[實用新型]氫化鎂制備設備有效
| 申請號: | 201721181631.3 | 申請日: | 2017-09-15 |
| 公開(公告)號: | CN207659078U | 公開(公告)日: | 2018-07-27 |
| 發明(設計)人: | 鄒建新;丁文江 | 申請(專利權)人: | 上海鎂源動力科技有限公司 |
| 主分類號: | C01B6/04 | 分類號: | C01B6/04 |
| 代理公司: | 北京瑞恒信達知識產權代理事務所(普通合伙) 11382 | 代理人: | 黃慶芳 |
| 地址: | 201306 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氫化鎂 制備設備 加熱室 過渡倉 加熱器 反應室 收集室 閥門 鎂粉 本實用新型 制備方法步驟 外部氫氣源 粒徑控制 氫化反應 上端開口 氫氣 投料口 導管 制備 加熱 移動 | ||
本實用新型提出了一種氫化鎂制備設備,該氫化鎂制備設備包括:過渡倉,過渡倉包括投料口;加熱室,加熱室通過第一閥門與過渡倉相連接;加熱器,加熱器上端開口并且能夠通過第一閥門在過渡倉與加熱室之間移動,加熱器用于在加熱室加熱其中放置的鎂原料;收集室,收集室通過導管與加熱室相連通以收集鎂粉;和反應室,反應室通過第二閥門與收集室相連通以接收鎂粉,并且反應室與外部氫氣源相連通以接收氫氣。本實用新型提出的氫化鎂制備設備將鎂粉制備和氫化反應結合到一個設備,并且使用該氫化鎂制備設備的氫化鎂制備方法步驟簡潔,并且其中通過溫度、壓力等條件的控制可以將制得的氫化鎂顆粒的粒徑控制在1μm?60μm的范圍內。
技術領域
本實用新型涉及氫化鎂的制備,更具體地,涉及一種氫化鎂制備設備。
背景技術
氫化鎂(MgH2),灰白色粉末,為單一輕金屬氫化物,常溫常壓下穩定性較高,密度為1.45g/cm3,儲氫量為7.6%,遠高于鎂基儲氫合金氫化物和其他金屬氫化物。氫化鎂可以在常溫下與水反應,產生氫氣。同時也可用作催化劑、還原劑等。
鎂基材料屬于中溫型儲氫合金,易存儲,反應條件溫和,副產物環境友好,是具有發展前途的儲氫材料。相對于其他金屬儲氫材料,鎂基儲氫材料具有以下優點:儲氫量高;資源豐富,價格低廉;鎂基儲氫材料吸放氫平臺好,使得氫的利用率提高;氫化物較穩定,放氫需要較高的溫度,大多數放氫溫度在200℃以上。
氫化鎂的制備方法包括使用烷基鎂熱分解制得氫化鎂、鎂粉常壓下催化合成氫化鎂以及利用鎂粉加熱加氫壓制得氫化鎂等。
市售氫化鎂的顆粒尺寸較大且價格昂貴,水解制氫時易在未反應氫化鎂表面生成鈍化膜而阻礙反應繼續進行,無法直接用于制氫。因此,考慮利用鎂基金屬制得的鎂粉,再經氫化制得氫化鎂。
現有的氫化鎂制備方法均為依次或同時使用兩種及以上的設備或儀器,實現粉體制備、收集、氫化的過程。例如使用溶膠凝膠法需要超聲、離心、清洗、加熱保溫等操作。沒有特殊說明并基于現有常識,我們認為這些操作需要在不同功能的儀器設備上實現,比如超聲機、離心機等;再如燒結后使用球磨粉碎或研磨方式先得到前軀體,再放入氫氣環境中實現氫化,并且該氫化過程也需要在不同的儀器設備上實現,比如使用球磨機,研缽,管式爐等。任意一種方法均無法實現氫化鎂粉末在單一設備中的一體化制備,從而給加工生產帶來了困難。因此提出一種集成粉體制備與氫化的裝置尤為必要。
另一方面,現有氫化鎂制備方法制備出的氫化鎂粉末存在顆粒均勻度較差,或顆粒尺寸過大(通常為150μm以上)或過小(通常為1μm以下)等,顆粒尺寸過大會導致無法直接用于制氫,而顆粒過小則氫化鎂產率低并且反應條件苛刻、危險。因此需要更完善且先進的制備技術及裝置,實現對粉體粒徑分布的控制。
實用新型內容
為解決上述技術問題,本實用新型提出了一種氫化鎂制備設備,該氫化鎂制備設備包括:
過渡倉,過渡倉包括投料口;
加熱室,加熱室通過第一閥門與過渡倉相連接,優選地,加熱室還包括加熱室充氣口以充入惰性氣體;
加熱器,加熱器的上端開口并能夠通過第一閥門在過渡倉與加熱室之間移動,加熱器用于在加熱室加熱該加熱器中放置的鎂原料;
收集室,收集室通過導管與加熱室相連通以收集鎂粉;和
反應室,反應室通過第二閥門與收集室相連通以接收鎂粉,并且反應室與外部氫氣源相連通以接收氫氣。
在一個實施例中,氫化鎂制備設備還包括抽真空裝置,抽真空裝置與過渡倉相連接,并且過渡倉還設置有過渡倉充氣口以充入惰性氣體。
在一個實施例中,氫化鎂制備設備還包括導軌,導軌穿過第一閥門設置在過渡倉與加熱室內,并且導軌與第一控制電源相連接以傳送加熱器。
在一個實施例中,加熱器包括:
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