[實用新型]一種多晶硅原料清洗裝置有效
| 申請號: | 201721531670.1 | 申請日: | 2017-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN207872669U | 公開(公告)日: | 2018-09-18 |
| 發明(設計)人: | 王海 | 申請(專利權)人: | 福能科技江蘇有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/04 | 分類號: | B08B3/04;B08B3/10 |
| 代理公司: | 常州佰業騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 陳麗萍 |
| 地址: | 223600 江蘇省宿*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清洗池 皮帶輸送機構 輸送段 底壁 本實用新型 多晶硅原料 傾斜方向 傾斜設置 清洗裝置 震動電機 水平設置 一端設置 重力作用 自動輸送 多晶硅 緩沖層 泄淤閥 滑動 側壁 皮帶 沉淀 中和 | ||
本實用新型公開了一種多晶硅原料清洗裝置,屬于多晶硅領域。該裝置包括皮帶輸送機構和清洗池,皮帶輸送機構為由第一輸送段和第二輸送段構成的V字形結構,所述第一輸送段傾斜設置,所述第二輸送段水平設置;清洗池的底壁傾斜設置且傾斜方向與所述皮帶輸送機構的傾斜方向相同,所述清洗池的底壁較低的一端設置有泄淤閥,所述皮帶輸送機構至少部分位于所述清洗池內,所述第二輸送段露出于所述清洗池,所述清洗池的側壁具有緩沖層,所述底壁上設置有震動電機,本實用新型利用皮帶輸送機構,在皮帶的帶動下實現自動輸送,傾斜的底壁可以將中和后的鹽類或污物由于重力作用而自動向較低一端滑動,通過震動電機可以防止污物或鹽類在底壁上沉淀。
技術領域
本實用新型涉及多晶硅領域,特別涉及一種多晶硅原料清洗裝置。
背景技術
現有的多晶硅原料處理過程中,設有原料清洗工序,目的是清洗原料中含有的酸堿及其它雜質,該工序通常的做法是將原料放入清洗槽內通入清水進行清洗,有的還需要利用酸液或堿液進行沖洗。但是目前大多數清洗裝置設置不太合理,清洗后的雜質難以去除,酸堿中和后形成鹽類會積淀在底壁上,難以清理,另外,由于水流平緩,清洗效果并不理想。由于表面張力的作用,特別是大件板裝物料,清洗完畢后不好取出。
實用新型內容
本實用新型提供一種多晶硅原料清洗裝置,可以解決背景技術中所指出的問題。
一種多晶硅原料清洗裝置,包括:
皮帶輸送機構,其為由第一輸送段和第二輸送段構成的V字形結構,所述第一輸送段傾斜設置,所述第二輸送段水平設置;
清洗池,其底壁傾斜設置且傾斜方向與所述皮帶輸送機構的傾斜方向相同,所述清洗池的底壁較低的一端設置有泄淤閥,所述皮帶輸送機構至少部分位于所述清洗池內,所述第二輸送段露出于所述清洗池,所述清洗池的側壁具有緩沖層,所述底壁上設置有震動電機。
更優地,所述緩沖層為橡膠層。
本實用新型提供一種多晶硅原料清洗裝置,利用皮帶輸送機構,第一輸送段沒在水面之下,不影響原料的清洗,當物料增多,原來漂浮至后端時一端接觸皮帶輸送機構的皮帶,在皮帶的帶動下實現自動輸送,最終落入預定的物料區,傾斜的底壁可以將中和后的鹽類或污物由于重力作用而自動向較低一端滑動,通過震動電機可以防止污物或鹽類在底壁上沉淀,影響清除效果,另外,通過震動電機可以使水體產生波動,從而實現更好的清洗效果。
附圖說明
圖1為本實用新型提供的一種多晶硅原料清洗裝置結構示意圖。
附圖標記說明:
10-清洗池,11-底壁,20-第一支架,21-驅動電機,22-皮帶,23-第二支架,24-第三支架,25-第四支架,30-緩沖層,40-震動電機。
具體實施方式
下面結合附圖,對本實用新型的一個具體實施方式進行詳細描述,但應當理解本實用新型的保護范圍并不受具體實施方式的限制。
如圖1所示,本實用新型實施例提供的一種多晶硅原料清洗裝置,包括:
皮帶22輸送機構,其為由第一輸送段和第二輸送段構成的V字形結構,第一輸送段傾斜設置,第二輸送段水平設置,清洗池10內設置有第一支架20和第二支架23,輸送方向的末端設置有第三支架24和第四支架25,每個支架上設置有滾輪,皮帶22安裝在滾輪上,第一支架20的高度較第二支架23的高度低,第二支架23較第三支架24的高度低,第三支架24和第四支架25等高,由此形成大V字形結構,第二支架23的設置可以使皮帶22較長段地沒入水下,第三支架24上設置有驅動電機21,用于驅動第三支架24上的滾輪轉動從而帶動皮帶22轉動;
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