[實用新型]閃爍體的余輝測試裝置有效
| 申請號: | 201721842602.7 | 申請日: | 2017-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN207851314U | 公開(公告)日: | 2018-09-11 |
| 發明(設計)人: | 張清軍;張文劍;鄒湘;孫立風;張戰強 | 申請(專利權)人: | 同方威視技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G01T7/00 | 分類號: | G01T7/00;G01N23/04 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 艾春慧 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 閃爍體 余輝 轉動體 射線發生器 測試裝置 勻速轉動 射線 本實用新型 余輝探測器 通斷控制 出射孔 穿過 測試 多次測試 射線照射 照射 | ||
1.一種閃爍體的余輝測試裝置,其特征在于,包括射線發生器(1)、轉動體(2)和余輝探測器,所述轉動體(2)用于設置于所述射線發生器(1)和待測閃爍體(A)之間且設置有用于使射線穿過的出射孔,所述轉動體(2)相對于所述射線發生器(1)勻速轉動以實現對所述待測閃爍體(A)進行射線照射的通斷控制,所述余輝探測器用于接收所述待測閃爍體(A)的余輝。
2.根據權利要求1所述的閃爍體的余輝測試裝置,其特征在于,所述轉動體(2)包括柱狀轉動體,所述柱狀轉動體繞其軸線轉動。
3.根據權利要求2所述的閃爍體的余輝測試裝置,其特征在于,所述出射孔包括穿過所述柱狀轉動體的軸線且在沿所述柱狀轉動體的直徑方向延伸的長條孔(21)。
4.根據權利要求3所述的閃爍體的余輝測試裝置,其特征在于,所述長條孔(21)的截面面積不變。
5.根據權利要求3所述的閃爍體的余輝測試裝置,其特征在于,所述長條孔(21)具有分別設置于所述柱狀轉動體的軸線兩側的第一分段(211)和第二分段(212),射線依次通過所述第一分段(211)和所述第二分段(212)以照射所述待測閃爍體(A),其中,從所述柱狀轉動體的軸線到徑向外側,所述第一分段(211)的截面面積不變,所述第二分段(212)的截面面積逐漸變大;或者,從所述柱狀轉動體的軸線到徑向外側,所述第一分段(211)和所述第二分段(212)的截面面積均逐漸變大。
6.根據權利要求5所述的閃爍體的余輝測試裝置,其特征在于,從所述柱狀轉動體的軸線到徑向外側,所述第一分段(211)和所述第二分段(212)的截面面積均逐漸變大且所述第一分段(211)和所述第二分段(212)的截面為扇形。
7.根據權利要求5所述的閃爍體的余輝測試裝置,其特征在于,所述第二分段的靠近所述第一分段的一端與所述第一分段平滑連接。
8.根據權利要求3所述的閃爍體的余輝測試裝置,其特征在于,所述長條孔的孔壁為平面。
9.根據權利要求1所述的閃爍體的余輝測試裝置,其特征在于,所述余輝測試裝置還包括用于驅動所述轉動體(2)轉動的電機。
10.根據權利要求1所述的閃爍體的余輝測試裝置,其特征在于,所述余輝測試裝置包括數據處理裝置,所述數據處理裝置根據所述余輝探測器接收到的余輝對待測閃爍體(A)的余輝數據進行計算處理。
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