[實用新型]一種濕式除塵設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721393405.1
• 申請日: 2017-10-25
• 公開（公告）號: CN207605590U
• 公開（公告）日: 2018-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王國用
• 申請（專利權(quán)）人: 天津天清環(huán)?？萍脊煞萦邢薰?/a>
• 主分類號: B01D53/80
• 分類號: B01D53/80;B01D53/50;B01D47/02;B01D47/06
• 代理公司: 天津濱?？凭曋R產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12211
• 代理人: 孫曉鳳

本實用新型是一種濕式除塵設(shè)備，包括罐體和位于罐體內(nèi)的氣流調(diào)控機構(gòu)，所述氣流調(diào)控機構(gòu)包括圓盤、均布于圓盤上的若干氣流孔、和位于圓盤上的氣流調(diào)控驅(qū)動部件和氣流調(diào)控從動部件，所述氣流調(diào)控驅(qū)動部件位于所述圓盤中部的上方，所述圓盤上設(shè)有若干用于容納所述氣流調(diào)控從動部件的通槽。本實用新型的有益效果為：設(shè)置的氣流調(diào)控機構(gòu)可根據(jù)對壓力表及流量表的相關(guān)數(shù)據(jù)分析，人為調(diào)控氣流通達(dá)開口大小，操作簡單，效果明顯，防止氣流上躥。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于環(huán)保除塵技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種濕式除塵設(shè)備。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中，煤窯、磚窯或焚燒廠等灰塵量較大場所的除塵，且灰塵熱量較高，一般采用濕式除塵技術(shù)進(jìn)行除塵，現(xiàn)有的濕式除塵技術(shù)主要是將能量較高的含塵氣體通入除塵設(shè)備的洗滌液中，然后進(jìn)行除霧處理即可進(jìn)入后續(xù)環(huán)節(jié)，但是該含塵氣體能量較高，且洗滌液的流動性不佳，含塵氣體與洗滌液的不能充分混合，除塵效果較差，相關(guān)除塵設(shè)備的溫度也較高，即對設(shè)備的耐用性有很大挑戰(zhàn)；此外，因該含塵氣體量大，在處理過程中很可能會出現(xiàn)氣體上躥的現(xiàn)象，對設(shè)備造成損壞；另外，該洗滌用水沒有合理的進(jìn)行回收利用造成資源的浪費，本實用新型即是在上述技術(shù)問題的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型要解決的問題是提供一種濕式除塵設(shè)備，設(shè)置的氣流調(diào)控機構(gòu)可根據(jù)對壓力表及流量表的相關(guān)數(shù)據(jù)分析，人為調(diào)控氣流通達(dá)開口大小，操作簡單，效果明顯。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用的技術(shù)方案是：

一種濕式除塵設(shè)備，包括罐體和位于罐體內(nèi)的氣流調(diào)控機構(gòu)，所述氣流調(diào)控機構(gòu)包括圓盤、均布于圓盤上的若干氣流孔、和位于圓盤上的氣流調(diào)控驅(qū)動部件和氣流調(diào)控從動部件，所述氣流調(diào)控驅(qū)動部件位于所述圓盤中部的上方，所述圓盤上設(shè)有若干用于容納所述氣流調(diào)控從動部件的通槽；

所述氣流調(diào)控從動部件包括拉框和若干轉(zhuǎn)動板，所述拉框位于所述通槽限定的縱向空間內(nèi)，若干所述轉(zhuǎn)動板在所述通槽內(nèi)一字排開，所述轉(zhuǎn)動板中部通過固定軸與所述通槽內(nèi)側(cè)壁轉(zhuǎn)動連接，所述轉(zhuǎn)動板上部通過固定軸與所述拉框內(nèi)側(cè)壁轉(zhuǎn)動連接；

所述氣流調(diào)控驅(qū)動部件包括固定柱、環(huán)套和驅(qū)動臂，所述固定柱底面與所述圓盤中部固定連接，所述環(huán)套套設(shè)于所述固定柱外圍，并可相對所述固定柱上下移動，所述環(huán)套外圍環(huán)向均布有若干固定軸，所述驅(qū)動臂的一端與所述固定軸轉(zhuǎn)動連接，所述驅(qū)動臂的另一端與某一所述氣流調(diào)控從動部件的拉框端部轉(zhuǎn)動連接，每一所述驅(qū)動臂對應(yīng)一所述氣流調(diào)控從動部件。

進(jìn)一步，所述環(huán)套上部設(shè)有固定吊環(huán)，該吊環(huán)受外力驅(qū)動，并帶動所述環(huán)套相對所述固定柱上下移動。

進(jìn)一步，所述罐體下部設(shè)有氣體入口，所述罐體頂部設(shè)有氣體出口，所述氣體入口連接一鋼制盤管，所述盤管上均布有通孔，所述盤管位于所述罐體內(nèi)液面以下。

進(jìn)一步，所述氣流調(diào)控機構(gòu)位于所述盤管的正上方，噴淋機構(gòu)位于所述氣流調(diào)控機構(gòu)的正上方，所述噴淋機構(gòu)的噴嘴開口朝下設(shè)置。

進(jìn)一步，還設(shè)有折流板除霧器，該除霧器位于所述噴淋機構(gòu)上方。

進(jìn)一步，所述罐體底部為倒錐形結(jié)構(gòu)，所述罐體底部設(shè)有罐體出水口，該罐體出水口與一級沉淀池和二級沉淀池順次連接，所述二級沉淀池與罐體進(jìn)水口連通。

進(jìn)一步，所述一級沉淀池內(nèi)設(shè)有一斜置的折流板，該折流板設(shè)有若干集淤平臺。

進(jìn)一步，所述一級沉淀池頂部設(shè)有若干斜置的沉淀池入水管，該沉淀池入水管朝向所述折流板設(shè)置。

本實用新型還在于公開一種除塵設(shè)備，包括罐體，所述罐體下部設(shè)有氣體入口，所述罐體頂部設(shè)有氣體出口，所述氣體入口連接一鋼制盤管，所述盤管上均布有通孔，所述盤管位于所述罐體內(nèi)液面以下，所述罐體底部為倒錐形結(jié)構(gòu)，所述罐體底部設(shè)有罐體出水口，該罐體出水口與一級沉淀池和二級沉淀池順次連接，所述二級沉淀池與罐體進(jìn)水口連通，該鋼制盤管的出口位于所述罐體出水口的上方。