[實(shí)用新型]一種分布式磁控濺射靶

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721410725.3
• 申請(qǐng)日: 2017-10-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN207498459U
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 秦正春;李東濱;吳疆;馮斌;王德苗;金浩
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 蘇州求是真空電子有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種分布式磁控濺射靶，包括自上而下設(shè)置的密封罩、真空安裝環(huán)、絕緣環(huán)和陰極板，還包括靶材組件、固定組件和密封圈；在垂直于陰極板的方向上設(shè)有若干個(gè)安裝靶材組件的磁芯孔，所述的磁芯孔的分布與所鍍膜的三維產(chǎn)品相對(duì)應(yīng)；所述的靶材組件包括電磁線(xiàn)圈、磁芯、和球形靶材；所述的球形靶材安裝在陰極板上與密封腔相對(duì)的一側(cè)，直接與陰極板接觸；所述的磁芯貫穿磁芯孔，所述的磁芯一端為半球形并置于球形靶材內(nèi)，另一端位于密封腔中，套有電磁線(xiàn)圈；所述的磁芯通過(guò)固定組件與陰極板相連。本實(shí)用新型可實(shí)現(xiàn)立體產(chǎn)品的各個(gè)方向的鍍膜的均勻性。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于磁控濺射領(lǐng)域，具體涉及一種分布式磁控濺射靶。

背景技術(shù)

常見(jiàn)的磁控濺射靶有平面靶和柱形靶，用于平面結(jié)構(gòu)產(chǎn)品的鍍膜，而對(duì)于三維形狀鍍膜存在各個(gè)面鍍膜均勻性和臺(tái)階覆蓋差等問(wèn)題。尤其是對(duì)于類(lèi)似于通信領(lǐng)域常用的腔體濾波器上的杯型腔體的鍍膜，若采用傳統(tǒng)的平面靶材或柱形靶材，無(wú)法實(shí)現(xiàn)其內(nèi)壁各個(gè)方向的均勻鍍膜。

實(shí)用新型內(nèi)容

針對(duì)上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提出一種分布式磁控濺射靶，可以根據(jù)須鍍膜器件的杯體分布情況靈活地調(diào)整靶的分布，并將靶半置入被體內(nèi)進(jìn)行磁控濺射鍍膜，從而在杯體內(nèi)壁的各個(gè)方向上實(shí)現(xiàn)相比傳統(tǒng)平面靶或柱形靶更為均勻的鍍膜。

實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，達(dá)到上述技術(shù)效果，本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種分布式磁控濺射靶，包括自上而下設(shè)置的密封罩、真空安裝環(huán)、絕緣環(huán)和陰極板，還包括靶材組件、固定組件和密封圈；

所述的密封罩通過(guò)固定組件安裝在真空安裝環(huán)上，兩者之間的空隙形成密封腔；

所述的陰極板，真空安裝環(huán)和夾在中間的絕緣環(huán)通過(guò)固定組件緊密的結(jié)合在一起，與板面的垂直方向上設(shè)有若干個(gè)安裝靶材組件的磁芯孔，所述的磁芯孔的分布與所鍍膜的三維產(chǎn)品相對(duì)應(yīng)；

所述的靶材組件包括電磁線(xiàn)圈、磁芯、和球形靶材；所述的球形靶材安裝在陰極板上與密封腔相對(duì)的一側(cè)，直接與陰極板接觸；所述的磁芯貫穿磁芯孔，所述的磁芯一端為半球形并置于球形靶材內(nèi)，另一端位于密封腔中，其側(cè)面套有電磁線(xiàn)圈；所述的磁芯通過(guò)固定組件與陰極板相連。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述的固定組件包括螺釘和壓板。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述的密封罩通過(guò)螺釘安裝在真空安裝環(huán)上；所述的陰極板，真空安裝環(huán)和夾在中間的絕緣環(huán)通過(guò)螺釘一體固定；所述的靶材組件通過(guò)壓板和螺釘固定在絕緣環(huán)和陰極板上。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述的壓板位于電磁線(xiàn)圈和陰極板之間，所述的螺釘貫穿壓板與陰極板相連。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述的靶材組件通過(guò)至少2組所述的壓板和螺釘固定在陰極板上。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述的真空安裝環(huán)為內(nèi)部中空的環(huán)形結(jié)構(gòu)，其尺寸大于陰極板或絕緣環(huán)的尺寸。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述的密封罩上設(shè)有接線(xiàn)盤(pán)。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述的接線(xiàn)盤(pán)通過(guò)電纜與陰極板相連。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述的的密封罩上設(shè)有絕緣冷卻液進(jìn)口和絕緣冷卻液出口，所述的絕緣冷卻液進(jìn)口和絕緣冷卻液出口與密封腔相通。

本實(shí)用新型的有益效果：本實(shí)用新型提出一種分布式磁控濺射靶，由于靶材組件分布的位置是根據(jù)所鍍產(chǎn)品的非平面結(jié)構(gòu)靈活設(shè)置，并且能夠?qū)γ總€(gè)靶材組件的電流強(qiáng)度單獨(dú)控制，從而實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的杯型內(nèi)壁的各個(gè)方向的鍍膜的均勻性。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的一種實(shí)施例的剖面示意圖；

圖2是本實(shí)用新型的一種實(shí)施例的陰極板俯視示意圖；