[實用新型]一種光刻機專用基片定位裝置有效
| 申請號: | 201720919522.0 | 申請日: | 2017-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN207037328U | 公開(公告)日: | 2018-02-23 |
| 發明(設計)人: | 張華麗;陳科;冒衛星;黃明宇 | 申請(專利權)人: | 南通大學 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙)32249 | 代理人: | 顧森燕 |
| 地址: | 226000*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光刻 專用 定位 裝置 | ||
1.一種光刻機專用基片定位裝置,包括光刻機以及安裝在光刻機底座上的定位裝置,其特征在于:所述定位裝置包括基座,支撐桿,光源定位桿及基片定位桿,其中:
基座通過螺栓固定在底座上,而支撐桿固定在基座上表面,所述光源定位桿固定在支撐桿頂端,其自由端具有半圓環卡在光刻機的光源上,所述基片定位桿固定在基座側面,其自由端具有基片定位環,且基片定位桿與光源定位桿平行,同時基片定位環圓心與半圓環圓心及光源中心在同一垂直線上。
2.根據權利要求1所述的光刻機專用基片定位裝置,其特征在于:所述基片定位桿兩端均具有外螺紋,且表面具有尺寸刻度,基片定位環螺紋固定在基片定位桿端部,且可根據基片尺寸大小進行基片定位環更換,同時基片定位桿螺紋固定在基座側面,且根據基片定位環的尺寸結合尺寸刻度進行擰入尺寸調節,確保基片定位環圓心與半圓環圓心同一垂直線。
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