[實用新型]一種具有滾筒定位機構的電鍍槽

有效

• 申請號: 201721700999.6
• 申請日: 2017-12-08
• 公開（公告）號: CN207738871U
• 公開（公告）日: 2018-08-17
• 發明（設計）人: 龐美興
• 申請（專利權）人: 蘇州市安派精密電子有限公司
• 主分類號: C25D17/02
• 分類號: C25D17/02;C25D17/20
• 代理公司: 北京恩赫律師事務所 11469
• 代理人: 趙文成

本實用新型提供了一種具有滾筒定位機構的電鍍槽,包括至少兩個工作單元，每個工作單元包括電鍍槽、設置于每個電鍍槽兩側的滾筒定位機構，滾筒定位機構包括成對設置的定位塊，定位塊的側面呈“V”型；每個電鍍槽的兩側均設置有驅動機構，驅動機構包括驅動電機和連接驅動電機的驅動齒輪，驅動齒輪與滾筒上兩側的主動輪相外嚙合并傳動連接；定位塊的底部還設置有連接板，定位塊和連接板設置為一體式結構，連接板的兩邊通過鎖緊件固定連接電鍍槽；采用本實用新型所提供的具有滾筒定位機構的電鍍槽，能夠同時進行多個工序，實現流水線式的生產模式，可以進行大批量生產工作，提高生產效率，滿足大企業規模的生產需求。

技術領域

本實用新型涉及一種電鍍槽，具體而言，涉及一種具有滾筒定位機構的電鍍槽。

背景技術

電鍍(Electroplating)就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化(如銹蝕)，提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進美觀等作用。

電鍍時，鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的工件做陰極，鍍層金屬的陽離子在待鍍工件表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質或尺寸。電鍍能增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導電性、光滑性、耐熱性和表面美觀。

電鍍時將金屬元器件放入滾筒內，之后將裝有金屬元器件的滾筒放置于電鍍槽中，電鍍槽中具有電鍍液，因此可以將金屬元器件進行電鍍。但是傳統的電鍍槽，由于其自身結構的缺陷，一個電鍍槽只能對應一個電鍍滾筒，同一時間段也只能進行一個工序，因此工作效率低，只適合小作坊和小企業規模的生產。

實用新型內容

鑒于此，本實用新型提供了一種具有滾筒定位機構的電鍍槽，旨在解決現有技術中生產效率低的問題，能夠同時進行多個工序，實現流水線式的生產模式，可以進行大批量生產工作，提高生產效率，滿足大企業規模的生產需求。

本實用新型提供了一種具有滾筒定位機構的電鍍槽,包括至少兩個工作單元，每個所述工作單元包括電鍍槽、設置于每個所述電鍍槽兩側的滾筒定位機構，所述滾筒定位機構包括成對設置的定位塊，所述定位塊的側面呈“V”型；每個所述電鍍槽的兩側均設置有驅動機構，所述驅動機構包括驅動電機和連接所述驅動電機的驅動齒輪，所述驅動齒輪與滾筒上兩側的主動輪相外嚙合并傳動連接；所述定位塊的底部還設置有連接板，所述定位塊和連接板設置為一體式結構，所述連接板的兩邊通過鎖緊件固定連接所述電鍍槽。

進一步地，所述滾筒定位機構還包括設置于所述滾筒上的定位架，所述定位架的自由端成對設置有定位板，所述定位板和所述定位塊的位置上下相對應設置。

進一步地，所述電鍍槽的底部鋪設有隔離網，所述隔離網上的四周連接所述電鍍槽的側壁，所述隔離網和所述電鍍槽的槽底具有容納空間。

進一步地，所述容納空間內設置有凈化處理系統，其包括初級過濾單元和中級處理單元，所述初級處理單元為過濾網和過濾棉，所述中級處理單元為活性炭。

進一步地，所述凈化處理系統還包括高級處理單元，所述高級處理單元內設置有化學添加劑，所述化學添加劑內包括消毒劑。

進一步地，所述電鍍槽的底部設置有排污管，所述排污管設置于所述凈化處理系統的出口處。