[實(shí)用新型]一種非接觸式吸盤有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721756842.5 | 申請日: | 2017-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN207564499U | 公開(公告)日: | 2018-07-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 居建華 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫思銳電子設(shè)備科技有限公司 |
| 主分類號: | B25J15/06 | 分類號: | B25J15/06 |
| 代理公司: | 北京科家知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 陳娟 |
| 地址: | 214000 江蘇省無錫市新吳區(qū)無*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 吸盤體 進(jìn)氣口 內(nèi)芯 安裝孔 進(jìn)氣管 風(fēng)擋 氣道 非接觸式吸盤 出氣孔 吸盤 本實(shí)用新型 出風(fēng)間隙 出氣間隙 頂部設(shè)置 高速流動 高速輸出 高壓氣體 區(qū)域形成 輸出 進(jìn)氣孔 吸附力 中高速 中空的 負(fù)壓 噴出 吸附 連通 體內(nèi) 貫穿 | ||
本實(shí)用新型公開了一種非接觸式吸盤,包括:吸盤體,所述吸盤體內(nèi)設(shè)置有貫穿的安裝孔,所述安裝孔的一端內(nèi)設(shè)置內(nèi)芯,另一端為連接進(jìn)氣管的進(jìn)氣口;所述內(nèi)芯內(nèi)設(shè)置有中空的氣道,所述氣道一端對應(yīng)所述進(jìn)氣口,另一端連通出氣孔;所述內(nèi)芯的頂部設(shè)置有風(fēng)擋,所述風(fēng)擋與所述吸盤體之間留有出風(fēng)間隙。進(jìn)氣口內(nèi)設(shè)置有安裝孔,方便與進(jìn)氣管連接進(jìn)氣管內(nèi)的高壓氣體進(jìn)入到進(jìn)氣孔內(nèi),通過內(nèi)芯的氣道,從出氣孔輸出,輸出的氣體從,風(fēng)擋與吸盤體的出氣間隙中高速噴出,高速輸出的氣體向吸盤體四周高速流動在吸盤體上方的區(qū)域形成負(fù)壓,產(chǎn)生吸附力,將產(chǎn)品吸附起來。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及吸盤技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種非接觸式吸盤。
背景技術(shù)
真空吸盤是真空設(shè)備執(zhí)行器之一,廣泛的應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)中的自動化設(shè)備,如在電子、建筑、機(jī)械制造等行業(yè)均有應(yīng)用。真空吸盤具有結(jié)構(gòu)簡單,吸附力大等優(yōu)點(diǎn)。但是由于其較強(qiáng)的吸附力,因此很容易在產(chǎn)品表面形成吸附痕跡,對產(chǎn)品表面的潔凈度產(chǎn)生影響。在一些產(chǎn)品精度要求非常高的行業(yè),例如半導(dǎo)體器件制造,這種缺陷表現(xiàn)的尤為突出,無法滿足產(chǎn)品制造性能的要求。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種非接觸式吸盤。以解決現(xiàn)有技術(shù)中真空吸盤容易在產(chǎn)品表面形成吸附痕跡,對產(chǎn)品表面的潔凈度產(chǎn)生影響的技術(shù)問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:本實(shí)用新型一種非接觸式吸盤,包括:吸盤體,所述吸盤體內(nèi)設(shè)置有貫穿的安裝孔,所述安裝孔的一端內(nèi)設(shè)置內(nèi)芯,另一端為連接進(jìn)氣管的進(jìn)氣口;所述內(nèi)芯內(nèi)設(shè)置有中空的氣道,所述氣道一端對應(yīng)所述進(jìn)氣口,另一端連通出氣孔;所述內(nèi)芯的頂部設(shè)置有風(fēng)擋,所述風(fēng)擋與所述吸盤體之間留有出風(fēng)間隙。
優(yōu)選的,所述出氣孔下方,所述內(nèi)芯的外周側(cè)設(shè)置有止擋環(huán)。
優(yōu)選的,所述安裝孔的內(nèi)壁設(shè)置臺階,所述止擋環(huán)與所述臺階相配合。
優(yōu)選的,所述出氣孔設(shè)置有四個(gè),四個(gè)所述出氣孔均勻分布在所述內(nèi)芯的外周側(cè)。
優(yōu)選的,所述吸盤體的頂端設(shè)置有凸起的支撐部。
優(yōu)選的,所述支撐部設(shè)置有個(gè),均布在所述吸盤體的頂端。
優(yōu)選的,所述吸盤體的頂面為凹下的錐面,所述風(fēng)擋位于所述錐面上,所述風(fēng)擋的頂面與所述吸盤體的頂面位于同一水平面。
優(yōu)選的,所述風(fēng)擋與所述內(nèi)芯的連接處為圓弧面。
優(yōu)選的,所述安裝孔的內(nèi)壁設(shè)置有螺紋,所述內(nèi)芯通過螺紋設(shè)置在所述安裝孔內(nèi)。
優(yōu)選的,所述吸盤體的外徑為20cm。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型的非接觸式吸盤,主要用于半導(dǎo)體芯片加工,等一些對于產(chǎn)品表面潔凈度要求非常高的自動化設(shè)備上。進(jìn)氣口內(nèi)設(shè)置有安裝孔,方便與進(jìn)氣管連接進(jìn)氣管內(nèi)的高壓氣體進(jìn)入到進(jìn)氣孔內(nèi),通過內(nèi)芯的氣道,從出氣孔輸出,輸出的氣體從,風(fēng)擋與吸盤體的出氣間隙中高速噴出,高速輸出的氣體向吸盤體四周高速流動在吸盤體上方的區(qū)域形成負(fù)壓,產(chǎn)生吸附力,將產(chǎn)品吸附起來,結(jié)構(gòu)簡單,不會在產(chǎn)品表面吸痕,適用于對表面潔凈度要求很高的產(chǎn)品生產(chǎn)。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的立體爆炸結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型的吸盤體整體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實(shí)用新型的剖面示意圖;
圖4為本實(shí)用新型的立體示意圖;
圖5為本實(shí)用新型的吸盤體的剖面示意圖。
圖中:1、吸盤體;101、安裝孔;102、支撐部;103、進(jìn)氣口;104、錐面;2、內(nèi)芯;201、出氣孔;202、風(fēng)擋;203、止擋環(huán);204、出風(fēng)間隙。
具體實(shí)施方式
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