[發明專利]包含含胺的表面活性劑的拋光組合物

有效

• 申請號: 201780038695.4
• 申請日: 2017-06-21
• 公開（公告）號: CN109415597B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: A.W.海因斯;李常怡
• 申請（專利權）人: 嘉柏微電子材料股份公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C09K3/14
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 宋莉;邢岳

1.化學-機械拋光組合物，包含：

(a)濕法氧化鈰研磨劑，

(b)包含含胺的錨定基團及亞乙基氧-亞丙基氧穩定化基團的表面活性劑，其中該表面活性劑具有1000道爾頓至5000道爾頓的平均分子量，

(c)芳族羧酸或雜芳族羧酸，及

(d)水，

其中該拋光組合物具有3至6的pH。

2.權利要求1的拋光組合物，其中，該濕法氧化鈰研磨劑以0.05重量％至2重量％的量存在于該拋光組合物中。

3.權利要求1或2的拋光組合物，其中，該表面活性劑是包含下式的含胺的錨定基團的陽離子型梳狀聚合物：

其中Ar為1,4-二取代的亞芳基或且n為2至10的整數。

4.權利要求3的拋光組合物，其中，該亞乙基氧-亞丙基氧穩定化基團具有式：-(CH(CH₃)CH₂O)_x(CH₂CH₂O)_yCH₃，其中x及y為2至25的獨立選擇的整數。

5.權利要求1或2的拋光組合物，其中，該表面活性劑包含一個下式的單((二乙基氨基)烷基)醚錨定基團及一個亞乙基氧-亞丙基氧穩定化基團：

6.權利要求5的拋光組合物，其中，該亞乙基氧-亞丙基氧穩定化基團具有式：-C₂H₄(OCH₂CH₂)_x(OCH(CH₃)CH₂)_yOH，其中x及y為2至25的獨立選擇的整數。

7.權利要求6的拋光組合物，其中，該亞乙基氧-亞丙基氧穩定化基團的亞乙基氧單元對亞丙基氧單元的比率為1:1至1:3。

8.權利要求1或2的拋光組合物，其中，該表面活性劑以10ppm至500ppm的量存在于該拋光組合物中。

9.權利要求1或2的拋光組合物，其中，該芳族羧酸或雜芳族羧酸為吡啶羧酸。

10.化學機械拋光基板的方法，包括：

(i)提供基板，

(ii)提供拋光墊，

(iii)提供化學-機械拋光組合物，其包含：

(a)濕法氧化鈰，

(b)包含含胺的錨定基團及亞乙基氧-亞丙基氧穩定化基團的表面活性劑，其中該表面活性劑具有1000道爾頓至5000道爾頓的平均分子量，

(c)芳族羧酸或雜芳族羧酸，及

(d)水，

其中該拋光組合物具有3至6的pH，

(iv)使該基板與該拋光墊及該化學-機械拋光組合物接觸，及

(v)使該拋光墊及該化學-機械拋光組合物相對于該基板移動，以磨除該基板的表面的至少一部分來拋光該基板。

11.權利要求10的方法，其中，該濕法氧化鈰研磨劑以0.05重量％至2重量％的量存在于該拋光組合物中。

12.權利要求10或11的方法，其中，該表面活性劑是包含下式的含胺的錨定基團的陽離子型梳狀聚合物：

其中Ar為1,4-二取代的亞芳基或且n為2至10的整數。

13.權利要求12的方法，其中，該亞乙基氧-亞丙基氧穩定化基團具有式：-(CH(CH₃)CH₂O)_x(CH₂CH₂O)_yCH₃，其中x及y為2至25的獨立選擇的整數。