[實用新型]一種擠壓碰撞式新型除霧器裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721202945.7 | 申請日: | 2017-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN207614505U | 公開(公告)日: | 2018-07-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳昊;馬金付;臧宇煉;孔令培 | 申請(專利權(quán))人: | 江陰天德環(huán)境工程有限公司 |
| 主分類號: | B01D45/08 | 分類號: | B01D45/08;B01D45/06 |
| 代理公司: | 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429 | 代理人: | 趙海波 |
| 地址: | 214400 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 碰撞柱 本實用新型 擠壓碰撞 噴嘴 除霧器 殼體 兩組 除霧效率 交錯布置 均勻間隔 占用空間 除霧 多排 兩排 | ||
本實用新型涉及一種擠壓碰撞式新型除霧器裝置,它包括殼體(1),在所述殼體(1)內(nèi)部布置有上、下兩組噴嘴(2),其特征在于:在所述的上、下兩組噴嘴(2)之間設(shè)置有多排碰撞柱體(3),每排碰撞柱體(3)均勻間隔布置,且相鄰兩排碰撞柱體(3)相互交錯布置。本實用新型具有除霧效率高,占用空間小的特點,能夠滿足極高的除霧要求。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型一種除霧器裝置,尤其涉及一種擠壓碰撞式新型除霧器裝置。屬于環(huán)境工程技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
除霧器用于分離經(jīng)吸收塔洗滌過的煙氣中的殘留液滴及/或顆粒物,通常安裝在吸收塔的頂部,沿著煙氣流動的方向依次設(shè)置多級除霧器,每級除霧器由若干個除霧器組件組成。目前通常采用的波形折流板式除霧器,每個除霧器組件由若干具有波形曲線形狀的除霧器葉片組成,除霧器葉片間保持一定的間距,葉片間的通道構(gòu)成了除霧的有效區(qū)域,當(dāng)含有液滴及/或顆粒物的煙氣進入除霧器葉片間的通道時,由于流線的偏折,在慣性力的作用下實現(xiàn)氣液分離,部分液滴撞擊在除霧器葉片上被捕集下來。這種波形折流板式除霧器存在一個臨界速度的問題,即當(dāng)煙氣流速過高(超過臨界氣速)時易產(chǎn)生霧滴的二次夾帶,并使壓降增高,能耗增大。煙氣流速過低雖然不會產(chǎn)生二次夾帶,但除霧能力較差。因此為達到較好的除霧效果必須把煙氣流速控制在合適范圍內(nèi)。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型所要解決的技術(shù)問題是針對上述現(xiàn)有技術(shù)提供一種一種擠壓碰撞式新型除霧器裝置,提高除霧效率,降低。
本實用新型解決上述問題所采用的技術(shù)方案為:一種擠壓碰撞式新型除霧器裝置,它包括殼體,在所述殼體內(nèi)部布置有上、下兩組噴嘴,在所述的上、下兩組噴嘴之間設(shè)置有多排碰撞柱體,每排碰撞柱體均勻間隔布置,且相鄰兩排碰撞柱體相互交錯布置。
優(yōu)選地,所述碰撞柱體由空心塑料制成。
優(yōu)選地,每個碰撞柱體的截面為圓形、橢圓形或類似的多邊形結(jié)構(gòu)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型的優(yōu)點在于:
1、除霧效率高,原多層板式除霧器除霧效率一般能達到出口霧滴濃度50mg/m3,擠壓碰撞式新型除霧器裝置能達到25mg/m3。
2、占用空間小,達到相同的除霧效果僅需多層板式除霧器一半的高度。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例中的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中:
殼體1
噴嘴2
碰撞柱體3。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖實施例對本實用新型作進一步詳細描述。
參見圖1所示,本實施例中的一種擠壓碰撞式新型除霧器裝置,包括殼體1,在所述殼體1內(nèi)部布置有上、下兩組噴嘴2,在所述的上、下兩組噴嘴2之間設(shè)置有多排碰撞柱體3,每排碰撞柱體3由空心塑料制成,且均勻間隔布置,相鄰兩排碰撞柱體3相互交錯布置,即相鄰兩排碰撞柱體中的每個碰撞柱體不在同一直線上,每個碰撞柱體的截面為圓形、橢圓形或類似的多邊形結(jié)構(gòu),其作用為使得煙氣流動過程中經(jīng)過的空間忽大忽小,碰撞柱體交錯排列,使得煙氣在上升過程中容易與碰撞柱體產(chǎn)生碰撞,上升的煙氣到達除霧器底部時,進入除霧器入口,在內(nèi)部由于空間變小,煙氣受一定程度擠壓,使煙氣內(nèi)包含的霧滴更容易結(jié)合凝聚成大霧滴,并在流動轉(zhuǎn)向過程中與擠壓柱壁發(fā)生碰撞,使煙氣中的霧滴積聚在擠壓柱底部而與煙氣分離,達到除霧目的。該擠壓碰撞式新型除霧器裝置具有除霧效率高,占用空間小的特點,能夠滿足極高的除霧要求。
除上述實施例外,本實用新型還包括有其他實施方式,凡采用等同變換或者等效替換方式形成的技術(shù)方案,均應(yīng)落入本實用新型權(quán)利要求的保護范圍之內(nèi)。
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