二支承面(18)通過至少兩個平行且彼此間隔開地設置的并且可移動地支承的傳輸帶(9、15)形成。

8.根據上述權利要求之一所述的傳輸系統，其特征在于，所述壓縮空氣噴嘴(21)與整個壓縮空氣產生器(25)流體連接。

9.根據上述權利要求之一所述的傳輸系統，其特征在于，所述機構(20)具有至少一個可操控的閥(23)，用于調整穿流橫截面。

10.根據上述權利要求之一所述的傳輸系統，其特征在于，所述第二裝置(5)具有至少一個傳感器(27)，以用于檢測所述基板(19)是否位于所述第二支承面(18)上，尤其是在到所述第一裝置(4)的轉移區域(28)中。

11.根據上述權利要求之一所述的傳輸系統，其特征在于，所述傳感器構成為無接觸工作的傳感器(27)，尤其是構成為間距傳感器。

12.一種用于基板(19)的，尤其是晶片、太陽能電池、電路板等的加工系統(2)，所述加工系統具有：用于處理或加工所述基板(19)的至少一個加工站(3)；和至少一個根據權利要求1至11之一所述的傳輸系統(1)。