[實用新型]一種用于柔性薄膜太陽能電池激光劃線的真空吸附裝置有效
| 申請號: | 201721124724.2 | 申請日: | 2017-09-04 |
| 公開(公告)號: | CN207165599U | 公開(公告)日: | 2018-03-30 |
| 發明(設計)人: | 鐘華良;孫朋超;朱家寬;莫品光;高錦龍;劉杰鵬 | 申請(專利權)人: | 旭科新能源股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/687 |
| 代理公司: | 杭州九洲專利事務所有限公司33101 | 代理人: | 翁霽明 |
| 地址: | 314031 浙江省嘉興市秀洲*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 柔性 薄膜 太陽能電池 激光 劃線 真空 吸附 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及的是一種用于柔性薄膜太陽能電池激光劃線的真空吸附裝置,特別是一種適用于銅銦鎵硒柔性薄膜電池激光劃刻的真空吸附裝置。
背景技術
在薄膜太陽能電池組件制作過程中,激光劃線貫穿整個制作工藝過程,是電池組件形成內串聯所必不可少的一部分工序,而且對于電池成品的良品率及效率起到關鍵作用。
隨著激光技術的發展,與控制技術的結合應用使得激光劃刻技術得到了快速的發展,激光劃刻有精度高,速度快等優點。但之前激光劃刻的材料大多是在剛性材料上,在薄膜類使用過程中,由于薄膜本身的卷曲褶皺,使得激光劃刻機無法有效對焦及劃刻,從而影響激光劃線的精度和效果。
在激光劃線的工藝過程中,真空吸附面板系統在激光劃線起到關鍵的作用,對于薄膜卷曲,劃刻聚焦,固定薄膜,薄膜膜面整平過程起到重要作用。目前激光劃刻的吸附系統多為單片片裝的吸附、即單吸附,為對兩邊卷曲情況無整平作用即在使用過程中只對中間平整區域有吸附作用,對兩邊卷曲部分無壓制整平功能;這種情況下只會對薄膜中間區域有吸附力,不能做到吸附及平整整個大的膜面,無法有效對焦劃刻。
發明內容
本實用新型的目的在于克服現有技術存在的不足,而提供一種結構簡單,使用方便可靠,能滿足吸附平整薄膜類太陽能電池產品,增加激光劃刻機聚焦的一致性,同時提高激光劃線的劃刻精度,提升劃刻工藝及劃刻產能的用于柔性薄膜太陽能電池激光劃線的真空吸附裝置。
本實用新型的目的是通過如下技術方案來完成的,一種用于柔性薄膜太陽能電池激光劃線的真空吸附裝置,它包括一塊用于在正面放置膜面的、正面開設有吸氣孔并與內部連通的吸附板,所述吸附板的內部通過至少一側邊上開設的負壓氣孔連接一集成分路氣排,并有該集成分路氣排連接一帶有放氣裝置的氣路開關及氣量狀態的控制閥機構,該氣路控制閥機構連接一真空泵源。
作為優選:所述吸附板為長方形內部板體,該吸附板的正面開設有均布的孔徑在0.5—5mm的吸氣孔,孔距在1—40mm之間;所述吸附板的兩側配置有用于對放置在吸附板正面上的膜面兩側進行壓制的膜面壓板;所述的吸附板的內部通過兩側邊上開設的負壓氣孔連接所述的集成分路氣排。
作為優選:所述的吸附板由鋁、不銹鋼鋼或聚四氟乙烯材料制成;所述吸附板的內部的結構由雕刻氣路結構、鋁蜂窩板加工連通氣路結構或一體成型結構構成。
本實用新型主要解決柔性太陽能薄膜類電池劃刻過程中,因膜面不平整激光劃刻無法準確聚焦點,需要劃刻的區域無法劃刻到等問題;同時解決由于卷繞等方面的原因,使兩邊的卷曲無法消除的問題。
本實用新型在具體運行工作時,真空泵處于常通狀態待通氣,劃刻設備運行,激光劃刻機控制系統打開氣路控制閥體機構,吸附板的正面通過吸氣孔形成負壓從而吸住面板上薄膜。
與此同時電池薄膜經過吸附板區域時,兩側的膜面壓板平整兩側的卷曲膜面,避免兩側膜面太卷無法被面板吸住;同時也可以避免兩側以及膜面中間的凹凸的卷曲造成激光劃刻無法有效的對焦;完成吸氣面板的吸附后,激光劃線控制系統開始工作,設備進行工藝劃線。
本實用新型具有結構簡單,使用方便可靠,能滿足吸附平整薄膜類太陽能電池產品,增加激光劃刻機聚焦的一致性,同時提高激光劃線的劃刻精度,提升劃刻工藝及劃刻產能等特點。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖。
圖2是本實用新型的吸附板結構示意圖。
具體實施方式
下面將結合附圖對本實用新型作詳細的介紹:圖1所示,本實用新型所述的一種用于柔性薄膜太陽能電池激光劃線的真空吸附裝置,它包括一塊用于在正面放置膜面7的、正面開設有吸氣孔8并連通內部的吸附板5,所述吸附板5的內部通過至少一側邊上開設的負壓氣孔9連接一集成分路氣排4,并有該集成分路氣排4連接一帶有放氣裝置3的氣路控制閥機構2,該氣路控制閥機構2連接一真空泵源1;所述的內部包括吸附版內部的多孔蜂窩狀空間結構。
圖中所示,所述吸附板5為長方形板體,該吸附板5的正面開設有均布的孔徑在0.5—5mm的吸氣孔8,孔距在1—40mm之間;所述吸附板5的兩側配置有用于對放置在吸附板5正面上的膜面7兩側進行壓制的膜面壓板6;本實用新型優選的實施例是:所述的吸附板5的內部通過兩側邊上開設的負壓氣孔9連接所述的集成分路氣排4。
本實用新型所述的吸附板5由鋁、不銹鋼鋼或聚四氟乙烯材料制成;所述吸附板5的內部結構由雕刻氣路結構、鋁蜂窩板加工連通氣路結構或一體成型結構構成,以便能夠適應不同的吸附需要。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





