[實用新型]基于OVD的控制給氣量玻璃微粒沉積均勻化裝置

有效

• 申請號: 201721791901.2
• 申請日: 2017-12-20
• 公開（公告）號: CN208087493U
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發明（設計）人: 晏青松
• 申請（專利權）人: 藤倉烽火光電材料科技有限公司
• 主分類號: C03B37/018
• 分類號: C03B37/018
• 代理公司: 武漢智權專利代理事務所(特殊普通合伙) 42225
• 代理人: 張凱

本實用新型公開了一種基于OVD的控制給氣量玻璃微粒沉積均勻化裝置，涉及光纖預制棒制造技術領域，該裝置包括反應容器、噴燈、給氣設備、外徑測量儀、移動部件、給氣調整器和給氣控制器。反應容器用于收容玻璃微粒沉積體。噴燈位于反應容器內部，用于向玻璃微粒沉積體的側面噴射玻璃顆粒。給氣設備包括給氣口以及與給氣口連通的給氣管道，給氣口位于反應容器內部，用于向噴燈提供氣流。外徑測量儀位于反應容器內部，用于測量玻璃微粒沉積體的外徑。移動部件用于同時驅動噴燈、給氣口和外徑測量儀沿著玻璃微粒沉積體的軸向移動。給氣調整器用于控制給氣口的氣體流量。給氣控制器分別與外徑測量儀以及給氣調整器信號連接。

技術領域

本實用新型涉及光纖預制棒制造技術領域，具體涉及一種基于 OVD的控制給氣量玻璃微粒沉積均勻化裝置。

背景技術

OVD工藝又稱外部氣相化學沉積工藝(Outside Vapour Deposition)其對光纖預制棒的外徑沒有限制，能夠較好的制備生產直徑較大的預制棒，同時制造成本低，使得OVD工藝成為目前沉積法制造光纖預制棒的主要工藝之一。

該工藝使用含有四氯化硅(SiCl4)，四氯化硅的原料在氧氣環境中通過噴燈與氫氣(或甲烷)/氧氣火焰一起噴向轉動的靶棒，上述物質水解反應生成的二氧化硅顆粒并隨著熱涌效應吸附沉積到靶棒。在沉積過程中，噴燈與靶棒之間進行相對運動，使得二氧化硅細微顆粒逐層沉積在靶棒上直至達到設計重量和直徑，最終得到光纖預制棒的中間產品。

目前，設置有靶棒和噴燈的反應容器內是固定設置給氣口的。該給氣口向反映容器內噴出氣體能夠均衡反應容器內部壓力和物質。但是，反應容器內部設有給氣口的一端和未設一端常常溫度不均勻，且氣體流動偏差較大。而在反應過程中，二氧化硅顆粒的沉積量十分依賴其周圍的氣體流動速度，氣體流動越快，玻璃微粒流動越快，則不容易吸附在靶棒上，反之二氧化硅顆粒則能夠較快的吸附沉積。因此，反應容器內溫度和氣流的不均勻會導致噴燈靶棒上，同樣的沉積時間下不同位置的二氧化硅顆粒沉積量不同，最終造成光纖制備失敗。

實用新型內容

針對現有技術中存在的缺陷，本實用新型的目的在于提供一種基于OVD的控制給氣量玻璃微粒沉積均勻化裝置，其能夠根據玻璃微粒沉積體外徑變化調整給氣口給氣量，使得制備的玻璃微粒沉積體外徑均勻。

為達到以上目的，本實用新型采取的技術方案是：

一種基于OVD的控制給氣量玻璃微粒沉積均勻化裝置，其特征在于，其包括：

反應容器，用于收容玻璃微粒沉積體；

噴燈，其位于所述反應容器內部，用于向所述玻璃微粒沉積體的側面噴射玻璃顆粒；

給氣設備，其包括給氣口以及與給氣口連通的給氣管道，所述給氣口位于所述反應容器內部，用于向所述噴燈提供氣流；

外徑測量儀，其位于所述反應容器內部，用于測量所述玻璃微粒沉積體的外徑；

移動部件，用于同時驅動所述噴燈、所述給氣口和所述外徑測量儀沿著所述玻璃微粒沉積體的軸向移動；

給氣調整器，用于控制所述給氣口的氣體流量；

給氣控制器，所述給氣控制器分別與所述外徑測量儀以及所述給氣調整器信號連接。

在上述技術方案的基礎上，所述給氣調整器包括擋板和驅動裝置，所述擋板被配置為可伸入所述給氣管道，所述驅動裝置用于驅動所述擋板移動。

在上述技術方案的基礎上，所述給氣調整器包括電動風閥和調節裝置，所述電動風閥固設于所述給氣管道內，所述調節裝置用于調節電動風閥葉片的偏轉。

在上述技術方案的基礎上，所述外徑測量儀為激光測量儀。

在上述技術方案的基礎上，所述給氣控制器為PLC設備或專用 PC。