[實(shí)用新型]一種低透光率離線淺灰色雙銀鍍膜玻璃有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721556803.0 | 申請日: | 2017-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN207552188U | 公開(公告)日: | 2018-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳波;董華明;付可鵬;田福勇 | 申請(專利權(quán))人: | 上海耀皮玻璃集團(tuán)股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 鞏克棟 |
| 地址: | 201203 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 阻擋層 氮化錳鐵 薄膜層 玻璃基 硅合金 介質(zhì)層 雙銀鍍膜玻璃 本實(shí)用新型 淺灰色 透光率 離線 磁控濺射 鍍膜玻璃 雙銀鍍膜 隔熱 光熱 阻隔 玻璃 | ||
1.一種離線淺灰色雙銀鍍膜玻璃,其特征在于,所述鍍膜玻璃包括玻璃基底(1)以及依次設(shè)于玻璃基底上的氮化錳鐵層(2)、硅合金薄膜層(3)、第一介質(zhì)層(4)、第一阻擋層(5)、第一Ag層(6)、第二阻擋層(7)、第二介質(zhì)層(8)、第三阻擋層(9)、第二Ag層(10)、第四阻擋層(11)和第三介質(zhì)層(12);所述硅合金薄膜層(3)的厚度小于氮化錳鐵層(2)的厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜玻璃,其特征在于,所述氮化錳鐵層(2)的厚度為10nm~25nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鍍膜玻璃,其特征在于,所述硅合金薄膜層(3)中的合金為錳鈦合金,所述硅合金薄膜層(3)的厚度為10nm~15nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鍍膜玻璃,其特征在于,所述第一介質(zhì)層(4)為氮化硅層,其厚度為15nm~20nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鍍膜玻璃,其特征在于,所述第一阻擋層(5)為鎳鉻層,其厚度為2nm~13nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鍍膜玻璃,其特征在于,所述第一Ag層(6)和第二Ag層(10)的厚度均為5nm~15nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鍍膜玻璃,其特征在于,所述第二阻擋層(7)、第三阻擋層(9)和第四阻擋層(11)均為氧化鎳鉻層,其厚度均為2nm~15nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鍍膜玻璃,其特征在于,所述第二介質(zhì)層(8)為氮化硅層,其厚度為15nm~20nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鍍膜玻璃,其特征在于,所述第三介質(zhì)層(12)為氮化硅層,其厚度為30nm~43nm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海耀皮玻璃集團(tuán)股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司,未經(jīng)上海耀皮玻璃集團(tuán)股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201721556803.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





