[實用新型]一種用于軌道涂膠機背面清洗的自動化噴頭組件有效
| 申請號: | 201721521255.8 | 申請日: | 2017-11-14 |
| 公開(公告)號: | CN207521345U | 公開(公告)日: | 2018-06-22 |
| 發明(設計)人: | 潘鈣;張凡文;王毅 | 申請(專利權)人: | 揚州揚杰電子科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/02 | 分類號: | B08B3/02 |
| 代理公司: | 揚州市蘇為知識產權代理事務所(普通合伙) 32283 | 代理人: | 周全;陶得天 |
| 地址: | 225008 江蘇省揚*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴頭組件 涂膠機 噴頭 清洗 噴頭座 自動化 背面 設備成本 軌道 固定座 晶片 半導體制造設備 本實用新型 光刻膠殘留 清洗噴頭 清洗效果 豎直設置 側面 內驅動 驅動環 鉸接 便利 源頭 污染 改進 保證 | ||
一種用于軌道涂膠機背面清洗的自動化噴頭組件。涉及半導體制造設備領域,尤其涉及其中清洗噴頭的改進。提出了一種結構精巧、使用方面、穩定性高且可對晶片背面的邊緣以及側面進行高效清洗的用于軌道涂膠機背面清洗的自動化噴頭組件。設在軌道涂膠機的下方,所述自動化噴頭組件包括固定座、內驅動環、外驅動環、噴頭座和噴頭,噴頭座豎直設置、且鉸接在固定座中,噴頭固定連接在噴頭座的頂端、且與噴頭的軸心呈20?80°夾角;本實用新型在不提高設備成本前提的情況下,有效杜絕了晶片背面的邊緣以及側面有光刻膠殘留的問題,從源頭上避免了產品的污染,保證了產品的品質,從整體上具有設備成本低、清洗效果好以及使用便利等優點。
技術領域
本實用新型涉及半導體制造設備領域,尤其涉及其中清洗噴頭的改進。
背景技術
目前,晶片在經過光刻工藝涂膠步驟時,完整的步驟需經過以下過程。首先經過HMDS處理,然后經過動態噴膠,勻速旋轉形成具有目標厚度的均勻PR膜層,接著進行去邊(包括正面洗邊、背面清洗)處理,最后烘烤堅膜。其中,在進行背面清洗時,由于硬件設計問題,無法對晶片背面的邊緣以及側面進行清洗,使得晶片背面的邊緣以及側面有光刻膠殘留。這樣,在經過堅膜烘烤后,殘留在晶片背面的邊緣以及側面的光刻膠將出現硬化,并在后序轉運過程中因輕微碰撞而脫落到晶片正面,出現產品被污染甚至報廢的問題。
實用新型內容
本實用新型針對以上問題,提出了一種結構精巧、使用方面、穩定性高且可對晶片背面的邊緣以及側面進行高效清洗的用于軌道涂膠機背面清洗的自動化噴頭組件。
本實用新型的技術方案為:設在軌道涂膠機的下方,所述自動化噴頭組件包括固定座、內驅動環、外驅動環、噴頭座和噴頭,所述噴頭座豎直設置、且鉸接在固定座中,所述噴頭固定連接在噴頭座的頂端、且與噴頭的軸心呈20-80°夾角;
所述外驅動環和內驅動環均可旋轉的連接在固定座的頂面上、且同軸心,所述噴頭座位于外驅動環和內驅動環之間,所述噴頭座的側壁上設有若干被動齒,所述外驅動環的內壁上設有若干與被動齒適配的外主動齒,所述內驅動環的外壁上設有若干與被動齒適配的內主動齒。
若干所述外主動齒均分為若干段,每段外主動齒的長度等于噴頭座周長的一半;若干所述內主動齒均分為若干段,每段內主動齒的長度等于噴頭座周長的一半,所述外主動齒和內主動齒交錯設置。
所述自動化噴頭組件還包括旋轉驅動組件,所述旋轉驅動組件固定連接在固定座中、且用于同時驅動內驅動環和外驅動環旋轉。
本實用新型在不提高設備成本前提的情況下,有效杜絕了晶片背面的邊緣以及側面有光刻膠殘留的問題,從源頭上避免了產品的污染,保證了產品的品質,從整體上具有設備成本低、清洗效果好以及使用便利等優點。
附圖說明
圖1是本案的結構示意圖,
圖2是圖1的A-A向剖視圖;
圖中1是軌道涂膠機,2是固定座,3是內驅動環,30是內主動齒,4是外驅動環,40是外主動齒,5是噴頭座,50是被動齒,6是噴頭。
具體實施方式
本實用新型如圖1-2所示,設在軌道涂膠機1的下方,所述自動化噴頭組件包括固定座2、內驅動環3、外驅動環4、噴頭座5和噴頭6,所述噴頭座5豎直設置、且鉸接在固定座2中,所述噴頭6固定連接在噴頭座5的頂端、且與噴頭座5的軸心呈20-80°夾角;
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