[實用新型]一種X射線強度準(zhǔn)無損二維成像裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721838242.3
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN207611151U
• 公開（公告）日: 2018-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 任寬;江少恩;曹柱榮;姚立;謝旭飛;余波;陳進(jìn)文;王哲斌;王峰;胡智民;劉慎業(yè);徐濤;趙陽;劉偉;楊志文;董建軍;韋敏習(xí);馬波;黃天暄;張繼彥;丁永坤
• 申請（專利權(quán)）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: G01T1/29
• 分類號: G01T1/29;G01T1/16
• 代理公司: 中國工程物理研究院專利中心 51210
• 代理人: 翟長明;韓志英

1.一種X射線強度準(zhǔn)無損二維成像裝置，其特征在于：所述的成像裝置適用于50eV~80keV 的X射線，包括同軸心設(shè)置的可調(diào)光闌（2）、輔助瞄準(zhǔn)裝置（3）、X射線成像器件（4）、支撐與調(diào)節(jié)機構(gòu)（5）、屏蔽筒（6）和多重X射線成像板（7）；

所述的支撐與調(diào)節(jié)機構(gòu)（5）為水平放置的圓筒，輔助瞄準(zhǔn)裝置（3）卡在圓筒的靠前位置并面向靶（1），X射線成像器件（4）位于輔助瞄準(zhǔn)裝置（3）中心；所述的可調(diào)光闌（2）為圓環(huán)形并位于輔助瞄準(zhǔn)裝置（3）的前方，與支撐與調(diào)節(jié)機構(gòu)（5）的圓筒前端面配裝；所述的支撐與調(diào)節(jié)機構(gòu)（5）通過位于圓筒后部的調(diào)節(jié)器調(diào)節(jié)輔助瞄準(zhǔn)裝置（3）和X射線成像器件（4）的光學(xué)指向；所述的屏蔽筒（6）的前端與支撐與調(diào)節(jié)機構(gòu)（5）密封連接，后端與多重X射線成像板（7）密封連接，屏蔽筒（6）的中間部分從調(diào)節(jié)機構(gòu)（5）到多重X射線成像板（7）之間圓滑過渡；

所述的成像裝置的工作過程如下：

靶（1）發(fā)出的可見光在可調(diào)光闌（2）打開狀態(tài)下，通過輔助瞄準(zhǔn)裝置（3）和支撐與調(diào)節(jié)機構(gòu)（5）實現(xiàn)輔助X射線成像器件（4）對靶（1）的瞄準(zhǔn)；靶（1）發(fā)出的X射線在可調(diào)光闌（2）關(guān)閉狀態(tài)下，經(jīng)過X射線成像器件（4）成像到多重X射線成像板（7）上；通過計算機對多重X射線成像板（7）上的多重X光像進(jìn)行數(shù)據(jù)提取、轉(zhuǎn)換和疊加處理，獲得強度準(zhǔn)無損圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線強度準(zhǔn)無損二維成像裝置，其特征在于：所述的靶（1）為慣性約束聚變ICF使用的腔靶、球靶或平面靶中的一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線強度準(zhǔn)無損二維成像裝置，其特征在于：所述的可調(diào)光闌（2）在關(guān)閉狀態(tài)下，限光孔徑大于靶（1）尺寸，并且小于X射線成像器件（4）邊界尺寸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線強度準(zhǔn)無損二維成像裝置，其特征在于，所述的輔助瞄準(zhǔn)裝置（3）為雙光路瞄準(zhǔn)裝置、透鏡瞄準(zhǔn)裝置或多節(jié)限位瞄準(zhǔn)裝置中的一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線強度準(zhǔn)無損二維成像裝置，其特征在于：所述的X射線成像器件（4）為慣性約束聚變ICF中用于X射線成像的針孔及其陣列、狹縫及其陣列、異形孔及其陣列、KB鏡或彎晶中的一種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線強度準(zhǔn)無損二維成像裝置，其特征在于：所述的支撐與調(diào)節(jié)機構(gòu)（5）在垂直于輔助瞄準(zhǔn)裝置（3）的軸線的平面上進(jìn)行基于平面的X軸和Y軸的平面位移，和基于平面的X軸和Y軸的翻轉(zhuǎn)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線強度準(zhǔn)無損二維成像裝置，其特征在于：所述的屏蔽筒（6）材料為鉛，筒壁厚度大于5mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線強度準(zhǔn)無損二維成像裝置，其特征在于：所述的多重X射線成像板（7）的成像板數(shù)量大于等于1，并且小于等于8，成像板型號為MS、SR或TR中的一種。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線強度準(zhǔn)無損二維成像裝置，其特征在于：所述的多重X射線成像板（7）的成像板貼在一起，放置在X射線成像器件（4）的成像位置上；所述的50eV~80keV的 X射線為能量為50eV~80keV的單能或混合X射線。