[發明專利]用于對較大規模的空間和設備消毒的系統在審
| 申請號: | 201780042406.8 | 申請日: | 2017-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN109414516A | 公開(公告)日: | 2019-03-01 |
| 發明(設計)人: | J·斯塔克韋瑟;J·伊利扎德;J·溫;P·希爾特;T·泰勒 | 申請(專利權)人: | UV概念股份有限公司 |
| 主分類號: | A61L2/10 | 分類號: | A61L2/10 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 朱海濤 |
| 地址: | 美國科*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 設備消毒 醫療設施 空間消毒 醫療設備 病原體 圍場 光源 消毒 滾動 | ||
1.一種消毒系統,其包括:
腔室,所述腔室包括限定內部的第一側壁、第二側壁和后壁;
所述第一側壁、第二側壁和后壁中的每個的內表面,所述內表面包括至少一個反射單元;
容納在每個反射單元內的至少一個能量源;以及
圍繞所述腔室的底部部分設置的多個滾動元件。
2.根據權利要求1所述的消毒系統,其中,所述第一側壁和第二側壁從所述后壁的相對側基本垂直地延伸。
3.根據權利要求1或2所述的消毒系統,其中,每個反射單元都面向所述腔室的內部。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的消毒系統,其中,每個反射單元都限定基本凹入的形狀。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的消毒系統,其中,每個能量源都被容納在每個反射單元內,使得從所述能量源發射的能量被引導到所述腔室的內部中。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的消毒系統,其中,每個能量源都是紫外光源。
7.根據權利要求6所述的消毒系統,其中,每個紫外光源都被配置成發射在1米處至少100μW/cm2的強度的紫外線能量。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的消毒系統,其中,所述后壁的所述內表面的至少一部分包括反射表面。
9.根據權利要求1至8中任一項所述的消毒系統,其中,所述第一側壁、第二側壁和后壁中的一個或多個包括至少一個能移除面板。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的消毒系統,其中,所述腔室被配置成在所述腔室的內部接收一件設備。
11.根據權利要求1至10中任一項所述的消毒系統,還包括頂壁,所述頂壁被附接到所述第一側壁、第二側壁和后壁的頂部部分。
12.根據權利要求1至11中任一項所述的消毒系統,還包括用于關閉所述腔室的開口的前壁。
13.根據權利要求12所述的消毒系統,其中,所述前壁包括窗,所述窗包括允許能見到所述腔室內部且同時基本阻隔從所述能量源發射的能量離開所述腔室的材料。
14.根據權利要求12或13所述的消毒系統,其中,所述前壁的內表面的至少一部分包括至少一個反射單元或反射表面。
15.根據權利要求12至14中任一項所述的消毒系統,其中,所述前壁通過至少一個鉸鏈連接到所述第一側壁或第二側壁。
16.根據權利要求12至14中任一項所述的消毒系統,其中,所述前壁包括第一部分和第二部分,并且其中,所述前壁的所述第一部分通過至少一個鉸鏈連接到所述第一側壁,并且所述前壁的所述第二部分通過至少一個鉸鏈連接到所述第二側壁。
17.根據權利要求12至14中任一項所述的消毒系統,其中,所述前壁包括卷升門。
18.根據權利要求12至14中任一項所述的消毒系統,其中,所述前壁包括簾,所述簾被配置成關閉所述腔室的開口。
19.根據權利要求18所述的消毒系統,其中,所述簾的內表面的至少一部分包括反射表面。
20.根據權利要求18或19所述的消毒系統,還包括拉繩和滑輪,所述拉繩和滑輪被配置成使所述簾在打開構型和關閉構型之間運動。
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