[實(shí)用新型]一種光刻機(jī)專用基片定位裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720919522.0
• 申請(qǐng)日: 2017-07-27
• 公開（公告）號(hào): CN207037328U
• 公開（公告）日: 2018-02-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張華麗;陳科;冒衛(wèi)星;黃明宇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南通大學(xué)
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32249
• 代理人: 顧森燕

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種光刻領(lǐng)域，尤其涉及一種光刻機(jī)專用基片定位裝置。

背景技術(shù)

EXFO OmniCure S1000紫外點(diǎn)光固化系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，以其經(jīng)濟(jì)、高效的優(yōu)點(diǎn)，在實(shí)驗(yàn)室中得到廣泛應(yīng)用。該系統(tǒng)為人工設(shè)置參數(shù)和放置基片，操作簡(jiǎn)便。但在紫外光刻或固化材料時(shí)，樣品位置需相對(duì)精確擺放。由于視覺(jué)影響，手動(dòng)放置樣品時(shí)，需較長(zhǎng)時(shí)間調(diào)節(jié)樣品位置，且很難將樣品放于光源正下方，從而導(dǎo)致加工失敗。因此為保證光刻質(zhì)量，需要一種操作簡(jiǎn)單的對(duì)準(zhǔn)裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)基片位置的定位。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種光刻機(jī)專用基片定位裝置，可以快速進(jìn)行基片定位，使得基片位于光源正下方，有效減少基片的對(duì)準(zhǔn)誤差，縮短對(duì)準(zhǔn)時(shí)間，提高光刻機(jī)的對(duì)準(zhǔn)性能，提高光刻質(zhì)量。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提出如下技術(shù)方案：一種光刻機(jī)專用基片定位裝置，包括光刻機(jī)以及安裝在光刻機(jī)底座上的定位裝置，其特征在于：所述定位裝置包括基座，支撐桿，光源定位桿及基片定位桿，其中：

基座通過(guò)螺栓固定在底座上，而支撐桿固定在基座上表面，所述光源定位桿固定在支撐桿頂端，其自由端具有半圓環(huán)卡在光刻機(jī)的光源上，所述基片定位桿固定在基座側(cè)面，其自由端具有基片定位環(huán)，且基片定位桿與光源定位桿平行，同時(shí)基片定位環(huán)圓心與半圓環(huán)圓心及光源中心在同一垂直線上。

作為優(yōu)選，所述基片定位桿兩端均具有外螺紋，且表面具有尺寸刻度，基片定位環(huán)螺紋固定在基片定位桿端部，且可根據(jù)基片尺寸大小進(jìn)行基片定位環(huán)更換，同時(shí)基片定位桿螺紋固定在基座側(cè)面，且根據(jù)基片定位環(huán)的尺寸結(jié)合尺寸刻度進(jìn)行擰入尺寸調(diào)節(jié)，確保基片定位環(huán)圓心與半圓環(huán)圓心同一垂直線。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型揭示的一種光刻機(jī)專用基片定位裝置，具有如下有益之處：

通過(guò)設(shè)置相互平行的光源定位桿及基片定位桿配合半圓環(huán)及基片定位環(huán)，實(shí)現(xiàn)上下圓心同一垂直線，確保基片可以快速定位到光源正下方，同時(shí)基片定位環(huán)可以根據(jù)基片尺寸進(jìn)行快捷更換，為了確保更換基片定位環(huán)后圓心不變，基片定位桿采用深度可調(diào)形式，配合尺寸刻度可以精確調(diào)節(jié)深度，實(shí)現(xiàn)快速調(diào)節(jié)。

整個(gè)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，有效減少基片的對(duì)準(zhǔn)誤差，縮短對(duì)準(zhǔn)時(shí)間，提高光刻機(jī)的對(duì)準(zhǔn)性能，提高光刻質(zhì)量。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型使用情況圖；

圖2是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整的描述。

如圖1~2所示，本實(shí)用新型揭示的一種光刻機(jī)專用基片定位裝置，包括光刻機(jī)1以及安裝在光刻機(jī)底座上的定位裝置，所述光刻機(jī)具有底座2及光源3，所述定位裝置包括基座4，支撐桿5，光源定位桿6及基片定位桿7。

具體說(shuō)來(lái)，所述基座4通過(guò)螺栓固定在底座2上，而支撐桿5固定在基座4上表面，所述光源定位桿6一端固定在支撐桿頂端，另一端具有半圓環(huán)8卡在光刻機(jī)的光源3上，所述基片定位桿7固定在基座側(cè)面，其自由端具有基片定位環(huán)9，且基片定位桿7與光源定位桿6平行，同時(shí)基片定位環(huán)9圓心與半圓環(huán)8圓心及光源3中心在同一垂直線上。

所述基片定位桿兩端均具有外螺紋，且表面具有尺寸刻度（圖未示），基片定位環(huán)9螺紋固定在基片定位桿7端部，且可根據(jù)基片10尺寸大小進(jìn)行基片定位環(huán)更換，同時(shí)基片定位桿7螺紋固定在基座側(cè)面，且根據(jù)基片定位環(huán)的尺寸結(jié)合尺寸刻度進(jìn)行擰入尺寸調(diào)節(jié)，并通過(guò)鎖緊螺栓11進(jìn)行擰入位置鎖緊固定，確保基片定位環(huán)圓心與半圓環(huán)圓心始終在同一垂直線。

定位裝置安裝在光刻機(jī)底座任意位置，只需確保半圓環(huán)卡住光源即可。

本實(shí)用新型所揭示的一種光刻機(jī)專用基片定位裝置，其通過(guò)設(shè)置相互平行的光源定位桿及基片定位桿配合半圓環(huán)及基片定位環(huán)，實(shí)現(xiàn)上下圓形同一垂直線，確保基片可以快速定位到光源正下方，同時(shí)基片定位環(huán)可以根據(jù)基片尺寸進(jìn)行快捷更換，為了確保更換基片定位環(huán)后圓心不變，基片定位桿采用深度可調(diào)形式，配合尺寸刻度可以精確調(diào)節(jié)深度，實(shí)現(xiàn)快速調(diào)節(jié)。

本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容及技術(shù)特征已揭示如上，然而熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員仍可能基于本實(shí)用新型的教示及揭示而作種種不背離本實(shí)用新型精神的替換及修飾，因此，本實(shí)用新型保護(hù)范圍應(yīng)不限于實(shí)施例所揭示的內(nèi)容，而應(yīng)包括各種不背離本實(shí)用新型的替換及修飾，并為本專利申請(qǐng)權(quán)利要求所涵蓋。