[實用新型]拉法爾立體研磨濾渣裝置及豆?jié){機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720899365.1 | 申請日: | 2017-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN207855591U | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林文碩;陳巧玲 | 申請(專利權(quán))人: | 福建工程學(xué)院 |
| 主分類號: | A47J43/04 | 分類號: | A47J43/04;A47J43/07 |
| 代理公司: | 福州市鼓樓區(qū)京華專利事務(wù)所(普通合伙) 35212 | 代理人: | 宋連梅 |
| 地址: | 350000 福建省福州*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 凹腔 上磨盤 下磨盤 底面 研磨濾渣裝置 本實用新型 下行通道 研磨 過濾網(wǎng) 進料口 研磨面 大豆蛋白 磨盤間隙 上行通道 水平通道 研磨空間 研磨組件 石磨 豆?jié){機 擠壓式 引流孔 豆渣 轉(zhuǎn)動 保留 覆蓋 | ||
1.一種拉法爾立體研磨濾渣裝置,其特征在于:包括上磨盤、下磨盤、過濾網(wǎng);
所述上磨盤具有第一凹腔,所述上磨盤的底面為第一水平研磨面,所述第一凹腔的底部具有進料口;
所述下磨盤具有第二凹腔,所述第二凹腔的底面為第二水平研磨面,所述第二凹腔的底面外圈設(shè)有引流孔;
所述上磨盤位于所述第二凹腔內(nèi)并相對下磨盤轉(zhuǎn)動,所述過濾網(wǎng)覆蓋于該第一凹腔的頂部;
使用時,所述第一凹腔形成通向進料口的內(nèi)下行通道,所述第一水平研磨面和第二水平研磨面之間形成第一研磨空間及水平通道;所述上磨盤的外側(cè)面與第二凹腔的內(nèi)側(cè)面之間形成上行通道,所述下磨盤的外側(cè)部空間形成外下行通道;所述內(nèi)下行通道通過進料口與所述水平通道連通,所述上行通道的頂部與所述內(nèi)下行通道連通,同時通過所述過濾網(wǎng)的網(wǎng)孔與所述外下行通道連通,底部則與所述水平通道連通,同時通過所述引流孔與所述外下行通道連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拉法爾立體研磨濾渣裝置,其特征在于:所述上磨盤的外側(cè)面為第一豎立研磨面,所述第二凹腔的內(nèi)側(cè)面為第二豎立研磨面,第一豎立研磨面和第二豎立研磨面之間形成第二研磨空間,且該第二研磨空間上小下大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拉法爾立體研磨濾渣裝置,其特征在于:所述第一水平研磨面和第二水平研磨面上分為粗磨中部和細(xì)磨外圈,所述粗磨中部由交替且均勻分布的水平大溝槽和細(xì)溝槽構(gòu)成,所述細(xì)磨外圈為不設(shè)溝槽的平面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的拉法爾立體研磨濾渣裝置,其特征在于:所述水平大溝槽為放射狀布置,任兩水平大溝槽之間均設(shè)置所述細(xì)溝槽,細(xì)溝槽與鄰近的一水平大溝槽平行設(shè)置,且水平大溝槽和細(xì)溝槽的深度由內(nèi)向外逐步變淺。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拉法爾立體研磨濾渣裝置,其特征在于:所述進料口設(shè)置在第一凹腔的中心附近,且進料口的一側(cè)開設(shè)有斜槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拉法爾立體研磨濾渣裝置,其特征在于:所述下磨盤的外側(cè)部設(shè)有引流裙體,該引流裙體的外側(cè)表面為圓柱面,上端表面為第二凸弧面,下端表面為第三凸弧面,且該第三凸弧面延伸至所述引流孔,使所述引流孔的下方形成上大下小的引流通道。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拉法爾立體研磨濾渣裝置,其特征在于:所述上磨盤內(nèi)設(shè)置強磁鐵,所述下磨盤的底部設(shè)置電磁鐵。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的拉法爾立體研磨濾渣裝置,其特征在于:所述第一凹腔和第二凹腔均為上大下小的結(jié)構(gòu),所述第一凹腔的內(nèi)側(cè)面為第一凸弧面,所述強磁鐵設(shè)置于該第一凸弧面與上磨盤外側(cè)面之間的封閉空間內(nèi)。
9.一種拉法爾立體研磨豆?jié){機,其特征在于:包括杯體、機頭、底座以及如權(quán)利要求1至6任一項的拉法爾立體研磨濾渣裝置;所述機頭設(shè)在杯體的頂部,所述底座設(shè)在杯體的底部,所述拉法爾立體研磨濾渣裝置設(shè)在機頭與底座之間的杯體內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的拉法爾立體研磨豆?jié){機,其特征在于:所述機頭內(nèi)設(shè)有上芯片、上電源以及上電機,所述上電源分別與上芯片和上電機電連接,所述上電機通過上轉(zhuǎn)軸連接所述上磨盤,所述上磨盤內(nèi)設(shè)置強磁鐵;所述底座內(nèi)設(shè)有下芯片、下電源、下電機以及電磁鐵,所述下電源分別與所述下芯片、下電機以及電磁鐵電連接,所述下電機通過下轉(zhuǎn)軸連接所述下磨盤。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的拉法爾立體研磨豆?jié){機,其特征在于:所述上轉(zhuǎn)軸為浮動軸,帶動上磨盤上升和下降,浮動高差在拉法爾立體研磨濾渣裝置空載時使上磨盤上升并足以讓所述第一水平研磨面與所述第二水平研磨面分離,且在加壓研磨時縮小所述第一研磨空間的高度。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的拉法爾立體研磨豆?jié){機,其特征在于:所述第一水平研磨面與所述第二水平研磨面的分離以及加壓研磨通過所述下電源改變所述電磁鐵的磁及來控制。
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