[實(shí)用新型]一種分布式磁控濺射靶

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721410725.3
• 申請(qǐng)日: 2017-10-30
• 公開（公告）號(hào): CN207498459U
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 秦正春;李東濱;吳疆;馮斌;王德苗;金浩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州求是真空電子有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

1.一種分布式磁控濺射靶，其特征在于：包括自上而下設(shè)置的密封罩(5)、真空安裝環(huán)(4)、絕緣環(huán)(7)和陰極板(6)，還包括靶材組件、固定組件和密封圈(9)；

所述的密封罩(5)通過固定組件安裝在真空安裝環(huán)(4)上，兩者之間的空隙形成密封腔；

所述的陰極板(6)，真空安裝環(huán)(4)和夾在中間的絕緣環(huán)(7)通過固定組件緊密的結(jié)合在一起，與板面的垂直方向上設(shè)有若干個(gè)安裝靶材組件的磁芯孔(13)，所述的磁芯孔(13)的分布與所鍍膜的三維產(chǎn)品相對(duì)應(yīng)；

所述的靶材組件包括電磁線圈(3)、磁芯(2)、和球形靶材(1)；所述的球形靶材(1)安裝在陰極板(6)上與密封腔相對(duì)的一側(cè)，直接與陰極板(6)接觸；所述的磁芯(2)貫穿磁芯孔(13)，所述的磁芯(2)一端為半球形并置于球形靶材(1)內(nèi)，另一端位于密封腔中，其側(cè)面套有電磁線圈(3)；所述的磁芯(2)通過固定組件與陰極板(6)相連。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種分布式磁控濺射靶，其特征在于：所述的固定組件包括螺釘(8)和壓板(12)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種分布式磁控濺射靶，其特征在于：所述的密封罩(5)通過螺釘(8)安裝在真空安裝環(huán)(4)上；所述的陰極板(6)，真空安裝環(huán)(4)和夾在中間的絕緣環(huán)(7)通過螺釘(8)一體固定；所述的靶材組件通過壓板(12)和螺釘(8)固定在絕緣環(huán)(7)和陰極板(6)上。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種分布式磁控濺射靶，其特征在于：所述的壓板(12)位于電磁線圈(3)和陰極板(6)之間，所述的螺釘(8)貫穿壓板(12)與陰極板(6)相連。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種分布式磁控濺射靶，其特征在于：所述的靶材組件通過至少2組所述的壓板(12)和螺釘(8)固定在陰極板(6)上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種分布式磁控濺射靶，其特征在于：所述的真空安裝環(huán)(4)為內(nèi)部中空的環(huán)形結(jié)構(gòu)，其尺寸大于陰極板(6)或絕緣環(huán)(7)的尺寸。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種分布式磁控濺射靶，其特征在于：所述的密封罩(5)上設(shè)有接線盤(11)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種分布式磁控濺射靶，其特征在于：所述的接線盤(11)通過電纜與陰極板(6)相連。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種分布式磁控濺射靶，其特征在于：所述的密封罩(5)上設(shè)有絕緣冷卻液進(jìn)口(10_1)和絕緣冷卻液出口(10_2)，所述的絕緣冷卻液進(jìn)口(10_1) 和絕緣冷卻液出口(10_2)與密封腔相通。