[實(shí)用新型]加熱塊及具有其的加熱裝置、壓制加熱組件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721000379.1 | 申請日: | 2017-08-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207183224U | 公開(公告)日: | 2018-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 謝金言;舒愛鵬;鄭瑞育;吳進(jìn)瑜;商峰旗 | 申請(專利權(quán))人: | 樂依文半導(dǎo)體(東莞)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/687;H01L21/603 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司44202 | 代理人: | 張艷美,郝傳鑫 |
| 地址: | 523000 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 加熱 具有 裝置 壓制 組件 | ||
1.一種加熱塊,用于在半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)的焊接工藝中支撐并加熱引線框,所述引線框上分布的若干長腳仔,所述長腳仔包括位于一側(cè)的未蝕刻區(qū)域及位于另一側(cè)的底部被蝕刻的蝕刻區(qū)域,所述蝕刻區(qū)域包括與所述未蝕刻區(qū)域相連的連接部、厚度大致均勻的中間部以及尖尾部,其特征在于,所述加熱塊包括支撐所述引線框的加熱塊本體及凸設(shè)在所述加熱塊本體上的凸塊結(jié)構(gòu),所述凸塊結(jié)構(gòu)具有與所述中間部的中間底面對應(yīng)的水平支撐面以及與所述尖尾部的底面對應(yīng)的支撐坡面。
2.如權(quán)利要求1所述的加熱塊,其特征在于,所述支撐坡面為傾斜坡面。
3.如權(quán)利要求2所述的加熱塊,其特征在于,所述傾斜坡面相較水平支撐面的傾角大致為3°。
4.如權(quán)利要求1所述的加熱塊,其特征在于,所述加熱塊本體與所述凸塊結(jié)構(gòu)為一體式結(jié)構(gòu)。
5.一種加熱裝置,用于在半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)的焊接工藝中支撐并加熱若干引線框,其特征在于,所述加熱裝置包括加熱平臺(tái)及放置在所述加熱平臺(tái)上的若干加熱塊,所述加熱塊如權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述。
6.一種壓制加熱組件,其特征在于,包括加熱塊及壓板,所述加熱塊如權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述,所述壓板用于壓接在所述引線框上,所述壓板上形成有用于暴露所述長腳仔的中間部、尖尾部的焊線窗口。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





