[實用新型]一種表盤及手表有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721104383.2 | 申請日： | 2017-08-30 |
| 公開（公告）號： | CN207096697U | 公開（公告）日： | 2018-03-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | 馮毅;謝康;邱澤銀 | 申請（專利權）人： | 信利光電股份有限公司 |
| 主分類號： | G04B19/10 | 分類號： | G04B19/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司11227 | 代理人： | 王寶筠 |
| 地址： | 516600 廣東省汕尾*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 表盤 手表 | ||
1.一種表盤，其特征在于，所述表盤包括：
透明基板，所述透明基板具有中心區(qū)域以及包圍所述中心區(qū)域的外圍區(qū)域；
設置在所述中心區(qū)域的第一刻蝕圖案，所述第一刻蝕圖案用于散射光線；
設置在所述外圍區(qū)域的數(shù)字時間標識。
2.根據(jù)權利要求1所述的表盤，其特征在于，所述數(shù)字時間標識為設置在所述透明基板上的第二刻蝕圖案。
3.根據(jù)權利要求1所述的表盤，其特征在于，所述第一刻蝕圖案包括多個同心圓；
或，所述第一刻蝕圖案包括多條波浪線；
或，所述第一刻蝕圖案包括以一設定中點向四周發(fā)散的多條射線。
4.根據(jù)權利要求1所述的表盤，其特征在于，所述第一刻蝕圖案包括刻多個蝕凹槽；
所述刻蝕凹槽的寬度為5μm-100μm，包括端點值；
相鄰兩個所述刻蝕凹槽的間距為5μm-150μm，包括端點值。
5.根據(jù)權利要求4所述的表盤，其特征在于，所述刻蝕凹槽的寬度小于30μm時，所述刻蝕凹槽等間距設置。
6.根據(jù)權利要求4所述的表盤，其特征在于，所述刻蝕凹槽的寬度不小于30μm時，所述寬度與所述間距的差值的絕對值為0μm-30μm，包括端點值。
7.根據(jù)權利要求4所述的表盤，其特征在于，所述刻蝕凹槽的深度是3μm-25μm，包括端點值。
8.根據(jù)權利要求1-7任一項所述的表盤，其特征在于，還包括：
設置在所述透明基板表面的預設顏色的膜層。
9.根據(jù)權利要求8所述的表盤，其特征在于，所述膜層正對所述中心區(qū)域具有鏤空區(qū)域。
10.根據(jù)權利要求8所述的表盤，其特征在于，所述膜層對應所述中心區(qū)域的透光率不小于30％。
11.一種手表，其特征在于，所述手表包括：如權利要求1-10任一項所述的表盤。
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