[發(fā)明專利]晶片缺陷檢查及審查系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780020550.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-01-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109073565B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張時(shí)雨 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/95 | 分類號(hào): | G01N21/95;G01N21/88;G01N21/47 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 張世俊 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶片 缺陷 檢查 審查 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明揭示成像物鏡及配備有此類成像物鏡的檢查系統(tǒng)。所述成像物鏡可包含前物鏡,所述前物鏡經(jīng)配置以產(chǎn)生受衍射限制的中間圖像。所述成像物鏡還可包含中繼器,所述中繼器經(jīng)配置以接收由所述前物鏡產(chǎn)生的所述中間圖像。所述中繼器可包含三個(gè)球面鏡,所述球面鏡經(jīng)定位以將所述中間圖像的投影傳遞到固定圖像平面。
本申請(qǐng)根據(jù)35 U.S.C.§119(e)規(guī)定要求2016年2月3日申請(qǐng)的第62/290,586號(hào)美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)的權(quán)利。所述第62/290,586號(hào)美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)的全文以引用的方式并入本文中。
本申請(qǐng)涉及2016年2月26日申請(qǐng)的共同待審的第15/055,292號(hào)美國(guó)專利申請(qǐng)。所述第15/055,292號(hào)美國(guó)專利申請(qǐng)的全文以引用的方式并入本文中。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明大體上涉及檢查的領(lǐng)域,且特定來(lái)說(shuō)涉及半導(dǎo)體裝置的檢查。
背景技術(shù)
薄拋光板(例如硅晶片及類似物)是現(xiàn)代技術(shù)非常重要的一部分。例如,晶片可指用于制造集成電路及其它裝置的半導(dǎo)體材料的薄片。薄拋光板的其它實(shí)例可包含磁盤(pán)襯底、塊規(guī)及類似物。盡管此處所描述的技術(shù)主要指晶片,但應(yīng)了解,本技術(shù)還適用于其它類型的拋光板。術(shù)語(yǔ)晶片及術(shù)語(yǔ)薄拋光板在本發(fā)明中可互換使用。
晶片經(jīng)受缺陷檢查。預(yù)期用于執(zhí)行此類檢查的工具是高效且有效的。然而,應(yīng)注意,大規(guī)模電路集成及尺寸縮減的最近發(fā)展已向這種期望提出挑戰(zhàn)。即,隨著缺陷變得越來(lái)越小,既有檢查工具在檢測(cè)缺陷時(shí)變得不那么高效及有效。
就此來(lái)說(shuō),需要沒(méi)有前述缺點(diǎn)的改進(jìn)檢查系統(tǒng)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及一種成像物鏡。所述成像物鏡可包含前物鏡,所述前物鏡經(jīng)配置以產(chǎn)生中間圖像。所述成像物鏡還可包含中繼器,所述中繼器經(jīng)配置以接收由所述前物鏡產(chǎn)生的所述中間圖像。所述中繼器可包含三個(gè)球面鏡,所述球面鏡經(jīng)定位以將所述中間圖像的投影傳遞到固定圖像平面。
本發(fā)明的進(jìn)一步實(shí)施例涉及一種檢查系統(tǒng)。所述檢查系統(tǒng)可包含檢測(cè)器,所述檢測(cè)器定位于所述檢查系統(tǒng)內(nèi)的固定位置。所述檢查系統(tǒng)還可包含前物鏡,所述前物鏡經(jīng)配置以產(chǎn)生受衍射限制的中間圖像。所述檢查系統(tǒng)可進(jìn)一步包含中繼器,所述中繼器經(jīng)配置以接收由所述前物鏡產(chǎn)生的所述中間圖像。所述中繼器可包含三個(gè)球面鏡,所述球面鏡經(jīng)定位以將所述中間圖像的投影傳遞到經(jīng)定位在所述固定位置的所述檢測(cè)器。
本發(fā)明的額外實(shí)施例涉及一種成像物鏡。所述成像物鏡可包含前物鏡,所述前物鏡經(jīng)配置以產(chǎn)生受衍射限制的中間圖像。所述成像物鏡還可包含中繼器,所述中繼器經(jīng)配置以接收由所述前物鏡產(chǎn)生的所述中間圖像。所述中繼器可包含三個(gè)球面鏡,所述球面鏡經(jīng)定位以將所述中間圖像的投影傳遞到固定圖像平面。所述三個(gè)球面鏡可均為基本上不遮光的反射鏡,且可經(jīng)配置以相對(duì)于彼此具有不同曲率。
應(yīng)了解,前文大體描述及下文詳細(xì)描述兩者皆僅為示范性及解釋性,且未必限制本發(fā)明。并入本說(shuō)明書(shū)中且構(gòu)成本說(shuō)明書(shū)的一部分的附圖說(shuō)明本發(fā)明的主題。這些描述及圖式一起用于解釋本發(fā)明的原理。
附圖說(shuō)明
所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員通過(guò)參考附圖可更好地理解本發(fā)明的眾多優(yōu)點(diǎn),其中:
圖1是描繪根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例配置的檢查系統(tǒng)的框圖;
圖2是描繪根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例配置的示范性成像物鏡的光學(xué)布局的示意圖;
圖3是描繪圖2中展示的光學(xué)布局的一部分的示意圖;
圖4是描繪圖2中展示的光學(xué)布局的另一部分的示意圖;及
圖5是描繪展示用于圖2中展示的光學(xué)布局的各種放大率的多種變焦配置的重疊的光學(xué)布局的示意圖。
具體實(shí)施方式
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 防止數(shù)據(jù)泄密的訪問(wèn)、輸出審查方法及裝置、審查系統(tǒng)
- 一種審查結(jié)果自動(dòng)化處理裝置及方法
- 一種審查任務(wù)自動(dòng)化執(zhí)行的方法和系統(tǒng)
- 一種代碼審查方法及其設(shè)備
- 信息的檢測(cè)方法、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 基于增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)內(nèi)容的審查系統(tǒng)
- 基于區(qū)塊鏈的公平競(jìng)爭(zhēng)審查方法及系統(tǒng)
- 一種基于聯(lián)盟鏈的審查方法、裝置及系統(tǒng)
- CAD模型審查方法及系統(tǒng)
- 一種案件終本審查方法、裝置及設(shè)備





