[實用新型]一種光刻機光源漏光監測系統

有效

• 申請號: 201721061142.4
• 申請日: 2017-08-23
• 公開（公告）號: CN207281466U
• 公開（公告）日: 2018-04-27
• 發明（設計）人: 牟宏惺
• 申請（專利權）人: 成都海威華芯科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 成都華風專利事務所(普通合伙)51223
• 代理人: 徐豐,張巨箭

技術領域

本實用新型屬于半導體制作設備領域，具體涉及一種光刻機光源漏光監測系統。

背景技術

光刻機的功能主要是通過光源曝光把光刻版上的圖像轉移到晶圓上。其中，光刻機的光路系統包括光源、光刻版及投影物鏡組，其功能是將光源發出的光傳送到光刻版表面，并且要求到達光刻版表面的光束均勻一致，光束的大小也要符合曝光區域的要求。

隨著半導體集成密度的提高，光刻技術的線寬越來越小，對光路系統的精確度要求也越來越高。目前采用的光路系統存在一個缺陷，即光源的通過與切斷是通過遮光器擋片的打開與閉合來控制，由于遮光器的擋片是由馬達來控制，馬達使用過程中會存在精度不準的問題，該問題導致遮光器的擋片在閉合狀態下仍有光源從遮光器擋片的縫隙中漏出，漏出的光通過光路系統曝光到晶圓上，使晶片上出現不需要的圖像，導致產品良率大大降低。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種可以監測光源是否從遮光器擋片的縫隙中漏出的光刻機光源漏光監測系統。

為達到上述要求，本實用新型采取的技術方案是：提供一種光刻機光源漏光監測系統，包括光刻機本體，光刻機本體的遮光器遠離光源的一側設置有光電探測器，光電探測器通過光電模塊與光刻機本體 的主控制模塊電連接；光電探測器包括圓環狀的基座，基座的內壁上均勻分布有若干沿基座徑向設置的光電探測針。

光電探測針至少有2根。

基座內部設置有若干與光電探測針一一對應的第二動力機構，第二動力機構的輸出端與光電探測針連接，且帶動光電探測針做直線運動，第二動力機構與主控制模塊電連接。

第二動力機構均為電動絲桿。

與現有技術相比，本實用新型具有以下優點：

(1)在遮光器遠離光源的一側設置光電探測器，光電探測器在擋片閉合的狀態下偵測是否有光通過，然后把監測信息傳送給光刻機本體的主控制模塊，達到實時監控漏光的目的，保障產品的良率；

(2)光電探測器至少具有2根光電探測針，可以實現多點探測，提高探測的準確性；

(3)光電探測器的光電探測針可以伸縮，當光刻機進行光刻時，第二動力機構帶動光電探測針回到基座中，避免光電探測針遮擋光源，影響光刻效果。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本申請的進一步理解，構成本申請的一部分，在這些附圖中使用相同的參考標號來表示相同或相似的部分，本申請的示意性實施例及其說明用于解釋本申請，并不構成對本申請的不當限定。在附圖中：

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖2為本實用新型光電探測器的結構示意圖。

具體實施方式

為使本申請的目的、技術方案和優點更加清楚，以下結合附圖及具體實施例，對本申請作進一步地詳細說明。為簡單起見，以下描述中省略了本領域技術人員公知的某些技術特征。

如圖1所示，本實施例提供一種光刻機光源3漏光監測系統，包括光刻機本體，光刻機本體的遮光器2遠離光源3的一側設置有光電探測器1，光電探測器1通過光電模塊與光刻機本體的主控制模塊電連接。

如圖2所示，光電探測器1包括圓環狀的基座4，基座4的內壁上均勻分布有4根沿基座4徑向設置的光電探測針5。基座4內部設置有4個與光電探測針5一一對應的第二動力機構，第二動力機構的輸出端與光電探測針5連接，且帶動光電探測針5做直線運動，第二動力機構與主控制模塊電連接。

第二動力機構為電動絲桿。

本實用新型的工作原理是：在擋片閉合的狀態下，光電探測器偵測是否有光通過，然后把監測信息傳送給光刻機本體的主控制模塊，主控制模塊根據接收到的信號判斷是否有光源漏出，并根據判斷結果進行后續處理，如停止光刻機工作。

以上實施例僅表示本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能理解為對本實用新型范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還 可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型保護范圍。因此本實用新型的保護范圍應該以權利要求為準。