[實用新型]芯片固晶真空貼裝頭有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721870260.X | 申請日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN207690766U | 公開(公告)日: | 2018-08-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅德均;杜和平 | 申請(專利權(quán))人: | 英特爾產(chǎn)品(成都)有限公司;英特爾公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京永新同創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11376 | 代理人: | 鐘勝光 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 吸嘴 真空吸附通道 芯片 加熱體 真空貼 固晶 吸附 裝頭 導(dǎo)熱性 開口 芯片封裝設(shè)備 本實用新型 芯片貼裝 真空吸附 體內(nèi)部 加熱 | ||
1.一種芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:包括加熱體,加熱體內(nèi)部帶有相互獨立的吸嘴真空吸附通道(1)和芯片真空吸附通道(2),加熱體底部通過所述吸嘴真空吸附通道(1)吸附有吸嘴(3),所述吸嘴(3)上設(shè)置有用于吸附芯片(7)的吸嘴開口,所述吸嘴開口的位置與所述芯片真空吸附通道(2)開口位置對應(yīng)。
2.如權(quán)利要求1所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述芯片真空吸附通道(2)上連接有真空傳感器(4)。
3.如權(quán)利要求2所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述真空傳感器(4)通過安裝座(8)安裝在吸嘴真空吸附通道(1)和芯片真空吸附通道(2)的真空管路上,所述安裝座(8)中設(shè)置有方向朝上的采樣通道(9),所述真空傳感器(4)通過該采樣通道(9)對吸嘴真空吸附通道(1)和/或芯片真空吸附通道(2)進行檢測。
4.如權(quán)利要求1所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述加熱體內(nèi)部的吸嘴真空吸附通道(1)和芯片真空吸附通道(2)均呈L型。
5.如權(quán)利要求1或4所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述吸嘴真空吸附通道(1)和芯片真空吸附通道(2)在加熱體中鏡像對稱設(shè)置。
6.如權(quán)利要求1所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述加熱體包括上半部的加熱片殼體(5)和下半部的加熱片(6)。
7.如權(quán)利要求6所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述上半部的加熱片殼體(5)和下半部的加熱片(6)之間通過螺栓鏈接。
8.如權(quán)利要求7所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述加熱片殼體(5)和下半部的加熱片(6)之間通過四顆螺栓鏈接,所述螺栓均帶有墊片,且至少有一顆螺栓的墊片為金屬墊片,另外的螺栓的墊片為云母墊片。
9.如權(quán)利要求6所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述加熱片殼體(5)的厚度大于加熱片(6)。
10.如權(quán)利要求6、7、8、9中任意一項所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述加熱片殼體(5)是由具有<10-6/K熱膨脹系數(shù)的陶瓷鑄造而成。
11.如權(quán)利要求6、7、8、9中任意一項所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述加熱片殼體(5)頂部裝配有冷卻裝置(11)。
12.如權(quán)利要求11所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述冷卻裝置(11)為氣體冷卻裝置,在芯片固晶真空貼裝頭工作時氣體冷卻裝置(11)向加熱片殼體(5)頂部通氣體冷卻。
13.如權(quán)利要求6、7、8、9中任意一項所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述加熱片(6)的加熱速度>130℃/s,平整度<0.2微米。
14.如權(quán)利要求1所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述吸嘴(3)的表面平整,吸嘴(3)用于吸附芯片(7)的底面上設(shè)置有一個芯片吸附凸臺。
15.如權(quán)利要求14所述的芯片固晶真空貼裝頭,其特征在于:所述芯片吸附凸臺比對應(yīng)要吸附的芯片(7)的尺寸在每個方向都小至少100微米。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





