[發(fā)明專利]放射線敏感性樹脂組合物及抗蝕劑

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780012824.2
• 申請日: 2017-03-16
• 公開（公告）號: CN108700812A
• 公開（公告）日: 2018-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 阿部信紀;佐藤信寬
• 申請（專利權(quán)）人: 日本瑞翁株式會社
• 主分類號: G03F7/038
• 分類號: G03F7/038;G03F7/004;G03F7/20
• 代理公司: 北京柏杉松知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11413
• 代理人: 趙曦;劉繼富

本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物含有堿溶性樹脂(a)、交聯(lián)成分(b)、吸收活性放射線的化合物(c)、以及堿性化合物(d)，上述堿溶性樹脂(a)含有超過70質(zhì)量％的酚醛清漆樹脂，上述交聯(lián)成分(b)是光酸產(chǎn)生劑(b1)和酸交聯(lián)劑(b2)的組合。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及放射線敏感性樹脂組合物及抗蝕劑，特別是涉及能夠形成截面為倒錐狀的抗蝕劑圖案的放射線敏感性樹脂組合物及具有倒錐形狀的抗蝕劑圖案的抗蝕劑。

背景技術(shù)

在光刻技術(shù)中，有時要求能夠形成截面為倒錐形狀的抗蝕劑圖案的抗蝕劑材料。具體而言，可舉出通過剝離法(lift off)而形成圖案的情況、形成有機EL顯示元件的電絕緣性的分隔壁的情況。例如，在使用截面為倒錐形狀的抗蝕劑圖案、通過剝離法而形成布線時，在截面為倒錐形狀的抗蝕劑圖案的最表面和底部使金屬布線材料堆積，其后，與在最表面堆積的金屬布線材料一同除去抗蝕劑圖案。如果抗蝕劑圖案的截面為倒錐形狀，則在堆積金屬布線材料時，能夠抑制金屬布線材料堆積于構(gòu)成倒錐形狀的側(cè)壁，因此，能夠使由堆積在抗蝕劑圖案的底部的金屬布線材料形成的布線圖案良好地形成。

因此，一直以來，提案有能夠形成倒錐形狀良好的抗蝕劑圖案的放射線敏感性樹脂組合物(參照例如專利文獻1)。專利文獻1的放射線敏感性樹脂組合物含有作為堿溶性樹脂的酚醛清漆樹脂、通過活性放射線的照射而產(chǎn)生酸的特定的化合物以及交聯(lián)劑。專利文獻1所使用的通過活性放射線的照射而產(chǎn)生酸的特定的化合物在特定的曝光波長示出最大吸光度并且保存穩(wěn)定性優(yōu)異。

此外，一直以來，提案有倒錐形狀良好并且能夠形成高靈敏度的抗蝕劑圖案的光致抗蝕劑組合物(參照例如專利文獻2)。專利文獻2的光致抗蝕劑組合物包含作為堿溶性樹脂的酚醛清漆樹脂、2種光酸產(chǎn)生劑、交聯(lián)劑以及溶劑。更具體而言，該光致抗蝕劑組合物所包含的2種光酸產(chǎn)生劑一種是易于分布于將光致抗蝕劑組合物涂敷于基板上而得到的涂膜的上部的含鹵光酸產(chǎn)生劑，另一種是可在曝光和顯影工序中使光致抗蝕劑組合物的靈敏度提高的三嗪系光酸產(chǎn)生劑。特別是，由于含鹵光酸產(chǎn)生劑偏在于涂膜上部，因而通過曝光、熱處理而使比較多的酸產(chǎn)生在涂膜上部，在涂膜上部形成比較多的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，由此，能夠形成良好的倒錐形狀的抗蝕劑圖案。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2002-287341號公報；

專利文獻2：日本特開2013-527940號公報。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

近年來，就可作為剝離抗蝕劑而使用的能夠形成倒錐形狀的抗蝕劑圖案的樹脂組合物而言，要求曝光抗蝕劑圖案后的熱處理工序中的熱處理時間的允許范圍寬，以及要求能夠根據(jù)需要良好地從基板剝離抗蝕劑。

但是，就專利文獻1所公開的放射線敏感性樹脂組合物、專利文獻2所公開的抗蝕劑組合物而言，在兼顧曝光工序后的熱處理時間的允許范圍的寬度以及抗蝕劑的良好的剝離性的方面有改善的余地。

因此，本發(fā)明的目的在于提供會拓寬曝光工序后的熱處理時間的允許范圍并且能夠使抗蝕劑的剝離性提高的放射線敏感性樹脂組合物。

此外，本發(fā)明的目的在于提供曝光工序后的熱處理時間的允許范圍寬、剝離性高的抗蝕劑。

用于解決問題的方案

本發(fā)明人為了解決上述問題而進行了深入研究。然后，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，通過對放射線敏感性樹脂組合物配合規(guī)定量以上的酚醛清漆樹脂作為堿溶性樹脂、進而配合堿性化合物，從而能夠拓寬曝光工序后的熱處理時間的允許范圍、進而使抗蝕劑的剝離性提高，以至完成了本發(fā)明。