[實(shí)用新型]一種豆?jié){機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720777843.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207755130U | 公開(公告)日: | 2018-08-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王旭寧;謝榮華;劉爽 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 九陽(yáng)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | A47J43/044 | 分類號(hào): | A47J43/044;A47J43/07 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 250117 山*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 刀片 擾流盤 擾流板 機(jī)頭 豆?jié){機(jī) 過(guò)料孔 杯體 本實(shí)用新型 正對(duì) 間隔設(shè)置 徑向設(shè)置 擾流裝置 回彈 擾流 反射 清洗 阻擋 延伸 | ||
1.一種豆?jié){機(jī),包括杯體和安裝在所述杯體上的機(jī)頭,所述機(jī)頭的下部設(shè)置有刀片;其特征在于,所述豆?jié){機(jī)還包括具有過(guò)料孔的擾流盤和在所述機(jī)頭的周向上間隔設(shè)置的多個(gè)擾流板,所述擾流盤橫置于所述刀片的下方、且所述過(guò)料孔正對(duì)所述刀片,多個(gè)所述擾流板設(shè)置在所述機(jī)頭的下部、并向所述杯體底部延伸而連接在所述擾流盤上;
其中,任一所述擾流板沿所述機(jī)頭的徑向設(shè)置、且在所述機(jī)頭的徑向上位于所述刀片的外側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的豆?jié){機(jī),其特征在于,所述刀片的下端與所述擾流盤的上端之間的距離H2為0~30mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的豆?jié){機(jī),其特征在于,
所述擾流盤的下端與所述杯體的內(nèi)底面之間的距離H1為10~50mm;或
所述過(guò)料孔的直徑大于所述刀片的旋轉(zhuǎn)直徑0~20mm;或
所述擾流板的內(nèi)端與所述刀片的外端之間的間隙L1為0.5~10mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的豆?jié){機(jī),其特征在于,所述機(jī)頭的下端面上設(shè)置有向上凹陷的凹腔,所述刀片位于所述凹腔的正下方。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的豆?jié){機(jī),其特征在于,所述凹腔的內(nèi)表面為曲面,多個(gè)所述擾流板的上端連接在所述凹腔的外端面上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的豆?jié){機(jī),其特征在于,
所述過(guò)料孔的孔沿傾斜向上延伸形成有第一導(dǎo)流環(huán)邊;或
所述擾流盤的外邊沿傾斜向下延伸形成有第二導(dǎo)流環(huán)邊。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的豆?jié){機(jī),其特征在于,所述擾流板上具有阻擋面,所述阻擋面上設(shè)置有貫通的第一擾流孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的豆?jié){機(jī),其特征在于,所述擾流板上的第一擾流孔面積與所述阻擋面的面積之比為0.1~0.8。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的豆?jié){機(jī),其特征在于,所述擾流盤上設(shè)置有第二擾流孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的豆?jié){機(jī),其特征在于,
所述刀片的刃口朝上,所述過(guò)料孔為進(jìn)料孔;或
所述刀片的刃口朝下,所述過(guò)料孔為出料孔。
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