[實用新型]一種用于激光誘導化學沉積及空化處理的裝置有效
| 申請號: | 201721334046.2 | 申請日: | 2017-10-17 |
| 公開(公告)號: | CN207313702U | 公開(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發明(設計)人: | 李偉洲;黃德宇;陳泉志;童慶;蔣智秋;董婉冰;錢堃 | 申請(專利權)人: | 廣西南寧金鉑洲材料有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/16 | 分類號: | C23C18/16 |
| 代理公司: | 廣州市紅荔專利代理有限公司44214 | 代理人: | 李彥孚,何承鑫 |
| 地址: | 530007 廣西壯族自治區南寧市*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 激光 誘導 化學 沉積 處理 裝置 | ||
1.一種用于激光誘導化學沉積及空化處理的裝置,其特征在于:包括盛裝有工作液體(8)的容器(1)、氧化鋁塊(2)、氧化鋁螺絲(3)、氧化鋁螺母(4)、石英燒杯或石英方缸(6)和環形泡沫(7);所述氧化鋁塊(2)、氧化鋁螺絲(3)、氧化鋁螺母(4)、石英燒杯或石英方缸(6)和環形泡沫(7)均置于盛裝有工作液的容器(1)內;所述氧化鋁塊(2)為兩塊,其設有兩個與氧化鋁螺絲(3)相匹配的通孔,所述氧化鋁螺絲(3)通過氧化鋁螺母(4)配合固定工件(5)在兩塊氧化鋁塊(2)之間;所述石英燒杯或石英方缸(6)安裝在氧化鋁塊(2)上方,所述環形泡沫(7)介于盛裝有工作液的容器(1)和石英燒杯或石英方缸(6)之間,用于固定石英燒杯或石英方缸(6)。
2.根據權利要求1所述的用于激光誘導化學沉積及空化處理的裝置,其特征在于:所述環形泡沫(7)處還夾有一層保護膜。
3.根據權利要求1所述的用于激光誘導化學沉積及空化處理的裝置,其特征在于:所述石英燒杯或石英方缸(6)底部具有高透明度及均勻性。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





