[實用新型]一種彩圖板預處理生產(chǎn)線有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720805407.0 | 申請日: | 2017-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN207327790U | 公開(公告)日: | 2018-05-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉炳炎 | 申請(專利權)人: | 珠海拾比佰新型材料有限公司 |
| 主分類號: | B32B37/00 | 分類號: | B32B37/00;B32B37/06;B32B38/00;B05C1/08;B05C13/02;B05C9/04;B32B38/06 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 俞梁清 |
| 地址: | 519000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 彩圖 預處理 生產(chǎn)線 | ||
本實用新型公開了一種彩圖板預處理生產(chǎn)線,包括由前至后依次布置的前處理裝置、鋼帶涂覆裝置、熱覆膜裝置、壓花裝置、保護膜貼膜裝置和收卷處理裝置,各裝置分別通過銜接結構連接,所述前處理裝置包括鋼帶沿水平橫向依次通過的縫合機、包膠機和端角修剪機,所述端角修剪機將鋼帶兩個端角的直角修建成圓角。本實用新型提供了一種彩圖板的預處理生產(chǎn)線,能依次自動實現(xiàn)彩圖板的縫合、包膠、修圓角、表面涂覆、熱附魔、壓花、貼保護膜和收卷,從而實現(xiàn)了彩圖板的全自動化生產(chǎn)。本實用新型可應用于彩圖板生產(chǎn)。
技術領域
本實用新型涉及彩圖板生產(chǎn)領域,特別是涉及一種彩圖板預處理生產(chǎn)線。
背景技術
彩圖板的原料是鋼帶,鋼帶需要經(jīng)過一系列的處理過程才能最終成為合適的成品,這些處理過程即包括了預處理,比如是涂覆、覆膜等。目前國內(nèi)外對彩圖板制作的報道較少,對彩圖板生產(chǎn)加工的設備研發(fā)力量薄弱,因此需要能夠滿足用戶連續(xù)生產(chǎn)的生產(chǎn)線。
實用新型內(nèi)容
為了解決上述問題,本實用新型的目的在于提供一種彩圖板預處理生產(chǎn)線,能夠自動對彩圖板進行連續(xù)的生產(chǎn)加工。
本實用新型所采用的技術方案是:
一種彩圖板預處理生產(chǎn)線,包括由前至后依次布置的前處理裝置、鋼帶涂覆裝置、熱覆膜裝置、壓花裝置、保護膜貼膜裝置和收卷處理裝置,各裝置分別通過銜接結構連接,所述前處理裝置包括鋼帶沿水平橫向依次通過的縫合機、包膠機和端角修剪機,所述端角修剪機將鋼帶兩個端角的直角修建成圓角。
作為本實用新型的進一步改進,所述包膠機包括包膠輥組,所述包膠輥組在包膠驅(qū)動部件的驅(qū)動下可沿水平縱向來回平移,所述端角修剪機包括兩組修圓刀組部件,兩組修圓刀組部件在修剪驅(qū)動部件的驅(qū)動下可沿水平縱向?qū)ο蛞苿踊虮诚蚍珠_。
作為本實用新型的進一步改進,所述縫合機具有在前方的接帶輥以及后方的送帶輥,鋼帶從接帶輥向送帶輥方向平移輸送,接帶輥與送帶輥之間設有縫合部件,所述縫合部件包括在豎向可對向運動的上縫合模和下縫合模,上縫合模的下表面設有向下突出的縫合凸臺,縫合凸臺在水平方向上呈M*N矩形陣列布置,其中M與N均為大于3 的整數(shù),下縫合模相對于每個縫合凸臺的位置設有與縫合凸臺凹凸配合的縫合凹槽。
作為本實用新型的進一步改進,所述鋼帶涂覆裝置包括安裝機架,所述安裝機架上設有沿水平布置并且對向旋轉(zhuǎn)的正面涂覆輥和導向輥,正面涂覆輥與導向輥之間形成鋼帶穿行的縫隙,所述安裝機架上還設有與正面涂覆輥對向旋轉(zhuǎn)的正面上料輥,所述正面上料輥的外周抵接正面涂覆輥的外周,正面涂覆輥位于正面上料輥與導向輥之間,所述正面涂覆輥和正面上料輥均橫向滑動連接在安裝機架上從而能夠靠近或遠離導向輥。
作為本實用新型的進一步改進,鋼帶涂覆裝置還包括與安裝機架分隔的背面涂覆部件,鋼帶的正面先經(jīng)正面涂覆輥涂覆后再由背面涂覆部件涂覆背面,所述背面涂覆部件包括框架,所述框架內(nèi)沿水平方向安裝有對向旋轉(zhuǎn)的背面涂覆輥和背面上料輥,所述背面上料輥的外周抵接背面涂覆輥的外周。
作為本實用新型的進一步改進,所述熱覆膜裝置包括彩圖板的鋼帶由前至后依次穿行的熱覆膜機、冷卻單元、擠水單元和烘干機,所述冷卻單元包括水冷單元,所述擠水單元包括擠水機架以及設置在擠水機架上沿水平布置的上擠水輥和下擠水輥,上擠水輥與下擠水輥對向旋轉(zhuǎn),鋼帶從上擠水輥和下擠水輥之間穿過,所述下擠水輥定位在擠水機架上,上擠水輥通過升降部件沿豎向滑動連接在擠水機架上。
作為本實用新型的進一步改進,所述冷卻單元包括由前至后依次布置的第一水冷單元、風冷單元和第二水冷單元,第一水冷單元與第二水冷單元構成所述的水冷單元。
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