[實(shí)用新型]轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)及包括其的電機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721822861.3
• 申請日: 2017-12-21
• 公開（公告）號(hào): CN207664734U
• 公開（公告）日: 2018-07-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張育州;王瑞東;黃俠昌;李峰巖
• 申請（專利權(quán)）人: 珠海格力節(jié)能環(huán)保制冷技術(shù)研究中心有限公司
• 主分類號(hào): H02K1/27
• 分類號(hào): H02K1/27;H02K1/28
• 代理公司: 北京博訊知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11593
• 代理人: 柳興坤

1.一種轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，包括轉(zhuǎn)子軸和永磁體，所述轉(zhuǎn)子軸包括永磁體安裝部，永磁體套裝到所述永磁體安裝部上并與所述永磁體安裝部粘接，其特征在于，所述永磁體安裝部的外壁面與所述永磁體的內(nèi)壁面之間形成粘結(jié)劑的容置空間，所述永磁體安裝部的外壁面和/或所述永磁體的內(nèi)壁面上設(shè)置有配合結(jié)構(gòu)，所述配合結(jié)構(gòu)使所述永磁體安裝部的外壁面與所述永磁體的內(nèi)壁面之間的徑向距離不一致。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述配合結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述永磁體安裝部上，所述配合結(jié)構(gòu)使得所述永磁體安裝部上形成有第一配合面和第二配合面，

所述第一配合面與所述永磁體內(nèi)壁面之間的距離小于所述第二配合面與所述永磁體內(nèi)壁面之間的距離。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述配合結(jié)構(gòu)包括形成在所述永磁體安裝部外壁面上的凸起結(jié)構(gòu)，所述凸起結(jié)構(gòu)沿所述永磁體安裝部的軸向延伸。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)設(shè)置有至少三個(gè)，至少三個(gè)所述凸起結(jié)構(gòu)沿所述永磁體安裝部的周向均勻分布。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)包括與所述永磁體安裝部的外壁面相重合的第一面和遠(yuǎn)離所述永磁體安裝部的第二面，所述第二面位于與所述永磁體同軸的圓柱面上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第二面構(gòu)成所述第一配合面，所述永磁體安裝部上未設(shè)置所述凸起結(jié)構(gòu)的壁面構(gòu)成所述第二配合面。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第二面的面積小于所述第一面的面積。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一面的橫截圓弧的圓心角為θ，θ的取值范圍為0°-10°。

9.根據(jù)權(quán)利要求3-8之一所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)沿所述永磁體安裝部的整個(gè)軸向延伸，和/或，

所述凸起結(jié)構(gòu)在所述永磁體安裝部的軸向上形成有間斷部。

10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述配合結(jié)構(gòu)包括形成在所述永磁體安裝部外壁面上的凹槽結(jié)構(gòu)，所述凹槽結(jié)構(gòu)沿所述永磁體安裝部的軸向延伸。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述永磁體安裝部上未設(shè)置所述凹槽結(jié)構(gòu)的部分的壁面構(gòu)成所述第一配合面，所述凹槽結(jié)構(gòu)的底壁構(gòu)成所述第二配合面。

12.一種電機(jī)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-11之一所述的轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)。