[發(fā)明專利]用于自動(dòng)視覺缺陷檢查之后的電子裸片覆墨的系統(tǒng)和方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780047349.2
• 申請(qǐng)日: 2017-08-14
• 公開（公告）號(hào): CN109564883A
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: E·R·特魯巴爾;B·W·帕克特;V·C·賽莫克;M·J·詹森;D·M·庫倫;J·E·巴頓;C·D·戈登
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 德克薩斯儀器股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/66
• 分類號(hào): H01L21/66;G01N21/88
• 代理公司: 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245
• 代理人: 趙志剛;趙蓉民

1.一種提供半導(dǎo)體器件的方法，所述方法包括：

接收第一晶圓缺陷圖，其定義比較區(qū)域并標(biāo)識(shí)晶圓的視覺缺陷位置；

確定所述比較區(qū)域的格式，所述格式選自包括裸片到裸片、部分鏡頭到部分鏡頭和全鏡頭到全鏡頭的組；

如果比較格式不是裸片到裸片，則接收提供所述比較區(qū)域內(nèi)的裸片位置的映射信息；以及

提供標(biāo)識(shí)所述晶圓內(nèi)的裸片位置的晶圓布局圖。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述映射信息是從系統(tǒng)數(shù)據(jù)庫接收的，并且包括小裸片信息和偏移信息中的至少一個(gè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括將所述晶圓布局圖和所述第一晶圓缺陷圖組合，以創(chuàng)建標(biāo)識(shí)所述晶圓上的有缺陷裸片的第一有缺陷裸片圖。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，還包括將所述第一有缺陷裸片圖轉(zhuǎn)換為探針測(cè)試系統(tǒng)可用的格式以形成第一文件。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述第一文件具有.PPO格式。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，還包括將所述第一文件提供給所述探針測(cè)試系統(tǒng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，還包括將所述第一文件與由所述探針測(cè)試系統(tǒng)創(chuàng)建的第二文件組合以創(chuàng)建第三文件。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，還包括利用所述第一文件和所述第三文件中的一個(gè)在所述晶圓上執(zhí)行裸片覆墨。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，還包括：

接收晶圓缺陷圖和相關(guān)聯(lián)的晶圓布局圖，所述晶圓缺陷圖包含具有已被標(biāo)識(shí)用于保護(hù)帶設(shè)置的缺陷類型的至少一個(gè)缺陷位置；

接收用于將保護(hù)帶施加于所述缺陷類型的規(guī)則；以及

對(duì)于具有所述缺陷類型的每個(gè)缺陷位置，基于所述規(guī)則標(biāo)記要報(bào)廢的周圍裸片以形成被應(yīng)用保護(hù)帶的有缺陷裸片圖。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，還包括在轉(zhuǎn)換所述第一有缺陷裸片圖之前將所述被應(yīng)用保護(hù)帶的有缺陷裸片圖合并到所述第一有缺陷裸片圖中。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括合并針對(duì)所述晶圓的不同層創(chuàng)建的多個(gè)晶圓缺陷圖，以形成第一晶圓缺陷圖。

12.一種非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其具有程序指令的序列，當(dāng)由處理器執(zhí)行時(shí)，所述程序指令執(zhí)行提供半導(dǎo)體器件的方法，所述方法包括：

接收第一晶圓缺陷圖，其定義比較區(qū)域并標(biāo)識(shí)晶圓的視覺缺陷位置；

確定所述比較區(qū)域的格式，所述格式選自包括裸片到裸片、部分鏡頭到部分鏡頭和全鏡頭到全鏡頭的組；

如果所述比較格式不是裸片到裸片，則接收提供所述比較區(qū)域內(nèi)的裸片位置的映射信息；以及

提供標(biāo)識(shí)所述晶圓內(nèi)的裸片位置的晶圓布局圖。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其中，所述方法還包括將所述晶圓布局圖和所述第一晶圓缺陷圖組合，以創(chuàng)建標(biāo)識(shí)所述晶圓上的有缺陷裸片的第一有缺陷裸片圖。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其中，所述方法還包括將所述第一有缺陷裸片圖轉(zhuǎn)換為探針測(cè)試系統(tǒng)可用的格式，以形成第一文件并將所述第一文件提供給所述探針測(cè)試系統(tǒng)。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其中，所述方法還包括：

接收有缺陷裸片圖，所述有缺陷裸片圖標(biāo)識(shí)具有已被標(biāo)識(shí)用于保護(hù)帶設(shè)置的缺陷類型的至少一個(gè)缺陷位置；

接收用于將保護(hù)帶施加于所述缺陷類型的規(guī)則；

對(duì)于具有所述缺陷類型的每個(gè)缺陷位置，基于所述規(guī)則標(biāo)記要廢棄的周圍裸片以形成被應(yīng)用保護(hù)帶的有缺陷裸片圖；以及

在轉(zhuǎn)換所述第一有缺陷裸片圖之前，將所述被應(yīng)用保護(hù)帶的有缺陷裸片圖與所述第一有缺陷裸片圖合并。